一种亲水涂层、制备方法及器件与流程

专利检索2026-05-02  0


本发明涉及等离子化学领域,特别涉及一种亲水涂层、制备方法及器件。


背景技术:

1、透明材料(如玻璃,塑料)在工农业生产和口常生活以及军事领域中有着广泛的用途,例如护目镜、激光防护镜、望远镜及各种摄像设备的镜头、各种机械的观察窗、运动潜水镜、浴室玻璃、化学或生物防护面具、车辆挡风玻璃及后视镜、排爆处理防护设备、头盔、太阳能电池板、测量仪器的观察窗、玻璃罩、温室的玻璃墙等。然而,在冬天哈气时眼镜会让我们“雾里看花”;在寒冷的冬天由于挡风玻璃表面结雾会大大影响我们的能见度,甚至造成事故。雾化问题给人们的工作和生活带来诸多不便,防雾技术与防雾材料的研究与开发倍受科学界和企业界的关注。

2、在透明材料表面设置防雾涂层是一种常见防雾手段,防雾涂层通常有两种类型,一种是在透明材料表面形成亲水表面,水滴在亲水表面铺展成膜,另一种是在透明材料表面形成疏水表面,水滴在疏水表面成珠滚落。后者存在的缺点是在有大量水汽迅速冷凝时,仍会出现雾化现象。前者形成均匀的水膜,以消除光线的漫反射现象而到达防雾的目的。

3、目前,亲水防雾涂层的技术改进主要集中在于传统液相处理法,包括凝胶-溶胶法、层层自组装法、自由基溶液聚合法等。这些方法一般使用喷涂或旋涂的方法,将胶水涂布到基材表面,然后使用加热或uv辐照的方法固化。在液相处理方法中,存在一个缺点:溶剂、反应介质的存在,可能与基材发生反应,破坏基材结构,产生潜在的危害。

4、等离子体增强化学气相沉积(pecvd)是一种化学气相沉积工艺,在低压下使用辉光放电产生的等离子体活化单体,产生高活性的单体自由基或离子片段,沉积到基材表面反应成膜。pecvd具有:沉积速率快,成膜质量好,膜层均匀,针孔较少,不易龟裂等优点,反应过程中不需要液相溶剂,不会对基材产生破坏,因此,使用pecvd技术为制备防雾的亲水涂层提供了更好的选择。


技术实现思路

1、本发明的具体实施方式提供一种亲水涂层,所述亲水涂层具有优异的亲水性能、透光率的同时,具有十分优异的耐磨性,具体方案如下:

2、一种亲水涂层,所述亲水涂层为基材接触包含单体a和单体b的等离子体,从而在所述基材的表面等离子体聚合形成的涂层,或者所述亲水涂层为基材先后接触单体b的等离子体和单体a的等离子体形成的复合涂层;

3、其中,所述单体a中同时具有亚氨基,以及羟基、羧基或氨基中的至少一个;

4、所述单体b的结果如下式(1)所示,

5、

6、式(1)中,r4和r5分别独立的选自氢原子、c1-c10的烷基、c1-c10的取代烷基、c1-c10的烷氧基或者c1-c10的取代烷氧基,r6为c1-c10的烷基、c1-c10的取代烷基、c1-c10的烷氧基或者c1-c10的取代烷氧基,l为连接部分,z为氧杂环烷基团。

7、可选的,所述单体a的结构如下式(2)所示,

8、r2-nh-r1-x1

9、(2)

10、式(2)中,r1为c1-c10的亚烷基或c1-c10的取代亚烷基,r2为氢原子、c1-c10的烷基、c1-c10的取代烷基或下式(3)所示结构的基团,x1为羟基、羧基或氨基;

11、x2-r3-*

12、(3)

13、式(3)中,r3为c1-c10的亚烷基或c1-c10的取代亚烷基,x2为羟基、羧基或氨基。

14、可选的,所述r1选自c1-c4的亚烷基或c1-c4的取代亚烷基,r3选自c1-c4的亚烷基或c1-c4的取代亚烷基。

15、可选的,所述单体a为乙醇胺、二乙醇胺、n1-(2-甲氧基乙基)-1,3-丙二胺、氮杂环丁烷-3-醇、二异丙醇胺、肌氨酸、2-丁氨基乙醇、羟乙基乙二胺、n-(2-羟乙基)-1,3-丙二胺、n-甲基-2-羟基乙胺、亚氨基二乙酸或2-(乙基氨基)丙-1-醇。

16、可选的,所述r4和r5分别独立的选自于c1-c4的烷氧基,r6为c1-c4的烷氧基或c1-c4的烷基,z为环氧基。

17、可选的,所述r4和r5分别独立的选自于甲氧基或乙氧基,r6为甲氧基、乙氧基、甲基或乙基。

18、可选的,所述l为c1-c10的亚烷基或亚烷氧基。

19、可选的,所述单体b为3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、环氧丁基三甲氧基硅烷或3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己烷基)乙基三乙氧基硅烷、三甲氧基[2-(7-氧杂二环[4.1.0]庚-3-基)乙基]硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、3-[(2,3)-环氧丙氧]丙基甲基二甲氧基硅烷、三乙氧基1-甲基-2-(环氧乙烷甲氧基)乙基硅烷、三甲氧基-7-氧杂双环[4.1.0]庚-3-基硅烷、10-环氧乙烷-2-癸基三甲氧基硅烷、6,6-双(2-甲氧基乙氧基)环氧乙烷-11-基-2,5,10-三氧杂-6-硅十一烷、[3-(1,3-二氧戊环-4-基甲氧基)丙基]三甲氧基硅烷或3-(三甲氧基硅基)丙基缩水甘油醚中的至少一种。

