一种显示面板的制作方法

1.本技术涉及柔性显示技术领域，尤其涉及一种显示面板。


背景技术：

2.柔性显示面板具有广视角、超高对比度、响应快速等优点，但是其在高亮画面下功耗较高，发热严重。柔性显示面板高亮画面下功耗高的主要原因为偏光片(pol)的透过率较低。解决这个问题可以通过采用去偏光片(pol less)技术，即去除偏光片，提升透过率。但是去除偏光片之后发现在太阳光照射下显示面板辉度下降。
3.因此，现有技术存在缺陷，急需解决。


技术实现要素：

4.本技术提供一种显示面板，能够解决显示装置再太阳光照射下辉度下降的技术问题。
5.为解决上述问题，本技术提供的技术方案如下：
6.一种显示面板，包括：
7.面板主体；
8.彩膜层，设置于所述面板主体的一侧，所述彩膜层包括若干色阻单元，若干色阻单元至少包括绿色色阻；
9.盖板，设置于所述彩膜层远离所述面板主体的一侧；以及
10.透光阻隔层，设置于所述彩膜层与所述盖板之间，所述透光阻隔层至少覆盖所述绿色色阻。
11.在其中一些实施例中，所述若干色阻单元还包括红色色阻与蓝色色阻，所述透光阻隔层还覆盖红色色阻与蓝色色阻。
12.在其中一些实施例中，所述透光阻隔层为高分子薄膜。
13.在其中一些实施例中，所述透光阻隔层为聚酰亚胺、聚硅氧烷、聚四氟乙烯、聚乙烯、四氟乙烯共聚物中的任意一种形成的单膜层。
14.在其中一些实施例中，所述透光阻隔层是由至少两种所述单层膜贴合形成的多层复合膜。
15.在其中一些实施例中，所述绿色色阻被多层复合膜覆盖，所述红色色阻与蓝色色阻分别被单层膜覆盖。
16.在其中一些实施例中，所述彩膜层不包括黑色矩阵，所述绿色色阻的相对两端分别被红色色阻或者蓝色色阻部分覆盖。
17.在其中一些实施例中，所述彩膜层包括黑色矩阵层，所述绿色色阻的相对两端被所述黑色矩阵层覆盖。
18.在其中一些实施例中，所述面板主体包括阵列基板、发光层以及像素定义层，所述像素定义层位于所述阵列基板的表面，所述像素定义层包括若干开口，所述发光层包括若
干发光单元，所述发光单元形成于所述开口。
19.在其中一些实施例中，还包括光学粘贴胶层以及位于所述彩膜层表面的平坦层，所述盖板通过所述光学粘贴胶层设置于所述平坦层上，所述透光阻隔层位于所述光学粘贴胶层与所述平坦层之间。
20.本技术的有益效果为：本技术提供的显示面板，在所述彩膜层与盖板之间设置有透光阻隔层，透光阻隔层可使得彩膜层的绿色色阻包括的g金属络合物颜料与光学粘贴胶层和盖板中的硅酸盐材料脱离接触，从而阻止g金属络合物颜料与盖板中的硅酸盐材料发生配位反应，从而可以防止彩膜层在紫色光的透过率下降，从而在太阳光的照射下显示面板的辉度不会受到影响。
附图说明
21.下面结合附图，通过对本技术的具体实施方式详细描述，将使本技术的技术方案及其它有益效果显而易见。
22.图1为本技术第一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
23.图2为本技术第二实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
24.图3为本技术第三实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
25.图4为本技术第四实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
26.附图标记说明
[0027]1‑
基底层、2
‑
面板主体、3
‑
像素定义层、20
‑
阵列基板
[0028]4‑
发光层、5
‑
封装层、6
‑
触控功能层
[0029]7‑
彩膜层、8
‑
平坦层、9
‑
透光阻隔层、10
‑
光学粘贴胶层
[0030]
11
‑
盖板、71
‑
第一色阻单元、72
‑
第二色阻单元、73
‑
第三色阻单元
[0031]
40
‑
发光单元、41
‑
第一发光单元、42
‑
第二发光单元
[0032]
43
‑
第三发光单元、60
‑
触控图形、74
‑
黑色矩阵
[0033]
91、92、93
‑
单层膜
具体实施方式
[0034]
下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0035]
在本技术的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0036]
