本技术涉及离子注入，更具体的是涉及一种高温辅助离子注入装置。
背景技术：
1、离子注入技术是一种将目标元素通过高压电离，在把电离后的离子引入加速电场进行加速，使其获得能量后注入目标材料表面，达到提高目标材料表面性能，其可以改变金属、非金属、半导体的表面性能，从而延长目标材料的使用寿命。
2、在中国实用新型专利申请号：cn202222809322.3中公开有一种高温辅助离子注入的装置，包括设置在真空腔内的工作靶、以及射出离子束的离子源。该高温辅助离子注入的装置，在使用过程中还存在结构单一，没有对工件进行夹持固定的功能，因此在工件在被注入离子时容易因晃动导致影响注入效果的缺点，以及不便于对不同大小的工件进行放置，导致其在使用时遇到大小不同的工件时，对其加工时比较不方便的问题。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于：为了解决现有的高温辅助离子注入的装置，在使用过程中还存在结构单一，没有对工件进行夹持固定的功能，因此在工件在被注入离子时容易因晃动导致影响注入效果的缺点，以及不便于对不同大小的工件进行放置，导致其在使用时遇到大小不同的工件时，对其加工时比较不方便的问题，本实用新型提供一种高温辅助离子注入装置。
2、本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
3、一种高温辅助离子注入装置，包括下箱体与上箱体，所述上箱体的上表面贯穿并固定连接有离子束发生器，所述上箱体的内侧对称固定连接有离子束流量测量装置，所述下箱体的上端固定连接有多个呈矩形阵列分布的激光测温器，所述下箱体的内侧固定连接有感应加热管，所述下箱体的内侧下端活动连接有目标材料。
4、所述感应加热管的加热区间为100℃-800℃。
5、所述下箱体的内侧底端开设有活动槽，所述活动槽的内侧活动连接有螺杆。
6、所述螺杆为双螺纹螺杆，所述螺杆的螺纹位于两端且呈对称分布，所述螺杆的一端贯穿下箱体并固定连接有转盘。
7、所述下箱体的内侧底端表面呈对称开设有限位槽，所述活动槽的内侧两端呈对称活动连接有夹块，两个所述夹块均与螺杆螺纹连接。
8、所述下箱体与上箱体经由连接件活动连接，所述上箱体的一侧开设有凹槽。
9、所述上箱体的底端开设有卡槽，所述下箱体的内侧活动连接有卡块，所述卡块的后侧固定连接有多个呈等间距分布的弹簧，所述卡块的上端与卡槽相适配。
10、所述下箱体的底端固定连接有多个呈矩形阵列分布的底块。
11、本实用新型的有益效果如下：
12、1、本实用新型，通过感应加热管可以对目标材料进行加热，通过激光测温器可以实时监测目标材料的温度，以此可以对目标材料被加热时的温度进行控制，以此可以根据实际使用时放置的不同种类的目标材料加热至不同的温度，从而使其在进行离子注入时效果更好；
13、2、本实用新型，通过转动转盘从而可以带动螺杆旋转，进而可以使与螺杆螺纹连接的两个夹块同时靠近或远离，以此可以通过其相互靠近对目标材料进行夹持，从而在对其进行限位时是更方便；
14、3、本实用新型，通过按动卡块并在克服弹簧的弹力后可以使卡块移动，从而与卡槽适配，同时配合连接件可以实现上箱体的开合，进而可以取放目标材料时更方便。
1.一种高温辅助离子注入装置，包括下箱体（1）与上箱体（2），其特征在于：所述上箱体（2）的上表面贯穿并固定连接有离子束发生器（3），所述上箱体（2）的内侧对称固定连接有离子束流量测量装置（4），所述下箱体（1）的上端固定连接有多个呈矩形阵列分布的激光测温器（5），所述下箱体（1）的内侧固定连接有感应加热管（6），所述下箱体（1）的内侧下端活动连接有目标材料（7）。
2.根据权利要求1所述的一种高温辅助离子注入装置，其特征在于：所述感应加热管（6）的加热区间为100℃-800℃。
3.根据权利要求1所述的一种高温辅助离子注入装置，其特征在于：所述下箱体（1）的内侧底端开设有活动槽（8），所述活动槽（8）的内侧活动连接有螺杆（9）。
4.根据权利要求3所述的一种高温辅助离子注入装置，其特征在于：所述螺杆（9）为双螺纹螺杆，所述螺杆（9）的螺纹位于两端且呈对称分布，所述螺杆（9）的一端贯穿下箱体（1）并固定连接有转盘（10）。
5.根据权利要求3所述的一种高温辅助离子注入装置，其特征在于：所述下箱体（1）的内侧底端表面呈对称开设有限位槽（11），所述活动槽（8）的内侧两端呈对称活动连接有夹块（12），两个所述夹块（12）均与螺杆（9）螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的一种高温辅助离子注入装置，其特征在于：所述下箱体（1）与上箱体（2）经由连接件（13）活动连接，所述上箱体（2）的一侧开设有凹槽（14）。
7.根据权利要求6所述的一种高温辅助离子注入装置，其特征在于：所述上箱体（2）的底端开设有卡槽（15），所述下箱体（1）的内侧活动连接有卡块（16），所述卡块（16）的后侧固定连接有多个呈等间距分布的弹簧（17），所述卡块（16）的上端与卡槽（15）相适配。
8.根据权利要求1所述的一种高温辅助离子注入装置，其特征在于：所述下箱体（1）的底端固定连接有多个呈矩形阵列分布的底块（18）。