20、可选的,所述单体a与单体b的摩尔比为1:1~1:5。

21、可选的,所述基材为光学仪器、金属、陶瓷、塑料、玻璃或电子设备。

22、可选的,所述亲水涂层的透光率在90%以上。

23、可选的,所述亲水涂层测得的水接触角在10°以下。

24、可选的,所述亲水涂层在10n载荷下用蘸酒精的棉布,线程为4cm,速度为40r/min,摩擦200次,测得的水接触角变化不大于2°。

25、一种以上所述的亲水涂层的制备方法,包括以下步骤:

26、提供基材,将基材置于等离子体反应器中,将气态形式的所述单体a和单体b的通入等离子反应器,等离子体放电,在所述基材表面等离子体聚合形成所述亲水涂层;

27、或者,

28、提供基材,将基材置于等离子体反应器中,先将气态形式的所述单体b的通入等离子反应器,等离子体放电,在所述基材表面等离子体聚合形成单体b的等离子体聚合涂层,然后将气态形式的所述单体a通入等离子反应器,等离子体放电,在单体b的等离子体聚合涂层上形成单体a的等离子体聚合涂层,制备获得所述亲水涂层。

29、可选的,所述等离子体放电为脉冲等离子体放电,其中,脉冲功率为10w~300w,脉冲频率为10~500hz,脉冲占空比为20%~90%,所述脉冲输出的放电时间为30s~36000s。

30、一种器件,所述器件的至少部分表面具有以上所述的亲水涂层。

31、本发明具体实施方式的亲水涂层,所述亲水涂层为基材接触具有氨基基团的亲水单体a和具有环氧基的硅烷单体b的等离子体,从而在所述基材的表面等离子体聚合形成的涂层,或着由基材先后接触所述单体b的等离子体和单体a等离子体形成的复合涂层,所述亲水涂层具有优异的亲水性能、透光率的同时,具有十分优异的耐磨性。



技术特征:

1.一种亲水涂层,其特征在于,所述亲水涂层为基材接触包含单体a和单体b的等离子体,从而在所述基材的表面等离子体聚合形成的涂层,或者所述亲水涂层为基材先后接触单体b的等离子体和单体a的等离子体形成的复合涂层;

2.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述单体a的结构如下式(2)所示,

3.根据权利要求2所述的亲水涂层,其特征在于,所述r1选自c1-c4的亚烷基或c1-c4的取代亚烷基,r3选自c1-c4的亚烷基或c1-c4的取代亚烷基。

4.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述单体a为乙醇胺、二乙醇胺、n1-(2-甲氧基乙基)-1,3-丙二胺、氮杂环丁烷-3-醇、二异丙醇胺、肌氨酸、2-丁氨基乙醇、羟乙基乙二胺、n-(2-羟乙基)-1,3-丙二胺、n-甲基-2-羟基乙胺、亚氨基二乙酸或2-(乙基氨基)丙-1-醇。

5.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述r4和r5分别独立的选自于c1-c4的烷氧基,r6为c1-c4的烷氧基或c1-c4的烷基,z为环氧基。

6.根据权利要求5所述的亲水涂层,其特征在于,所述r4和r5分别独立的选自于甲氧基或乙氧基,r6为甲氧基、乙氧基、甲基或乙基。

7.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述l为c1-c10的亚烷基或亚烷氧基。

8.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述单体b为3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、环氧丁基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己烷基)乙基三乙氧基硅烷、三甲氧基[2-(7-氧杂二环[4.1.0]庚-3-基)乙基]硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、3-[(2,3)-环氧丙氧]丙基甲基二甲氧基硅烷、三乙氧基1-甲基-2-(环氧乙烷甲氧基)乙基硅烷、三甲氧基-7-氧杂双环[4.1.0]庚-3-基硅烷、10-环氧乙烷-2-癸基三甲氧基硅烷、6,6-双(2-甲氧基乙氧基)环氧乙烷-11-基-2,5,10-三氧杂-6-硅十一烷、[3-(1,3-二氧戊环-4-基甲氧基)丙基]三甲氧基硅烷或3-(三甲氧基硅基)丙基缩水甘油醚中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述单体a与单体b的摩尔比为1:1~1:5。

10.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述基材为光学仪器、金属、陶瓷、塑料、玻璃或电子设备。

11.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述亲水涂层的透光率在90%以上。

12.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述亲水涂层测得的水接触角在10°以下。

13.根据权利要求1所述的亲水涂层,其特征在于,所述亲水涂层在10n载荷下用蘸酒精的棉布,线程为4cm,速度为40r/min,摩擦200次,测得的水接触角变化不大于2°。

14.一种如权利要求1-13任意一项所述的亲水涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

15.根据权利要求14所述的亲水涂层的制备方法,其特征在于,所述等离子体放电为脉冲等离子体放电,其中,脉冲功率为10w~300w,脉冲频率为10~500hz,脉冲占空比为20%~90%,所述脉冲输出的放电时间为30s~36000s。

16.一种器件,其特征在于,所述器件的至少部分表面具有权利要求1-13任一项所述的亲水涂层。


技术总结
本发明的具体实施方式提供一种亲水涂层、制备方法及器件,所述亲水涂层为基材接触具有氨基基团的亲水单体A和具有环氧基的硅烷单体B的等离子体,从而在所述基材的表面等离子体聚合形成的涂层,或着由基材先后接触所述单体B的等离子体和单体A等离子体形成的复合涂层,所述亲水涂层具有优异的亲水性能、透光率的同时,具有十分优异的耐磨性。

技术研发人员:宗坚
受保护的技术使用者:江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/5/29
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