一种流量计的清洗装置的制作方法

专利检索2026-04-04  3


本技术涉及流量计清洗,具体为一种流量计的清洗装置。


背景技术:

1、流量计是用于测量管道或明渠中流体流量的一种仪表,流量计又分为有差压式流量计、转子流量计、节流式流量计、细缝流量计、容积流量计、电磁流量计、超声波流量计等,流量计在长期使用后表面会聚集大量的污垢,因此需要使用清洗装置对流量计进行定时清洗。

2、但现有的流量计清洗装置通常采用机械清洗的方式,且采用单一的清洗头,存在清洗效果不理想、清洗时间长的问题,导致清洗效率较低。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种流量计的清洗装置,具备清洗效率高的优点,解决了现有的流量计清洗装置通常采用机械清洗的方式,且采用单一的清洗头,存在清洗效果不理想、清洗时间长的问题,导致清洗效率较低的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种流量计的清洗装置,包括储液箱和清洗池,所述储液箱和清洗池上设有清洗回收机构;

3、所述清洗回收机构包括固定安装于储液箱内腔下表面的吸水泵,所述吸水泵进水端固定安装有进水弯管,所述吸水泵出水端固定安装有贯穿至储液箱外表面的出水弯管,所述出水弯管远离吸水泵一端固定安装有引水软管,所述储液箱上表面固定安装有与储液箱相连通的螺纹管,所述螺纹管内腔表面固定安装有隔板,所述隔板表面开设有透水孔,所述隔板表面活动安装有石英砂过滤垫,所述石英砂过滤垫上表面活动有活性炭过滤垫,所述清洗池内腔相对一侧表面均固定安装有超声波发生器,所述清洗池内腔固定安装有位于超声波发生器下方的网格板,所述清洗池下表面固定安装有与清洗池相连通的螺纹套管,所述螺纹套管螺纹连接至螺纹管顶部,所述清洗池侧表面固定安装有贯穿至清洗池内的回水管,所述引水软管远离出水弯管一端与回水管位于清洗池外侧的一端固定连接,所述螺纹管内固定安装有电磁阀门。

4、进一步,所述透水孔的数量为多个的,相邻两个所述透水孔之间的间距均相等,所述透水孔的直径不低于五毫米不大于一厘米。

5、进一步,所述螺纹管外表面固定安装有密封垫圈,所述螺纹套管底部表面与密封垫圈上表面紧密接触。

6、进一步,所述储液箱上表面固定安装有数量为两个的支撑柱,所述支撑柱顶部固定安装有橡胶垫,所述橡胶垫上表面与清洗池下表面相接触。

7、进一步,所述进水弯管远离吸水泵一端固定安装有过滤罩。

8、进一步,所述清洗池内腔相对一侧表面均固定安装有防护罩,所述超声波发生器位于防护罩内。

9、与现有技术相比,本申请的技术方案具备以下有益效果:

10、该流量计的清洗装置,通过在清洗池内设有超声波发生器,在清洗池内注入清洗剂,可以通过超声波发生器和清洗剂的配合,将流量计表面的污物去除,提高了对流量计的清洗效率,再通过石英砂过滤垫和活性炭过滤垫对使用后的清洗剂进行过滤,再通过吸水泵重新送回清洗池内进行二次利用,大大减少了清洗剂的浪费。



技术特征:

1.一种流量计的清洗装置,包括储液箱(1)和清洗池(2),其特征在于:所述储液箱(1)和清洗池(2)上设有清洗回收机构;

2.根据权利要求1所述的一种流量计的清洗装置,其特征在于:所述透水孔(9)的数量为多个的,相邻两个所述透水孔(9)之间的间距均相等,所述透水孔(9)的直径不低于五毫米不大于一厘米。

3.根据权利要求1所述的一种流量计的清洗装置,其特征在于:所述螺纹管(7)外表面固定安装有密封垫圈(16),所述螺纹套管(14)底部表面与密封垫圈(16)上表面紧密接触。

4.根据权利要求1所述的一种流量计的清洗装置,其特征在于:所述储液箱(1)上表面固定安装有数量为两个的支撑柱(17),所述支撑柱(17)顶部固定安装有橡胶垫(18),所述橡胶垫(18)上表面与清洗池(2)下表面相接触。

5.根据权利要求1所述的一种流量计的清洗装置,其特征在于:所述进水弯管(4)远离吸水泵(3)一端固定安装有过滤罩(19)。

6.根据权利要求1所述的一种流量计的清洗装置,其特征在于:所述清洗池(2)内腔相对一侧表面均固定安装有防护罩(20),所述超声波发生器(12)位于防护罩(20)内。


技术总结
本技术涉及一种流量计的清洗装置,包括储液箱和清洗池,所述储液箱和清洗池上设有清洗回收机构,所述清洗回收机构包括固定安装于储液箱内腔下表面的吸水泵,所述吸水泵进水端固定安装有进水弯管,所述吸水泵出水端固定安装有贯穿至储液箱外表面的出水弯管,所述出水弯管远离吸水泵一端固定安装有引水软管。该流量计的清洗装置,通过在清洗池内设有超声波发生器,在清洗池内注入清洗剂,可以通过超声波发生器和清洗剂的配合,将流量计表面的污物去除,提高了对流量计的清洗效率,再通过石英砂过滤垫和活性炭过滤垫对使用后的清洗剂进行过滤,再通过吸水泵重新送回清洗池内进行二次利用,大大减少了清洗剂的浪费。

技术研发人员:彭慧娟,姜桃菊,官荣丽
受保护的技术使用者:武汉南控仪表科技有限公司
技术研发日:20230905
技术公布日:2024/5/29
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