一种反应室温度测量系统、方法、装置及温度调节方法与流程

1.本技术涉及温度测量技术领域，具体而言，涉及一种反应室温度测量系统、方法、装置及温度调节方法。


背景技术：

2.许多生产工艺均涉及高温真空或高温高压的反应环境，这些环境一般由特定的反应室提供，这些工艺条件一般要求较高，因而，需要对反应室内温度进行测量。
3.现有技术中，反应室一般采用单红外高温计进行测温，但只能获取某一点的温度信息，而反应室内常常存在热场不均的情况，单点测温无法保证反应室内热场满足工艺条件，如外延设备中热场不均会使得外延生长产品的缺陷增多；也有设置多点测温的方式进行反应室内热场测量，但多点测温需要在反应室中增设多个检测位置，一般通过开设检测孔位进行检测，但增加检测孔数量会破坏反应室的结构，更难使得反应室内热场均匀，尤其是在外延设备的反应室中，会引起热场不均而导致外延产品包含有各种各样的缺陷。
4.针对上述问题，目前尚未有有效的技术解决方案。


技术实现要素：

5.本技术实施例的目的在于提供一种反应室温度测量系统、方法、装置及温度调节方法，以实现反应室内的单个测温器的区域化测温。
6.第一方面，本技术实施例提供了一种反应室温度测量系统，用于测量反应室内高温工况下的温度分布情况，所述系统包括：反应室，其外壁设有一测温口；测温器，用于测量反应室内温度情况，与所述测温口摆动连接；摆动驱动器，用于驱动所述测温器在所述测温口内摆动；控制器，用于控制摆动驱动器运行，以使测温器在测温口中摆动而获取反应室内不同位置的温度信息，并用于根据不同位置的温度信息绘制热场曲线。
7.本技术实施例的一种反应室温度测量系统，用于测量反应室内不同位置的温度信息建立热场曲线，利用热场曲线反映反应室内的温度分布情况，作为反应室内温度工况分析、调节提供数据基础，能从热场曲线上的异常温度点快速寻找并确定反应室内出现异常温度的区域位置；本技术实施例的一种反应室温度测量系统仅需在反应室外壁设置一测温口安装测温器便可进行反应室内的区域化测温，无需在反应室上开设多个温度检测点，避免反应室开设过多测温孔导致反应室中热量散失引起的热场不均的问题，确保反应室能正常使用。
8.所述的一种反应室温度测量系统，其中，所述摆动驱动器包括：纵向驱动机构，用于驱动所述测温器在测温口内纵向摆动；横向驱动机构，用于驱动所述测温器在测温口内横向摆动。
9.所述的一种反应室温度测量系统，其中，所述纵向驱动机构与测温器连接，以驱动
测温器纵向摆动，所述横向驱动机构与纵向驱动机构连接，以驱动纵向驱动机构摆动。
10.所述的一种反应室温度测量系统，其中，所述纵向驱动机构通过伸缩杆与所述测温器连接。
11.所述的一种反应室温度测量系统，其中，所述测温口为锥形收缩孔。
12.第二方面，本技术实施例还提供了一种反应室温度测量方法，应用于第一方面所述的一种反应室温度测量系统，用于测量反应室内高温工况下的温度分布情况，所述方法包括以下步骤：控制摆动驱动器运行，以使测温器在测温口中摆动而测取反应室内不同位置的温度信息；获取测温器在摆动时测取的温度信息，并获取对应测温器的位姿信息或时间信息；根据温度信息和位姿信息绘制热场曲线，或根据温度信息和时间信息绘制热场曲线。
13.本技术实施例的一种反应室温度测量方法，基于单个安装在测温口中的测温器摆动即可实现反应室内不同位置温度信息的获取，并能基于该温度信息绘制出热场曲线，为反应室内温度工况分析、调节提供数据基础，该方法无需在反应室上开设多个温度检测点，具有测量准确、便捷的特点，并能避免多点测温引起的热场不均的问题。
14.所述的一种反应室温度测量方法，其中，控制摆动驱动器运行，以使测温器在测温口中摆动而测取反应室内不同位置的温度信息的步骤包括：获取反应室内待测区域信息；根据待测区域信息制定测温路线；根据所述测温路线控制摆动驱动器运行，以使测温器在测温口中摆动，以测取反应室内不同位置的温度信息。