本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。
[0037]
以下请结合具体实施例对本技术的所述显示面板进行详细描述。
[0038]
请参阅图1，图1为本技术第一实施例提供的一种显示面板100的结构示意图。所述显示面板100包括：面板主体2；彩膜层7，设置于所述面板主体2的一侧；盖板11，设置于所述彩膜层7的一侧；以及透光阻隔层9，设置于所述彩膜层7与盖板11之间，用于隔开所述盖板11与所述彩膜层7。
[0039]
本技术提供的显示面板100，在所述彩膜层7与盖板11之间设置有透光阻隔层9，如此可使得彩膜层7的绿色色阻包括的g金属络合物颜料与盖板11中的硅酸盐材料脱离接触，从而在太阳光的照射下，能阻止g金属络合物颜料与光学粘贴胶层10和盖板11中的硅酸盐材料发生配位反应，从而可以防止彩膜层7在紫色光的透过率下降，从而在太阳光的照射下显示面板100的辉度不会受到影响。
[0040]
本方案的所述显示面板100优选地是柔性oled显示面板。本实施例以柔性oled显示面板为例来说明。
[0041]
在本实施方式中，所述面板主体2至少包括阵列基板20、发光层4以及像素定义层3及触控功能层6，所述像素定义层3位于所述阵列基板20的表面，所述像素定义层包括若干开口，所述发光层4包括若干发光单元40，所述发光单元40形成于所述开口。
[0042]
具体地，所述显示面板100沿着出光方向依次包括：基底层1、阵列基板20、像素定义层3、发光层4、封装层5、触控功能层6、彩膜层7、平坦层8、透光阻隔层9、光学粘贴胶层10和盖板11。
[0043]
所述基底层1为阵列基板20的基底，用于保护所述阵列基板20。所述基底层1的材料可为聚酰亚胺。
[0044]
所述阵列基板20的衬底的材质选自以下其中之一：聚对苯二甲酸类塑料、聚碳酸酯pc、聚甲基丙烯酸甲酯pmma、玻璃等透明材质。
[0045]
所述像素定义层3可以采用透光材料制作形成，也可以采用不透光材料制作形成，若像素定义层3采用不透光材料制作，则像素定义层3可以复用为黑矩阵，这样无需通过专门的构图工艺在显示基板上制作黑矩阵，能够简化显示基板的结构和制作流程。在本方案中，所述像素定义层3采用不透光材料制作形成。
[0046]
所述发光层4是在阵列基板20上利用镀膜工艺形成。本方案中，所述发光层4中设计第一发光单元41、第二发光单元和第三发光单元。第一发光单元41、第二发光单元42和第三发光单元43为红色、绿色、蓝色中的一种或多种，以满足显示满足设计的需求。本方案中，是先在面板主体2上形成像素定义层3，然后在像素定义层3上光刻出凹槽，在凹槽内填充像素材料，形成所述发光层4。
[0047]
所述封装层5位于所述发光层4的表面。本方案中，在形成发光层4后，利用薄膜封装技术tfe，对发光层4进行封装。在一种实施例中，可以单独采用无机材料或有机材料对电致发光层4进行封装，以在所述发光层4的表面形成薄膜封装层5。在另一种实施例中，可以采用无机材料层和有机材料层交叉的方式对发光层4进行封装。
[0048]
所述触控功能层6位于所述封装层5的表面。所述触控功能层6包括多个触控图形60，所述触控功能层6可以这样形成。具体地，首先，在所述封装层5上沉积一层金属层，在金
属层上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对所述光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于所述触控图形60所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图案以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的金属层，剥离剩余的光刻胶，形成所述触控图形60。当然，触控图形60可以包括多个层结构，每一层的触控图形60均可通过上述方式形成。或者可以采用封装触控一体化(dot，direct on
‑
cell touch)技术，在封装层5上形成触控金属层，触控金属层可以为自容式单层金属层，也可以为互容式单层金属层。
[0049]
