一种光刻机静电消除装置的制作方法

1.本实用新型涉及光刻机静电处理的技术领域，特别是涉及一种光刻机静电消除装置。


背景技术：

2.光刻机(mask aligner)又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫mask alignment system。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
3.光刻工艺过程中，显影剂等化学溶剂或者清洗时的纯水与旋转的晶圆表面发生摩擦时，会产生静电放电现象，使得电荷积聚并遗留在半导体晶圆的表面，后续湿法工艺中引起局部强烈的电化学反应，在晶圆表面造成损伤，从而导致成品率降低或者可靠性风险,而现有的静电消除装置大多在使用的过程中，不便于对其进行安装，导致存在一定的局限性，同时消除静电的效率低下，安全性低。


技术实现要素：

4.针对现有技术中的缺陷，本实用新型提供的一种光刻机静电消除装置，可快速的将整个静电消除装置安装在光刻机上，快速的将静电从光刻机中导出，进而保护光刻机，实用性高。
5.为了解决上述技术问题，本实用新型提出以下技术方案：
6.一种光刻机静电消除装置，包括固定机构，所述固定机构设有两个，两个固定机构上均安装有立柱，所述立柱之间活动设置有连杆，所述连杆的下方设置有静电消除板，所述静电消除板的底面安装有多根等离子棒；两个所述固定机构之间可转动的设置有静电消除棒。
7.进一步的，所述固定机构包括框架，所述框架的一端固定安装有定位板，框架的另一端活动安装有活动板，所述活动板与定位板之间均安装有防滑垫，所述防滑垫采用防静电材质。
8.进一步的，所述固定机构的侧面转动设置有旋转螺母，所述框架的内部转动安装有螺纹杆，所述螺纹杆与所述旋转螺母固接，所述活动板的顶端螺纹安装在所述螺纹杆上。
9.进一步的，所述定位板设有两块，两块定位板之间固定安装有定位杆，所述静电消除棒可活动的套设在所述定位杆上，所述定位杆的端部安装有限位块，限位块设置在所述静电消除棒内部。
10.进一步的，所述立柱中贯穿设置有活动杆，所述活动杆可活动的设置在立柱中，所述活动杆与所述连杆固接。
11.进一步的，所述连杆上安装有安装块，所述安装块的底端与所述静电消除板固接。
12.由上述技术方案可知，本实用新型的有益效果：
13.本实用新型通过设置固定机构，进而可通过固定机构将整个静电消除安装在光刻
机上，便于对其进行快速安装，实用性高；通过在立柱之间活动设置有连杆，进而便于根据实际需求，调节固定机构之间的间距，进而可将固定机构安装在不同尺寸的光刻机上，实用性高；通过设置静电消除棒，可在一定程度上对光刻机的晶圆表面进行静电消除，通过设置多根等离子棒，可进一步的对晶圆表面进行静电消除，实用性高。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。
15.图1为本实用新型的整体结构示意图；
16.图2为本实用新型中固定机构的剖视图；
17.图3为本实用新型中定位杆与静电消除棒局部剖视图。
18.附图标记：
[0019]1‑
固定机构，101
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框架，102
‑
旋转螺母，103
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螺纹杆，104
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活动板，105
‑
定位板，106
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防滑垫，2
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立柱，3
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活动杆，4
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连杆，5
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安装块，6
‑
静电消除板，7
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等离子棒，8
‑
定位杆，801
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限位块，9
‑
静电消除棒。
具体实施方式
[0020]
下面将结合附图对本实用新型技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
[0021]
参阅图1
‑
3：一种光刻机静电消除装置，包括固定机构1，所述固定机构1设有两个，两个固定机构1上均安装有立柱2，所述立柱2之间活动设置有连杆4，所述连杆4的下方设置有静电消除板6，所述静电消除板6的底面安装有多根等离子棒7；两个所述固定机构1之间可转动的设置有静电消除棒9。
[0022]
在实际使用中，通过设置固定机构1，进而可通过固定机构1将整个静电消除安装在光刻机上，便于对其进行快速安装，实用性高；通过在立柱2之间活动设置有连杆4，进而便于根据实际需求，调节固定机构1之间的间距，进而可将固定机构1安装在不同尺寸的光刻机上，实用性高；通过设置静电消除棒9，可在一定程度上对光刻机的晶圆表面进行静电消除，通过设置多根等离子棒7，可进一步的对晶圆表面进行静电消除，实用性高。
[0023]
本实施例中，所述固定机构1包括框架101，所述框架101的一端固定安装有定位板105，框架101的另一端活动安装有活动板104，所述活动板104与定位板105之间均安装有防滑垫106，所述防滑垫106采用防静电材质，可通过活动板104的活动，进而可使得固定机构1固定在光刻机上，实用性高，通过防滑垫106的设置，可放置固定后的固定机构1滑落，同时可在一定程度上防止固定后的固定机构1产生静电，实用性高。
[0024]
本实施例中，所述固定机构1的侧面转动设置有旋转螺母102，所述框架101的内部转动安装有螺纹杆103，所述螺纹杆103与所述旋转螺母102固接，所述活动板104的顶端螺纹安装在所述螺纹杆103上，可通过拧动旋转螺母102，进而带动螺纹杆103旋转，通过螺纹杆103的旋转，可带动活动板104进行丝杆运动，实用性高。
[0025]
本实施例中，所述定位板105设有两块，两块定位板105之间固定安装有定位杆8，所述静电消除棒9可活动的套设在所述定位杆8上，所述定位杆8的端部安装有限位块801，限位块801设置在所述静电消除棒9内部，可便于在两块固定机构1进行调节的过程中，静电消除棒9可在定位杆8上跟随移动，实用性高。
[0026]
本实施例中，所述立柱2中贯穿设置有活动杆3，所述活动杆3可活动的设置在立柱2中，所述活动杆3与所述连杆4固接，可便于在两块固定机构1进行调节的过程中，活动杆3在立柱2中移动，进而适应固定机构1的调节。
[0027]
本实施例中，所述连杆4上安装有安装块5，所述安装块5的底端与所述静电消除板6固接。
[0028]
工作原理：工作人员将固定机构1放置在光刻机上，通过拧动旋转螺母102，进而可使得活动板104移动，通过活动板104的移动可将整个固定机构1放置在光刻机上，进而完成对整个静电消除装置的安装，安装后，静电消除棒9首先对光刻机的晶圆表面进行静电消除，消除一定静电后，通过在静电消除板6上设有多根等离子棒7，可进一步的对光刻机的晶圆表面产生的静电进行消除，进而最大程度上对静电进行消除，保护光刻机的晶圆表面，实用性高。
[0029]
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求和说明书的范围当中。