一种真空等离子清洗设备的制作方法

1.本实用新型属于清洗设备技术领域，具体涉及一种真空等离子清洗设备。


背景技术：

2.等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新清洗技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果；等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。
3.目前等离子清洗机常用于半导体领域，可对引线框架、pcb板、晶圆、陶瓷等材料进行清洗，但目前的等离子清洗机在取片时大多是采用人工取片，即人工将待清洗的物料板放置在清洗腔内，清洗完成后再由人工从清洗腔内取出，这样不仅降低了清洗的效率，且增加了大量人工成本，经济效益低下。


技术实现要素：

4.本实用新型所要解决的技术问题是针对上述缺陷，提供一种真空等离子清洗设备，能够快速将物料板从清洗腔内取出，提高了清洗的效率。
5.本实用新型解决其技术问题采用的技术方案如下：
6.一种真空等离子清洗设备，包括罩壳和设置于罩壳内的等离子清洗箱；所述罩壳内还设有位于等离子清洗箱侧面的升降装置和预清理装置；所述升降装置包括第一驱动器和定位板，第一驱动器的数量设为两个，两个第一驱动器分别设置于等离子清洗箱的相对两侧，两个第一驱动器的输出端上均设有定位柱，定位板的两端均设有连接定位柱的定位孔，该定位板处于等离子箱体的正上方；所述预清理装置包括第二驱动器和风刀，风刀安装在第二驱动器的输出端。
7.进一步地，所述罩壳的表面上设有门板。
8.进一步地，所述罩壳的顶部设有排风机。
9.进一步地，所述罩壳内还设有抽气泵和气源筒，抽气泵的一端与气源筒相连通，另一端与等离子清洗箱相连通。
10.进一步地，所述预清理装置的数量设为两个，两个预清理装置的之间设有高度差。
11.进一步地，所述等离子清洗箱内设有用于容置物料板的清洗腔体，清洗腔体的外侧设有安装空间，安装空间内设有相连的等离子枪头和等离子发射器，等离子枪头处于清洗腔体内，等离子发射器与抽气泵相连。
12.本实用新型的有益效果是：
13.(1)本实用新型将待清洗的物料板固定在定位板上，然后再将定位板放置在第一驱动器上，通过第一驱动器将物料板移入等离子清洗箱内，清洗完毕后再由第一驱动器将其从等离子清洗箱内取出，结构设计合理，操作简便，能够快速将物料板从清洗腔内取出，提高了清洗的效率。
14.(2)本实用新型通过定位柱插入定位孔内实现定位板与第一驱动器的固定，这样
在移动过程中定位板不会脱落，以便于进行清洗的工作。
15.(3)本实用新型通过风刀可以对物料板进行预清理，以提高清洗效果。
16.(4)本实用新型通过第二驱动器可以对风刀的位置进行调整，已达到合适的位置。
17.(5)本实用新型中两个预清理装置之间形成高度差，即一高一低设置，这样可以提高对物料板的清理效果。
附图说明
18.通过下面结合附图的详细描述，本实用新型前述的和其他的目的、特征和优点将变得显而易见。
19.图1为本实用新型的结构示意图；
20.图2为图1中省略罩壳后的结构示意图；
21.图3为图2另一视角的结构示意图；
22.图4为本实用新型中第一驱动器的结构示意图；
23.图5为本实用新型中定位板的结构示意图；
24.其中：罩壳1，等离子清洗箱2、清洗腔体21，抽气泵3，气源筒4，门板5，排风机6，物料板7，等离子枪头8，等离子发射器9，升降装置10，第一驱动器101，定位板102，定位柱103，定位孔104，承载板105，预清理装置11，第二驱动器111，风刀112。
具体实施方式
25.下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
26.如图1至图5所示的一种真空等离子清洗设备，包括罩壳1和设置于罩壳1内的等离子清洗箱2、抽气泵3和气源筒4。罩壳1的表面上设有门板5，罩壳1的顶部设有排风机6，通过排风机6可以进行排气，保证罩壳1内的气体的流通。本实施例中的等离子清洗箱2内设有用于容置物料板7的清洗腔体21，清洗腔体21的外侧设有安装空间22，安装空间22内设有相连的等离子枪头8和等离子发射器9，等离子枪头的数量根据需要进行设置。等离子枪头8处于清洗腔体21内，等离子发射器9与抽气泵3的一端通过管道相连，抽气泵3的另一端通过管道与气源筒4相连通，通过抽气泵3将气源筒4内的气体传输至等离子发射器9内，然后在通过等离子枪头8喷射出去，对物料板7进行清洗。