15.第三方面，本技术实施例还提供了一种反应室温度测量装置，应用于第一方面所述的一种反应室温度测量系统，所述装置用于测量反应室内高温工况下的温度分布情况，所述装置包括：驱动模块，用于控制摆动驱动器运行，以使测温器在测温口中摆动而测取反应室内不同位置的温度信息；采集模块，用于获取测温器在摆动时测取的温度信息，并获取对应测温器的位姿信息或时间信息；绘制模块，用于根据温度信息和位姿信息绘制热场曲线，或用于根据温度信息和时间信息绘制热场曲线。
16.本技术实施例的一种反应室温度测量装置，基于驱动模块，通过控制摆动驱动器运行来驱动单个安装在测温口中的测温器摆动即可实现反应室内不同位置温度信息的获取，并能基于采集模块获取的温度信息，利用绘制模块绘制出热场曲线，为反应室内温度工况分析、调节提供数据基础，该方法无需在反应室上开设多个温度检测点，具有测量准确、便捷的特点，并能避免多点测温引起的热场不均的问题。
17.第四方面，本技术实施例还提供了一种反应室温度调节方法，应用于第一方面所述的一种反应室温度测量系统，用于调节反应室内温度，所述反应室通过多个线圈感应加
热，所述方法包括：获取反应室的热场曲线，根据热场曲线构建关于反应室的温度分布图；分析温度分布图，获取存在异常温度的温度异常区域；调节温度异常区域中线圈的线圈参数信息以消除异常温度。
18.本技术实施例的一种反应室温度调节方法，根据热场曲线构建温度分布图，能根据温度分布图快速获知反应室内存在温度异常区域，然后可针对性地对应调整该温度异常区域中供热的线圈，而将该温度异常区域温度调整为正常状态，即与周围区域温度一致，从而使得整个反应室内温度测量区域温度分布均匀。
19.所述的一种反应室温度调节方法，其中，所述线圈参数信息包括线圈间距、相邻线圈距离、线圈匝数中的至少一种。
20.由上可知，本技术实施例提供了一种反应室温度测量系统、方法、装置及温度调节方法，其中，系统仅需在反应室外壁设置一测温口安装测温器便可进行反应室内的区域化测温，无需在反应室上开设多个温度检测点，避免反应室开设过多测温孔导致反应室中热量散失引起的热场不均的问题，确保反应室能正常使用，并能基于温度信息绘制热场曲线，为反应室内温度工况分析、调节提供数据基础。
附图说明
21.图1为本技术实施例提供的一种反应室温度测量系统的结构示意图。
22.图2为图1中a处放大图。
23.图3为摆动驱动器的结构示意图。
24.图4为本技术实施例提供的一种反应室温度测量方法的流程图。
25.图5为本技术实施例提供的一种反应室温度测量装置的结构示意图。
26.图6为本技术实施例提供的一种反应室温度调节方法的流程图。
27.附图标记：1、反应室；2、测温器；3、摆动驱动器；4、纵向驱动机构；5、横向驱动机构；6、伸缩杆；11、测温口；12、红外专用玻璃板；41、第一伺服电机；42、第一滚珠丝杆副；45、限位开关；51、第二伺服电机；52、第二滚珠丝杆副；71、驱动模块；72、采集模块；73、绘制模块。
具体实施方式
28.下面将结合本技术实施例中附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
29.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。同时，在本技术的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
30.第一方面，请参照图1
‑
3，图1
‑
3是本技术一些实施例中的一种反应室温度测量系
统，用于测量高温环境下反应室1内温度分布情况，系统包括：反应室1，其外壁设有一测温口11；测温器2，用于测量反应室1内温度情况，与测温口11摆动连接；摆动驱动器3，用于驱动测温器2在测温口11内摆动；控制器（图示未画出），用于控制摆动驱动器3运行，以使测温器在测温口11中摆动而获取反应室1内不同位置的温度信息，并用于根据不同位置的温度信息绘制热场曲线。
