本技术涉及抛光机，具体为一种电解质等离子抛光设备。
背景技术：
1、抛光机为零件加工处理的机器之一，通过阳极和阴极的结合产生带电离子，在零件的表面形成一层致密的氧化膜，经过高温处理和高频电场的处理，使气体分子发生电离和激发，产生等离子体，将零件表面抛光光滑。
2、但是，目前抛光机在使用时，内部产生很多高温水汽，将封门打开的瞬间，水汽聚集在封门的下端，滴在使用者的手臂上或者操作平台上，目前使用者都会使用一块吸水的布将快要滴下的水擦掉，而水汽在不断的聚集，水滴还会滴在平台上以及使用者的手臂上，因此，水滴聚集在操作平台上无法排出，造成封门的边缘霉变或者腐烂。
3、为解决上述问题，本申请中提出一种电解质等离子抛光设备。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本实用新型提供一种电解质等离子抛光设备，以至少解决背景技术提出的问题之一。
2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种电解质等离子抛光设备，包括抛光机本体和机体平台，所述抛光机本体上下滑动连接有封门，所述机体平台上开设有卡槽，所述封门的下端固定连接有与卡槽匹配的卡门，所述卡槽端部的下端开设有凹槽，所述凹槽开设有贯穿机体平台的出水槽，所述出水槽的外侧端设置有收集组件。
3、本实用新型的进一步技术改进在于，所述收集组件包括固定在出水槽外侧端的固定壳，所述固定壳的下端固定连接有连通的螺纹筒，所述螺纹筒上螺纹连接有收集瓶，所述固定壳内设置有过滤件。
4、本实用新型的进一步技术改进在于，所述过滤件包括固定在固定壳内部的限位块，所述限位块内插设有过滤板，且固定壳的上端为透明设置。
5、本实用新型的进一步技术改进在于，所述卡门的下端固定连接有导杆，所述导杆的端部为l形设置。
6、本实用新型的进一步技术改进在于，所述机体平台的上端面固定连接有围挡。
7、本实用新型的进一步技术改进在于，所述收集瓶的外侧壁上固定连接有异形块，所述收集瓶为透明设置。
8、本实用新型实施例提供了一种电解质等离子抛光设备，具备以下有益效果：
9、该种新型应用于电解质等离子抛光设备，通过设置卡槽和卡门以及收集组件，通过卡门的斜向设计，水滴在聚集到卡门下端时，能够聚集到卡门的一侧，并且通过抛光机本体流到卡槽内部，接着水会流到收集组件内部进行收集。
1.一种电解质等离子抛光设备，包括抛光机本体(1)和机体平台(2)，所述抛光机本体(1)上下滑动连接有封门(3)，其特征在于，所述机体平台(2)上开设有卡槽(5)，所述封门(3)的下端固定连接有与卡槽(5)匹配的卡门(4)，所述卡槽(5)端部的下端开设有凹槽(6)，所述凹槽(6)开设有贯穿机体平台(2)的出水槽(7)，所述出水槽(7)的外侧端设置有收集组件。
2.根据权利要求1所述的一种电解质等离子抛光设备，其特征在于，所述收集组件包括固定在出水槽(7)外侧端的固定壳(8)，所述固定壳(8)的下端固定连接有连通的螺纹筒(9)，所述螺纹筒(9)上螺纹连接有收集瓶(10)，所述固定壳(8)内设置有过滤件。
3.根据权利要求2所述的一种电解质等离子抛光设备，其特征在于，所述过滤件包括固定在固定壳(8)内部的限位块(12)，所述限位块(12)内插设有过滤板(13)，且固定壳(8)的上端为透明设置。
4.根据权利要求1所述的一种电解质等离子抛光设备，其特征在于，所述卡门(4)的下端固定连接有导杆(14)，所述导杆(14)的端部为l形设置。
5.根据权利要求1所述的一种电解质等离子抛光设备，其特征在于，所述机体平台(2)的上端面固定连接有围挡(15)。
6.根据权利要求2所述的一种电解质等离子抛光设备，其特征在于，所述收集瓶(10)的外侧壁上固定连接有异形块(11)，所述收集瓶(10)为透明设置。
