一种真空蒸镀系统的制作方法

1.本实用新型涉及蒸镀技术领域，具体的说，是涉及一种真空蒸镀系统。


背景技术：

2.真空蒸镀是指在真空条件下，原子受热蒸发后层积在需要镀膜的材料上面，使得该材料表面形成一层原子薄膜的工艺。
3.现有真空蒸镀工艺均采用大型的真空蒸镀设备来实现，该类大型的设备不利于小型试验，而为了使产品获得较好的镀膜效果，确定镀膜膜层厚度前免不了多次试验、调试，因此需要做小尺寸的样品来验证。而在验证阶段，若使用传统的大型镀膜设备为小尺寸的样品镀膜，无疑给企业带来不必要的成本浪费，造成额外的经济损失；另外，大型的真空蒸镀设备，由于其空间巨大，并不利于在小件样品上进行原子的层积，导致难以在其表面获得均匀的膜层。
4.以上问题，值得解决。


技术实现要素：

5.为了克服现有技术的问题，本实用新型提供一种真空蒸镀系统。
6.本实用新型技术方案如下所述：
7.一种真空蒸镀系统，包括真空腔体和位于所述真空腔体内的若干蒸镀罐体，其特征在于，所述蒸镀罐体的底部设有用于加热蒸发源的加热机构，所述蒸发源置于所述加热机构上方，所述蒸镀罐体的两侧设有开口，所述蒸镀罐体内部设有冷却辊，薄膜经两侧的开口穿过所述蒸镀罐体，且从所述冷却辊的下方经过，相邻两个所述蒸镀罐体之间设有过辊，所述过辊与两侧的所述冷却辊呈倒v字型。
8.根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述蒸镀罐体包括扣合连接的上罐体和下罐体，且所述蒸镀罐体呈胶囊状。
9.优选的，所述开口的宽度范围为5～10cm，所述开口的高度范围为1～3cm。
10.根据上述方案的本实用新型，其特征在于，两个所述开口位于同一垂直高度上。
11.进一步的，所述冷却辊的垂直高度低于两侧的所述开口的垂直高度。
12.进一步的，所述冷却辊与两侧的所述开口位于同一高度。
13.根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述蒸镀罐体的底部内壁面设有若干凹痕，所述凹痕内置所述加热机构，所述蒸发源置于若干所述凹痕上方。
14.优选的，所述凹痕呈u字型。
15.根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述蒸镀罐体的侧壁设有用于固定所述冷却辊的圆形孔洞。
16.优选的，所述圆形孔洞的直径范围为20～40cm。
17.根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述加热机构为加热丝或加热棒。
18.根据上述方案的本实用新型，其有益效果在于：
19.本实用新型采用小型的蒸镀罐体，其蒸镀腔体较小，适用于小件样品，原子蒸汽能够均匀地层积在该薄膜上，从而提高了蒸镀的效率，并减少了验证成本；本实用新型通过若干小型蒸镀罐体的组合，将样品分段镀膜，以获得不同的薄膜性质；本实用新型通过相邻蒸镀罐体之间的过辊，将薄膜形成呈v字型，利于提高薄膜的张力，减少薄膜表面的褶皱，优化蒸镀效果。
附图说明
20.图1为本实用新型的结构示意图；
21.图2为图1中a部分的放大图；
22.图3为本实用新型单个蒸镀罐体的结构示意图；
23.图4为图3蒸镀罐体另一视角的结构示意图；
24.图5为本实用新型中蒸镀罐体打开状态的结构示意图；
25.图6为本实用新型另一实施例中蒸镀罐体的结构示意图。
26.在图中，1、蒸镀罐体；11、开口；12、圆形孔洞；13、凹痕；101、上罐体；102、下罐体；
27.2、蒸发源；3、薄膜；4、加热机构；5、冷却辊；6、过辊。
具体实施方式
28.为了更好地理解本实用新型的目的、技术方案以及技术效果，以下结合附图和实施例对本实用新型进行进一步的讲解说明。同时声明，以下所描述的实施例仅用于解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
29.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
