本技术涉及窑炉支撑窑具的，尤其涉及一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件。
背景技术：
1、陶瓷制品丰富了人们的日常生活。目前，陶瓷制品在生产过程中，主要采用窑炉进行烧制，辊道窑是最为常见的一种烧制陶瓷制品的设备，被广泛使用。在辊道窑中，陶瓷制品的胚件通过托板放置在辊道窑的棍棒上进行移动烧制，这些托板就是支撑窑具，棚板就是一种常见的支撑窑具。
2、在陶瓷盘的烧结过程中，支撑陶瓷盘的棚板缺乏一定的调节性，不能适用于不同直径的陶瓷盘，导致使用受到限制。
技术实现思路
1、本实用新型旨在解决现有技术的不足，而提供一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件。
2、本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：
3、一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件，包括从上到下依次组装的若干个陶瓷盘支撑棚板，陶瓷盘支撑棚板包括中心圆盘，中心圆盘外边缘周周均布有三个辐射支撑棚板，相邻的两个陶瓷盘支撑棚板对应的辐射支撑棚板之间安装有可调节支撑柱，辐射支撑棚板上表面两侧开设有调节滑槽，调节滑槽靠近辐射支撑棚板的外端面，可调节支撑柱包括中心立柱，中心立柱底部设有n形插板，n形插板的两个侧板分别安装在对应的调节滑槽内，中心立柱顶部设有u形插板，辐射支撑棚板底部插装在u形插板内部。
4、u形插板侧壁与中心立柱侧壁之间设有斜向加强肋板。
5、本实用新型的有益效果是：本实用新型可以根据烧制的陶瓷盘的直径调整可调节支撑柱在辐射支撑棚板上的具体位置，相邻的陶瓷盘支撑棚板之间的距离也可以选用高度合适的可调节支撑柱进行支撑，提高了适配性能。
1.一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件，其特征在于，包括从上到下依次组装的若干个陶瓷盘支撑棚板(1)，陶瓷盘支撑棚板(1)包括中心圆盘(11)，中心圆盘(11)外边缘周周均布有三个辐射支撑棚板(12)，相邻的两个陶瓷盘支撑棚板(1)对应的辐射支撑棚板(12)之间安装有可调节支撑柱(2)，辐射支撑棚板(12)上表面两侧开设有调节滑槽(13)，调节滑槽(13)靠近辐射支撑棚板(12)的外端面，可调节支撑柱(2)包括中心立柱(21)，中心立柱(21)底部设有n形插板(22)，n形插板(22)的两个侧板分别安装在对应的调节滑槽(13)内，中心立柱(21)顶部设有u形插板(23)，辐射支撑棚板(12)底部插装在u形插板(23)内部。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件，其特征在于，u形插板(23)侧壁与中心立柱(21)侧壁之间设有斜向加强肋板(24)。
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件，其特征在于，中心圆盘(11)中心贯穿有通孔(14)。
4.根据权利要求3所述的一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件，其特征在于，中心圆盘(11)上表面圆周设有若干第一透气凹槽(15)，第一透气凹槽(15)内侧与通孔(14)连通且外侧与中心圆盘(11)外边缘连通。
5.根据权利要求4所述的一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件，其特征在于，三个第一透气凹槽(15)与三个辐射支撑棚板(12)交错布置。
6.根据权利要求5所述的一种陶瓷产品烧制用可调节式支撑件，其特征在于，辐射支撑棚板(12)上表面靠近中心圆盘(11)的一侧间隔设有若干第二透气凹槽(16)。