在本方案中，所述彩膜层7位于所述触控功能层6的表面。所述彩膜层7包括若干色阻单元以及形成于相邻色阻单元之间的黑色矩阵74。若干色阻单元包括第一色阻单元71、第二色阻单元72与第三色阻单元73。第一色阻单元71、第二色阻单元72与第三色阻单元73分别为红色色阻、绿色色阻以及蓝色色阻中的一种。更优选地，使所述绿色色阻的相对两端被所述黑色矩阵层覆盖。如此，是增加绿色色阻与盖板之间的距离，进一步的减小盖板包括的硅酸盐材料与彩膜层的绿色色阻g材料中存在的金属络合物颜料在阳光的照射下、及水气的作用下发生反应的可能性。
[0050]
在本方案中，与每个所述发光单元40对应的所述色阻单元70在所述面板主体2上的投影大于与之相对的所述发光单元40在所述面板主体2上的投影，如此设置，能防止漏光。
[0051]
在本方案中，使用彩膜层7(color filter，cf)替代偏光片(pol
‑
less技术)，不仅能将功能层的厚度从100μm降低至5μm，而且能够将出光率从42％提高至60％。而且，本方案的彩膜层7只包括三种颜色的颜色，无需黑色矩阵，能简化制作工艺。
[0052]
所述平坦层8位于所述彩膜层7的表面。所述平坦层8的材料可为绝缘材料，平坦层8的材料可包括sio2、sinx以及al2o3中的一种或多种。平坦层8还可以使用oc(over coat)材料制作，但不限于此。
[0053]
所述透光阻隔层9形成于所述平坦层8的表面。所述透光阻隔层9为高分子材料形成的高分子薄膜。所述透光阻隔层9可以为聚酰亚胺、聚硅氧烷、聚四氟乙烯、聚乙烯、四氟乙烯共聚物中的任意一种形成的单膜层。所述透光阻隔层9既能防止水气与彩膜层7接触，又具有柔性，能实现弯折。
[0054]
所述透光阻隔层9可使得彩膜层7的绿色色阻包括的g金属络合物颜料与光学粘贴胶层10和盖板11中的硅酸盐材料脱离接触，即使有光照射，由于透光阻隔层9的存在，其能阻止彩膜层7的绿色色阻包括的g金属络合物颜料与光学粘贴胶层10和盖板11中的硅酸盐材料发生配位反应，从而可以防止彩膜层7在紫色光的透过率下降，从而在太阳光的照射下显示面板100的辉度不会受到影响。
[0055]
所述盖板11通过所述光学粘贴胶层10设置于所述平坦层8上，所述透光阻隔层9位于所述光学粘贴胶层10与所述平坦层8之间。所述盖板11起到了隔绝水氧的作用，防止环境中的水汽和氧气对所述显示面板100造成侵蚀，从而延长显示面板100的使用寿命。
[0056]
请参阅图2，图2为本技术第二实施例提供的一种显示面板200，第二实施例提供的显示面板200与第一实施例提供的显示面板100的结构基本相同，其不同在于：在本方案中，所述彩膜层7不包括黑色矩阵层，所述绿色色阻的相对两端分别被红色色阻或者蓝色色阻
部分覆盖。
[0057]
在本方案中，可以先在封装层5表面形成第一色阻单元71，再在封装层5表面形成第二色阻单元72，第一色阻单元71与第二色阻单元72相间隔形成间隙，第三色阻单元73形成于所述间隙。其中，第一色阻单元71与第二色阻单元72中至少一种是绿色色阻。第三色阻单元73的截面形状为t型形状。也即第三色阻单元73包括竖直部730及与竖直部730相连的水平部732，所述水平部732的两端分别覆盖与之相邻的第一色阻单元71与第二色阻单元72，覆盖的位置为挡光部，且能拉大绿色光阻与盖板的距离。
[0058]
请参阅图3，图3为本技术第三实施例提供的一种显示面板300，第三实施例提供的显示面板300与第二实施例提供的显示面板200的结构基本相同，其不同在于：所述透光阻隔层9是由至少两种所述不同材料的单层膜91、92、93贴合形成的多层复合膜。在本实施例中示意的是由三种不同材料分别形成的单膜层再通过高分子加工设备多层共挤制备出的多层复合膜，隔水性更佳。当然，在其它实施方式中，所述透光阻隔层9还可以是由相同材料的单层膜91、92、93共挤制备形成。
[0059]
请参阅图4，图4为本技术第四实施例提供的一种显示面板400，第四实施例提供的显示面板400与第二实施例提供的显示面板200的结构基本相同，其不同在于：定义所述第二色阻单元72为绿色色阻，所述绿色色阻与所述盖板11之间被由多层复合膜形成的透光阻隔层9隔绝，所述红色色阻与蓝色色阻分别被单层膜92隔绝。
[0060]
综上所述，虽然本技术已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本技术，本领域的普通技术人员，在不脱离本技术的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本技术的保护范围以权利要求界定的范围为准。