本发明涉及经颅磁治疗设备，具体为一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪。
背景技术：
1、脑功能障碍是轻度的脑萎缩的症状，表现为头晕，忘却，记忆力减退，神态呆钝，反应迟缓，行走不稳，手足震颤，患者可表现出精神受刺激，情绪不稳定；瘫痪是神经系统常见的症状之一，是指肌肉活动能力的降低或丧失，通称风瘫。临床上将瘫痪分为功能性瘫痪和器质性瘫痪两类。国内在脑功能障碍及各种瘫痪治疗方面的仪器有很多种，最常用的治疗仪器主要都是依据以下三种治疗原理来实施治疗的：①通过头部佩戴的治疗帽，用经颅磁刺激产生感应电流刺激脑组织以达到治疗效果；②通过粘贴于耳后乳突穴位的电极片，用仿真生物电流(低频电刺激)刺激小脑顶核以达到治疗效果；③通过粘贴于患者肌肉神经系统运动神经点的电极片，用仿真生物电(中频电刺激)刺激患者肌肉神经，起到改善运动功能的作用。
2、经检索发现现有技术中如公开号cn219071840u经颅磁电疗仪，包括主体和底座，主体上设有操作面板；主体侧面设有用于连接磁疗帽的接线口；主体转动设置在底座上；主体上设有收纳腔，收纳腔内铰接设有支架，支架上设有用于夹持导线的夹子；收纳腔的内部设有用于放置磁疗帽的放置腔；主体上滑动设有连接杆，底座上设有用于与连接杆插接配合的连接孔。该实用新型中，用于夹持导线支架铰接设置在收纳腔中，同时可以痛过铰接的方式进出收纳腔，在使用时，可以拉出收纳腔进行对导线的支撑夹持，非使用状态时，可以整个收纳在收纳腔中，避免占据空间，同时也降低了被意外磕碰的风险，使整个装置的移动与使用更加方便。
3、上述头戴式经颅磁电疗仪可以拉出收纳腔进行对导线的支撑夹持，非使用状态时，可以整个收纳在收纳腔中，避免占据空间，但上述头戴式经颅磁电疗仪对其位置进行移动时需要对其进行搬运，同时设备底部未设置限位机构，容易受外力触碰导致设备发生位移，因此提出一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，以解决上述背景技术中提出的头戴式经颅磁电疗仪对其位置进行移动时需要对其进行搬运，同时设备底部未设置限位机构，容易受外力触碰导致设备发生位移的问题。
2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，包括头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体，所述头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体位于底座上方，所述底座底部中心位置开设有安装槽，且安装槽内部设置有吸盘，所述吸盘一侧连接有进气管，且进气管末端贯穿至底座外侧，所述吸盘另一侧通过抽气管与底座顶部设置的抽气机相连接，所述底座底部对称开设有开口槽，且开口槽内部设置有升降滑轮机构，所述升降滑轮机构包括转杆，且转杆一端与开口槽外侧设置的电机相连接，所述转杆外侧设置有两组齿轮，且齿轮与齿条相啮合，两组所述齿条底部通过安装板相连接，且安装板下方安装有滑轮，所述头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体上方设置有控制面板，且控制面板位于防尘罩内侧，所述头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体中的主体上开设有与防尘罩相匹配的回形限位凹槽，所述防尘罩两侧对称开设有限位孔，且主体两侧安装有与限位孔相匹配的限位插杆。
3、优选的，所述进气管末端内部安装有气塞，且气塞通过连接线与底座顶部设置的连接环相连接。
4、通过上述技术方案：便于对进气管一端进行闭合。
5、优选的，所述开口槽内部对称设置有限位杆，且限位杆与安装板滑动连接。
6、通过上述技术方案：对安装板移动方向进行限定。
7、优选的，所述电机输出端通过防自转机构与转杆相连接。
8、通过上述技术方案：避免转杆发生自转。
9、优选的，所述电机以及抽气机与头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体上方设置的控制面板相连接。
10、通过上述技术方案：便于对设备进行控制。
11、优选的，所述限位插杆包括插杆，且插杆一端安装有抓握头，所述插杆外侧设置有驱位板，且驱位板通过若干组弹簧与l型安装板相连接，所述l型安装板上开设有与插杆相匹配的移动通槽。
12、通过上述技术方案：便于对防尘罩进行拆装。
13、优选的，所述l型安装板一端与主体相连接。
14、通过上述技术方案：便于l型安装板的安装。
15、优选的，所述抓握头位于l型安装板外侧，且抓握头外侧依次包覆有吸湿层以及防滑层。
16、通过上述技术方案：提高抓握头防滑性。
17、优选的，所述吸湿层为弹性高、吸湿透气性好的聚氨酯材料制成，且吸湿层与抓握头外侧粘黏固定，所述防滑层由乳胶材质制成，且防滑层表面开设有若干组排液孔，所述排液孔之间设置有防滑凸点。
18、通过上述技术方案：提高抓握头防滑性。
19、与现有技术相比，本发明的有益效果是：该头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，