27.罩壳1内还设有位于等离子清洗箱2侧面的升降装置10和预清理装置11。具体地，升降装置10包括第一驱动器101和定位板102，第一驱动器101的数量设为两个，两个第一驱动器101分别设置于等离子清洗箱2的左右两侧，两个第一驱动器101的输出端上均设有定位柱103，定位板102的两端均设有连接定位柱103的定位孔104，这样不仅能够保证定位板102与第一驱动器101固定连接，又方便定位板102的放置和取走，操作极为方便，另外，定位柱103上还设有承载板105，该承载板105用于支撑定位板102，避免其晃动，从而保证其稳定性。该定位板102处于等离子箱体2中清洗腔体21的正上方，这样便于将物料板移入清洗腔体内，通过第一驱动器的下降，使得定位板上的物料板进入清洗腔体内，清洗完毕后，通过第一驱动器的上升实现物料板的快速取出，减少了人工成本，提高了清洗效率。要说明的是，实际操作中，可以准备多个定位板，多个定位板均与待清洗的物料板预先固定连接好，然后再依次地放置在第一驱动器上，等清洗完毕后在进行拆解。这样能够提高工作效率。
28.预清理装置11的数量设为两个，两个预清理装置11分别安装在等离子清洗箱2的前后两侧，两个预清理装置11的之间设有高度差，如一高一低设置，这样可以提高清洗效果。具体地，预清理装置11包括第二驱动器111和风刀112，风刀112安装在第二驱动器的输出端，风刀112的风口朝向物料板7。本实施例中的第一驱动器和第二驱动器均为气缸。
29.要说明的是，本实施例中的等离子枪头、等离子发射器、抽气泵、升降装置10和预清理装置11均是由外部的plc控制器自动控制的。
30.以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型做任何形式上的限制，凡是依据本实用新型的技术实质上对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化，均落入本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种真空等离子清洗设备，其特征在于：包括罩壳和设置于罩壳内的等离子清洗箱；所述罩壳内还设有位于等离子清洗箱侧面的升降装置和预清理装置；所述升降装置包括第一驱动器和定位板，第一驱动器的数量设为两个，两个第一驱动器分别设置于等离子清洗箱的相对两侧，两个第一驱动器的输出端上均设有定位柱，定位板的两端均设有连接定位柱的定位孔，该定位板处于等离子箱体的正上方；所述预清理装置包括第二驱动器和风刀，风刀安装在第二驱动器的输出端。2.根据权利要求1所述的一种真空等离子清洗设备，其特征在于：所述罩壳的表面上设有门板。3.根据权利要求1所述的一种真空等离子清洗设备，其特征在于：所述罩壳的顶部设有排风机。4.根据权利要求1所述的一种真空等离子清洗设备，其特征在于：所述罩壳内还设有抽气泵和气源筒，抽气泵的一端与气源筒相连通，另一端与等离子清洗箱相连通。5.根据权利要求1所述的一种真空等离子清洗设备，其特征在于：所述预清理装置的数量设为两个，两个预清理装置的之间设有高度差。6.根据权利要求4所述的一种真空等离子清洗设备，其特征在于：所述等离子清洗箱内设有用于容置物料板的清洗腔体，清洗腔体的外侧设有安装空间，安装空间内设有相连的等离子枪头和等离子发射器，等离子枪头处于清洗腔体内，等离子发射器与抽气泵相连。

技术总结
本实用新型涉及一种真空等离子清洗设备，包括罩壳和设置于罩壳内的等离子清洗箱；所述罩壳内还设有位于等离子清洗箱侧面的升降装置和预清理装置；所述升降装置包括第一驱动器和定位板，第一驱动器的数量设为两个，两个第一驱动器分别设置于等离子清洗箱的相对两侧，两个第一驱动器的输出端上均设有定位柱，定位板的两端均设有连接定位柱的定位孔，该定位板处于等离子箱体的正上方；所述预清理装置包括第二驱动器和风刀，风刀安装在第二驱动器的输出端。本实用新型能够快速将物料板从清洗腔内取出，提高了清洗的效率。提高了清洗的效率。提高了清洗的效率。


技术研发人员：陈代国
受保护的技术使用者：湖南钦泽环保科技有限公司
技术研发日：2021.07.09
技术公布日：2021/11/21