30.术语“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”、等指示的方位或位置为基于附图所示的方位或位置，仅是为了便于描述，不能理解为对本技术方案的限制。
[0031]“若干”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体地限定。
[0032]
如图1～图4所示，一种真空蒸镀系统，包括真空腔体（图中未示出，下同）和位于真空腔体内的若干蒸镀罐体1，蒸镀罐体1的底部设有用于加热蒸发源2的加热机构4，蒸发源2置于加热机构4上方，蒸镀罐体1的两侧设有开口11，蒸镀罐体1内部设有冷却辊5，薄膜3经两侧的开口11穿过蒸镀罐体1，且从冷却辊5的下方经过，相邻两个蒸镀罐体1之间设有过辊6，过辊6与两侧的冷却辊5呈倒v字型。
[0033]
本实用新型的工作原理为：加热机构给蒸发源2加热，从而提供原子蒸汽，层积在其上方的薄膜表面，完成镀膜。
[0034]
本实用新型采用小型的蒸镀罐体，其蒸镀腔体较小，适用于小件样品，原子蒸汽能够均匀地层积在该薄膜上，从而提高了蒸镀的效率，同时减轻了验证成本；本实用新型通过若干小型蒸镀罐体的组合，将样品分段镀膜，以获得不同的薄膜性质；本实用新型通过相邻蒸镀罐体之间的过辊，将薄膜形成呈v字型，利于提高薄膜的张力，减少薄膜表面的褶皱，提升蒸镀效果。
[0035]
如图5所示，在本实用新型中，蒸镀罐体1包括扣合连接的上罐体101和下罐体102，
且蒸镀罐体1呈胶囊状。蒸镀罐体胶囊状的结构设计，便于从真空腔体中取放蒸镀罐体，另一方面，该结构设计尽可能提升蒸镀罐体内部蒸镀空间的同时，减少其在真空腔体内的空间占用率。蒸镀罐体上、下罐体可拆卸，便于蒸发源、薄膜的设置，也便于进行罐体的清洗、更换。
[0036]
蒸镀罐体1的开口11的宽度范围为5～10cm，高度范围为1～3cm。开口的大小可以根据薄膜3的宽度需求而设定。在一个优选方案中，在开口处设计能够开合的拉门，从而实现随时调节开口的大小。
[0037]
如图2所示，蒸镀罐体1的底部内壁面设有若干凹痕13，凹痕13内置加热机构4，在本实施例中，加热机构4为加热丝或加热棒。蒸发源2置于若干凹痕13上方，凹痕13呈u字型，使得槽口具有一定的深度，不仅能够牢牢地固定加热机构，还能多个加热机构间隔开。蒸镀罐体底部的凹痕既用于固定加热机构，也用于放置蒸发源，加热机构与凹痕的配合使用，使得蒸镀罐体的底部发热均匀，从而使得蒸发源整体受热均匀。
[0038]
蒸镀罐体1的侧壁设有用于固定冷却辊5的圆形孔洞12，圆形孔洞12的直径范围为20～40cm。在本实施例中，圆形孔洞的直径为30cm，圆形孔洞的大小与冷却辊的尺寸相配，以牢固地固定冷却辊为主。
[0039]
在本实施例中，蒸镀罐体1两侧的开口11位于同一垂直高度。进一步的，冷却辊5的垂直高度低于两侧的开口的垂直高度，使得薄膜在蒸镀罐体1内呈v字型，进一步提高薄膜的张力，减少薄膜表面的褶皱，优化蒸镀效果。
[0040]
在其他实施例中，蒸镀罐体1两侧的开口11高度也可以不同，调整两侧开口的垂直高度，以使得薄膜3穿过两侧开口后，在蒸镀罐体1内呈现不同的倾斜度。
[0041]
如图6所示，本实用新型提供另一种方案的一种真空蒸镀系统，其结构同上述方案，区别在于：蒸镀罐体1中的冷却辊5与两侧的开口11位于同一高度，从而使得薄膜笔直地穿过蒸镀罐体1。
[0042]
综上所述，本实用新型采用小型的蒸镀罐体，大大减小了蒸镀腔体的体积，使其相比于传统的镀膜罐体更适用于小件样品，同时能够使得原子蒸汽均匀地层积在薄膜上，本实用新型相比与传统的真空镀膜设备，既提高了镀膜效率，也减轻了成本压力。另一方面，本实用新型不仅令薄膜在穿过不同蒸镀罐体时呈v字型，还可以将蒸镀罐体内的薄膜以v字型结构设置，大大地提高薄膜的张力，减少薄膜表面的褶皱，进一步提升本实用新型真空蒸镀系统的镀膜效果。
[0043]
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0044]
以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。