31.本技术实施例的一种反应室温度测量系统，用于测量反应室1内不同位置的温度信息以建立热场曲线，利用热场曲线反映反应室1内的温度分布情况，作为反应室1内温度工况分析、调节提供数据基础。
32.本技术实施例的一种反应室温度测量系统在获取热场曲线的过程中，仅需通过控制器控制摆动驱动器3运动便可使测温器2在测温口11中摆动以改变测温器2的测温点，从而获取关于一条连续的测取路线的温度信息，控制器以该测取路线的温度信息绘制热场曲线，使得热场曲线上的点与反应室1内区域具有对应关系，即能从热场曲线上的异常温度点快速寻找并确定反应室1内出现异常温度的区域位置；另外，根据使用需求，通过控制器拟定不同的测温路线可使得测温器2能测取不同区域的温度信息，即能根据反应室1内特定的加热区域进行测温区域的调节，以准确获取测温区域的热场曲线，节省测温用时。
33.具体地，测温区域根据工艺需求设置为特定形状，如圆形、椭圆形、梯形、矩形、平行四边形等，根据测温器2测温点大小（测温点一般拟定为具有一定半径的圆形区域）绘制覆盖对应特定形状的测温路线再进行摆动测温，从而获得对应测温区域的温度信息以绘制可反映温度分布情况的热场曲线，提供精确的温度数据供给外部设备分析和/或加热设备进行热场调整。
34.此外，本技术实施例的一种反应室温度测量系统仅需在反应室1外壁设置一测温口11安装测温器2便可进行反应室1内的区域化测温，无需在反应室1上开设多个温度检测点，避免反应室1开设过多测温孔而导致反应室1中热量散失引起的热场不均的问题，确保反应室1能正常使用。
35.本技术实施例的一种反应室温度测量系统适用于设有外保温壁的高温反应室1使用，尤其适用于cvd外延设备的反应室1，cvd外延设备一般设置有一个反应室1作为外延生长腔室，其通过朝反应室1导入反应气体，使反应气体在高温的反应室1内反应沉积在衬底中进行外延生长，这类设备对保温能力和热场均匀度需求较高，若反应室1内温度分布不均匀，会导致外延生长产生缺陷，因此需要精确获取反应室1内的温度分布情况；本技术实施例的一种反应室温度测量系统仅在反应室1加设一个测温口11便可精确地进行外延设备反应室1内温度分布测量，可有效避因加装测温仪器而对反应室1造成结构损伤引起的反应室1内热场不均的问题。
36.具体地，测温器2在摆动驱动器3驱动作用下摆动获取的不同位置的温度信息，测温器2为红外温度仪，优选为红外温度测量探头，温度信息为测温器2测量端射出线与反应室1内交接点位置的温度；本技术实施例的一种反应室温度测量系统通过摆动测温器2而改变测温器2测量端射出线在反应室1中的入射角度，以改变测温器2射出线与反应室1内交接点的位置，进而获取不同位置的温度信息。
37.更具体地，外延设备的反应室1的外壁一般为保温层，保温层材质一般为石英材
质，其内设有内部加热器和用于外延生长的衬底，因此，测温口11设于石英材质的保温层中，使得测温器2能获取内部加热器的温度信息或反应室1内衬底的温度信息。
38.在一些优选的实施方式中，摆动驱动器3包括：纵向驱动机构4，用于驱动测温器2在测温口11内纵向摆动；横向驱动机构5，用于驱动测温器2在测温口11内横向摆动。
39.具体地，控制器控制纵向驱动机构4运行可使测温器2在测温口11内进行纵向摆动，控制器控制横向驱动机构5运行可使测温器2在测温口11内进行横向摆动，因此，控制器能通过控制摆动驱动器3运行使测温器2测取特定区域内所有位置的温度信息。
40.在一些优选的实施方式中，纵向驱动机构4与测温器2连接，以驱动测温器2纵向摆动，横向驱动机构5与纵向驱动机构4连接，以驱动纵向驱动机构4摆动。
41.具体地，横向驱动机构5驱动纵向驱动机构4进行横向位移以使得纵向驱动机构4带动测温器2进行横向位移。
42.在一些优选的实施方式中，纵向驱动机构4通过伸缩杆6与测温器2连接。