20、(1)本装置为解决头戴式经颅磁电疗仪对其位置进行移动时需要对其进行搬运，同时设备底部未设置限位机构，容易受外力触碰导致设备发生位移的问题，通过在底座底部中心位置开设有安装槽，且安装槽内部设置有吸盘，吸盘一侧连接有进气管，且进气管末端贯穿至底座外侧，吸盘另一侧通过抽气管与底座顶部设置的抽气机相连接，底座底部对称开设有开口槽，且开口槽内部设置有升降滑轮机构，通过设置吸盘以及抽气机，抽气机将吸盘内部气体抽出，使吸盘与地面吸附，从而对底座以及设备位置进行一定程度的限定，通过设置升降滑轮机构当需要移动设备时，可使升降滑轮机构中的滑轮移动至开口槽外侧，即可通过滑轮推动设备进行移动。
21、(2)本装置为解决头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体在不使用的情况下控制面板表面容易附着灰尘，灰尘进入控制面板内部容易对电控零件造成损伤的问题，通过在控制面板外侧设置防尘罩，主体上开设有与防尘罩相匹配的回形限位凹槽，防尘罩两侧对称开设有限位孔，且主体两侧安装有与限位孔相匹配的限位插杆在控制面板不使用的情况下将防尘罩一端插入回形限位凹槽内部，限位插杆可以对防尘罩位置进行进一步限定，从而使控制面板位于防尘罩内侧，对外界灰尘进行隔绝。
22、(3)本装置为解决手握抓握头时容易发生打滑现象的问题，通过在抓握头外侧依次包覆有吸湿层以及防滑层，从而提高抓握头防滑性。
1.一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，包括头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体(1)，其特征在于：所述头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体(1)位于底座(2)上方，所述底座(2)底部中心位置开设有安装槽(3)，且安装槽(3)内部设置有吸盘(301)，所述吸盘(301)一侧连接有进气管(302)，且进气管(302)末端贯穿至底座(2)外侧，所述吸盘(301)另一侧通过抽气管(303)与底座(2)顶部设置的抽气机(304)相连接，所述底座(2)底部对称开设有开口槽，且开口槽内部设置有升降滑轮机构(4)，所述升降滑轮机构(4)包括转杆(401)，且转杆(401)一端与开口槽外侧设置的电机(402)相连接，所述转杆(401)外侧设置有两组齿轮(403)，且齿轮(403)与齿条(404)相啮合，两组所述齿条(404)底部通过安装板(405)相连接，且安装板(405)下方安装有滑轮(406)，所述头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体(1)上方设置有控制面板(5)，且控制面板(5)位于防尘罩(6)内侧，所述头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体(1)中的主体(101)上开设有与防尘罩(6)相匹配的回形限位凹槽(7)，所述防尘罩(6)两侧对称开设有限位孔，且主体(101)两侧安装有与限位孔相匹配的限位插杆(8)。
2.根据权利要求1所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述进气管(302)末端内部安装有气塞(3021)，且气塞(3021)通过连接线与底座(2)顶部设置的连接环相连接。
3.根据权利要求1所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述开口槽内部对称设置有限位杆(407)，且限位杆(407)与安装板(405)滑动连接。
4.根据权利要求1所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述电机(402)输出端通过防自转机构与转杆(401)相连接。
5.根据权利要求1所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述电机(402)以及抽气机(304)与头戴式经颅磁脑反射电疗仪本体(1)上方设置的控制面板(5)相连接。
6.根据权利要求1所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述限位插杆(8)包括插杆(801)，且插杆(801)一端安装有抓握头(802)，所述插杆(801)外侧设置有驱位板(803)，且驱位板(803)通过若干组弹簧(804)与l型安装板(805)相连接，所述l型安装板(805)上开设有与插杆(801)相匹配的移动通槽。
7.根据权利要求6所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述l型安装板(805)一端与主体(101)相连接。
8.根据权利要求6所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述抓握头(802)位于l型安装板(805)外侧，且抓握头(802)外侧依次包覆有吸湿层(8021)以及防滑层(8022)。
9.根据权利要求8所述的一种头戴式位置可调的经颅磁脑反射电疗仪，其特征在于：所述吸湿层(8021)为弹性高、吸湿透气性好的聚氨酯材料制成，且吸湿层(8021)与抓握头(802)外侧粘黏固定，所述防滑层(8022)由乳胶材质制成，且防滑层(8022)表面开设有若干组排液孔(8023)，所述排液孔(8023)之间设置有防滑凸点(8024)。