43.具体地，横向驱动机构5和纵向驱动机构4为线性位移驱动，因此，设置伸缩杆6连接纵向驱动机构4和测温器2可避免测温器2摆动过程中卡死；其中，伸缩杆6为套筒式伸缩杆，其一端与测温器2尾端固定连接，另一端与纵向驱动机构4万向连接。
44.具体地，横向驱动机构5和纵向驱动机构4为电动线性驱动机构，如气缸、电动滑轨、电动丝杆副等。
45.更具体地，如图1所示，纵向驱动机构4包括第一伺服电机41、由第一伺服电机41驱动的第一滚珠丝杆副42，第一滚珠丝杆副42的丝杆螺母通过万向节或万向轴承与伸缩杆6一端铰接；控制器控制第一伺服电机41转动即可驱动第一滚珠丝杆副42的丝杆螺母纵向移动，进而使得伸缩杆6纵向摆动，伸缩杆6另一端与测温器2外端固定连接，伸缩杆6纵向摆动带动测温器2在测温口11内纵向摆动。
46.更具体地，如图3所示，横向驱动机构5包括第二伺服电机51、由第二伺服电机51驱动第二滚珠丝杆副52，第一滚珠丝杆副42的丝杆转动连接有滑动支架，第二滚珠丝杆副52的丝杆螺母与滑动支架固定连接；控制器控制第二伺服电机51转动即可驱动第二滚珠丝杆副52的丝杆螺母横向移动，进而使得纵向驱动机构4横向移动，从而使得伸缩杆6进行横向摆动，伸缩杆6横向摆动带动测温器2在测温口11内横向摆动。
47.更具体地，控制器根据测温路线制定横向驱动机构5和纵向驱动机构4的运行模式，即制定控制指令控制第一伺服电机41和第二伺服电机51转动进而使得测温器2能沿着测温路线进行测温，如一测温区域为矩形，根据测温点大小制定一连续s型的路线覆盖矩形区域作为测温路线，控制器基于该测温路线先控制纵向驱动机构4运行使得测温器2沿测温路线起点从矩形区域一端纵向移动至另一端，然后控制横向驱动机构5运行使测温器2沿测温路线横向移动一小段距离，再控制纵向驱动机构4运行使测温器2反向纵向移动，如此类推以使测温器2沿连续s型的测温路线测取整个矩形区域的温度信息。
48.更具体地，为了防止测温器2摆动过度而碰撞测温口11引起损伤，横向驱动机构5和纵向驱动机构4上均设有限位开关45，控制器控制第一伺服电机41或第二伺服电机51运行时，若第一滚珠丝杆副42或第二滚珠丝杆副52上的丝杆螺母触碰到限位开关45即表明测温器2达到摆动范围边缘，控制器控制对应的伺服电机停止继续朝同一方向旋转，避免测温
器2摆动超出摆动范围。
49.更具体地，第一滚珠丝杆副42上设有两个限位开关45，均设于其丝杆螺母两侧，从而限定了测温器2的纵向摆动范围；第二滚珠丝杆副52上设有两个限位开关45，均设于其丝杆螺母两侧，从而限定了测温器2的横向摆动范围。
50.在一些优选的实施方式中，测温口11为锥形收缩孔。
51.具体地，测温口11为锥形收缩孔，且其小口端位于反应室1外端，并与测温器2密封连接，使得测温器2可在测温口11中摆动并保证反应室1外壁的保温效果。
52.在一些优选的实施方式中，测温器2通过万向轴承与反应室1万向连接，并利用万向轴承密封测温口11的小口端，使得测温器2可在测温口11中顺利进行摆动以完成特定测温区域的温度测量。
53.在一些优选的实施方式中，测温口11的锥度基于反应室1测温区域设定，测温口11的锥度限定了测温器2的摆动范围，因此，需根据反应室1内需要测量的温度区域设计测温口11的锥度。
54.在一些优选的实施方式中，测温口11为圆锥形收缩孔或棱锥形收缩孔。
55.在一些优选的实施方式中，测温口11内还设有红外专用玻璃板12以密封其大口端，红外专用玻璃板12不会影响测温器2的测量效果，并能进一步密封测温口11，减少测温口11泄漏热量的情况，从而确保反应室1内热场正常。
56.在一些优选的实施方式中，反应室1为卧式外延设备的反应室1，其呈中空圆柱状，其内设置有水平设置的加热区域，测温口11为径向开设在圆柱状的反应室1中，使得测温器2能顺利测取加热区域的温度信息。
57.第二方面，请参照图4，图4是本技术一些实施例中提供的一种反应室温度测量方法，应用于上述的一种反应室温度测量系统，用于测量反应室内高温工况下的温度分布情况，方法包括以下步骤：控制摆动驱动器3运行，以使测温器2在测温口11中摆动而测取反应室1内不同位置的温度信息；获取测温器2在摆动时测取的温度信息，并获取对应测温器2的位姿信息或时间信息；根据温度信息和位姿信息绘制热场曲线，或根据温度信息和时间信息绘制热场曲线。
58.本技术实施例的一种反应室温度测量方法，基于单个安装在测温口11中的测温器2摆动即可实现反应室1内不同位置温度信息的获取，并能基于该温度信息绘制出热场曲线，为反应室1内温度工况分析、调节提供数据基础，该方法无需在反应室1上开设多个温度检测点，具有测量准确、便捷的特点，并能避免多点测温引起的热场不均的问题。
59.具体地，时间信息为对应测温器2测取某一位置温度信息时的时间，基于时间信息和温度信息绘制的热场曲线，反映了温度测取时间与温度信息的关系，因此，可基于热场曲线上的温度点获取对应的测取时间，结合测温器2的摆动情况能反推反应室1内该温度点对应的位置。
60.具体地，测温器2的位姿信息包括其在测温口11中的朝向，分析测温器2的朝向可获知对应于反应室1内的测取位置，因此，基于温度信息和位姿信息绘制热场曲线，反映了
温度测取位置与温度信息的关系，因此，可基于热场曲线上的温度点获取对应测温器2的位姿进而获取反应室1内该温度点对应的位置。
61.具体地，热场曲线为关于时间信息或测温器2位姿信息的温度变化曲线。
62.更具体地，测温器2的位姿信息通过分析摆动驱动器3的摆动位姿获取。
63.更具体地，测温器2的位姿信息通过控制器分析第一滚珠丝杆副42和第二滚珠丝杆副52上丝杆螺母位置进行获取。
64.因此，本技术实施例一种反应室温度测量方法，可基于温度信息和位姿信息绘制热场曲线，或基于温度信息和时间信息绘制热场曲线，两种绘制方式均可进行位置溯源，从而能根据热场曲线中的温度点获取反应室1对应产生该温度点的位置，为反应室1内温度工况分析、调节提供数据基础。
65.在一些优选的实施方式中，控制摆动驱动器3运行，以使测温器2在测温口11中摆动而测取反应室1内不同位置的温度信息的步骤包括：获取反应室1待测区域信息；根据待测区域信息制定测温路线；根据测温路线控制摆动驱动器3运行，以使测温器2在测温口11中摆动，以测取反应1室内不同位置的温度信息。
66.具体地，测温器2的测量位置为沿着测温路线移动。
67.具体地，待测区域信息为需要测量温度的区域范围，如反应室1内一平面的矩形区域需要测量热场分布情况，则该矩形区域为待测区域信息。
68.更具体地，根据待测区域信息的形状、大小等设计连续的测温路线，进而基于该测温路线制定摆动驱动器3的运行指令，如待测区域信息为矩形区域，可将测温路线设定为具有一定宽度的能覆盖整个矩形区域的连续s型路线，使得测温器2能沿着连续s型路线测量整个矩形区域温度信息以绘制对应的热场曲线；又如待测区域信息为圆形区域，可将测温路线设定为具有一定宽度的能覆盖整个圆形区的螺旋形路线，使得测温器2能沿着螺旋形路线测量整个圆形区域温度信息以制定对应的热场曲线。
69.第三方面，请参照图5，图5是本技术一些实施例中提供的一种反应室温度测量装置，应用于上述的一种反应室温度测量系统，装置用于测量反应室内高温工况下的温度分布情况，装置包括：驱动模块71，用于控制摆动驱动器3运行，以使测温器2在测温口11中摆动而测取反应室1内不同位置的温度信息；采集模块72，用于获取测温器2在摆动时测取的温度信息，并获取对应测温器2的位姿信息或时间信息；绘制模块73，用于根据温度信息和位姿信息绘制热场曲线，或用于根据温度信息和时间信息绘制热场曲线。
70.本技术实施例的一种反应室温度测量装置，基于驱动模块71，通过控制摆动驱动器3运行来驱动单个安装在测温口11中的测温器2摆动即可实现反应室1内不同位置温度信息的获取，并能基于采集模块72获取的温度信息，利用绘制模块73绘制出热场曲线，为反应室1内温度工况分析、调节提供数据基础，该方法无需在反应室1上开设多个温度检测点，具有测量准确、便捷的特点，并能避免多点测温引起的热场不均的问题。
71.第四方面，请参照图6，图6是本技术一些实施例中提供的一种反应室温度调节方法，应用于上述的一种反应室温度测量系统，用于调节反应室1内温度，反应室1通过多个线圈感应加热，方法包括：获取反应室1的热场曲线，根据热场曲线构建关于反应室1的温度分布图；分析温度分布图，获取存在异常温度的温度异常区域；调节温度异常区域中线圈的线圈参数信息以消除异常温度。
72.本技术实施例的一种反应室温度调节方法，根据热场曲线构建温度分布图，能根据温度分布图快速获知反应室1内存在温度异常区域（温度过高或温度过低的区域），然后可针对性地对应调整该温度异常区域中供热的线圈，而将该温度异常区域温度调整为正常状态，即与周围区域温度一致，从而使得整个反应室1内温度测量区域温度分布均匀。
73.具体地，热场曲线为关于时间信息或测温器2位姿信息的温度变化曲线，因此，可基于时间信息或测温器2位姿信息获取对应热场曲线上的温度点对应的反应室1内的测取位置，结合反应室1内的温度测量区域，可绘制出关于温度测量区域的温度分布图，温度分布图能直观地反映出反应室1内的温度分布情况。
74.在一些优选的实施方式中，线圈参数信息包括线圈间距、相邻线圈距离、线圈匝数中的至少一种。
75.具体地，获取温度异常区域后，需调节线圈参数信息进行对应区域位置的温度调节，其中，线圈间距为该线圈上卷绕铜线之间的间距，该间距越小则加热温度越高，即将线圈间距调小可将对应区域位置的温度升高；相邻线圈距离为一线圈与另一线圈的轴心线距离，相邻线圈距离越小则加热温度越高，即将相邻线圈距离调小可将对应区域位置的温度升高；线圈匝数越多则加热温度越高，即将增多线圈匝数可将对应区域位置的温度升高。
76.在一些优选的实施方式中，线圈参数信息的调节优先级依次为线圈间距、线圈距离、线圈匝数，如存在温度异常区域时，先调节线圈间距以调节温度异常区域，若线圈间距调节至极限值时，温度异常区域还未调节为正常状态，则开始调节相邻线圈距离。
77.综上，本技术实施例提供了一种反应室温度测量系统、方法、装置及温度调节方法，其中，系统仅需在反应室1外壁设置一测温口11安装测温器2便可进行反应室1内的区域化测温，无需在反应室1上开设多个温度检测点，避免反应室1开设过多测温孔导致反应室1中热量散失引起的热场不均的问题，确保反应室1能正常使用，并能基于温度信息绘制热场曲线，为反应室1内温度工况分析、调节提供数据基础。
78.在本技术所提供的实施例中，应该理解到，所揭露装置和方法，可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，又例如，多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些通信接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。
79.另外，作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
80.再者，在本技术各个实施例中的各功能模块可以集成在一起形成一个独立的部分，也可以是各个模块单独存在，也可以两个或两个以上模块集成形成一个独立的部分。
81.在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。
82.以上所述仅为本技术的实施例而已，并不用于限制本技术的保护范围，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。