氧化镓晶片退火处理装置的制作方法

1.本实用新型涉及氧化镓晶片退火处理领域，尤其涉及氧化镓晶片退火处理装置。


背景技术：

2.氧化镓是一种无机化合物，化学式为ga2o3，别名三氧化二镓，是一种宽禁带半导体，eg＝4.9ev，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。ga2o3是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景，被用作于ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片，它还可以用作o2化学探测器。
3.在氧化镓晶片猝火加热后的要第一时间进行退火处理，间隔过程过长会导致品控下降，氧化镓晶片通常在淬火后需要转移至退火平台进行退火工艺处理，但是现有的退火处理装置结构简单，功能单一，不能及时进行转移处理，因此需要氧化镓晶片退火处理装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是为了解决氧化镓晶片高效的移动问题，而提出的氧化镓晶片退火处理装置。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
6.一种氧化镓晶片退火处理装置，包括底座，所述底座顶部固定连接有立杆，所述立杆侧壁连接有横杆，所述横杆底部连接有固定圆盘，所述固定圆盘侧壁固定连接有限位杆，所述限位杆侧壁连接有移动机构，所述移动机构包括驱动电机，所述驱动电机固定连接在限位杆侧壁，所述驱动电机输出端连接有连接杆，所述连接杆侧壁转动连接有第一转轴，所述第一转轴侧壁转动连接有连杆，所述连杆远离第一转轴的一端转动连接有第二转轴，所述第二转轴外壁转动连接有驱动块，所述驱动块侧壁连接有支撑圆盘，所述支撑圆盘底部连接有夹持机构，所述夹持机构加持端与晶片相配合。
7.优选的，所述连杆对称设置有两组，两组所述连杆结构相同，两组所述连杆两端分别与第一转轴和第二转轴转动相连。
8.优选的，所述移动机构圆周阵列设置有三组，三组所述移动机构结构相同，三组所述移动机构所含驱动块均与支撑圆盘固定相连。
9.优选的，所述夹持机构包括夹持电机，所述夹持电机固定连接在支撑圆盘顶部，所述支撑圆盘底部部转动连接有丝杆，所述夹持电机输出端与丝杆相连，所述丝杆上螺纹连接有滑架，所述滑架外壁转动连接有驱动杆，所述驱动杆远离滑架的一端转动连接有滑块，所述丝杆底部转动连接有滑动盘，所述支撑圆盘底部固定连接有滑杆，所述滑杆和滑架滑动相连，所述滑动盘上开设有滑槽，所述滑块和滑槽相配合，所述滑块底部固定连接有连接架，所述连接架底部连接有夹块。
10.优选的，所述驱动杆、滑块、连接架和夹块分别设置有四组，四组所述驱动杆均与滑架转动相连。
11.与现有技术相比，本实用新型提供了氧化镓晶片退火处理装置，具备以下有益效果：
12.1、该氧化镓晶片退火处理装置，通过夹持电机和夹块相配合，使夹持机构实现对氧化镓晶片夹取和释放的功能，使氧化镓晶片在移动过程中更加稳定。
13.2、该氧化镓晶片退火处理装置，通过三组移动机构相配合，使夹持机构在夹取高度可以调节，在夹取位置可以调节，在夹取氧化镓晶片后可以移动至指定退火位置，在退货完成后夹取氧化镓晶片至放置区域，提高移动效率，可根据不同环境进行移动，提高适应性，减少移动时间，提高品控。
14.该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本实用新型通过夹持机构和移动机构相配，合实现夹取释放功能，可使夹持机构在夹取高度和夹取位置可进行调节，提高移动效率，可根据不同环境进行移动设定，提高适应性，减少移动时间，提高品控。
附图说明
15.图1为本实用新型提出的氧化镓晶片退火处理装置的结构示意图；
16.图2为本实用新型提出的氧化镓晶片退火处理装置的移动机构结构示意图；
17.图3为本实用新型提出的氧化镓晶片退火处理装置的正视结构示意图；
18.图4为本实用新型提出的氧化镓晶片退火处理装置图2中a部分结构示意图。
19.图中：1、底座；101、立杆；102、横杆；103、固定圆盘；104、限位杆；2、驱动电机；201、连接杆；202、第一转轴；203、连杆；204、第二转轴；205、驱动块；206、支撑圆盘；3、夹持电机；301、丝杆；302、滑架；303、驱动杆；304、滑块；305、滑槽；306、连接架；307、夹块；308、滑动盘；309、滑杆。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
21.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
22.实施例1
23.参照图1
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4，一种氧化镓晶片退火处理装置，包括底座1，底座1顶部固定连接有立杆101，立杆101侧壁连接有横杆102，横杆102底部连接有固定圆盘103，固定圆盘103侧壁固定连接有限位杆104，限位杆104侧壁连接有移动机构，移动机构包括驱动电机2，驱动电机2固定连接在限位杆104侧壁，驱动电机2输出端连接有连接杆201，连接杆201侧壁转动连接有第一转轴202，第一转轴202侧壁转动连接有连杆203，连杆203远离第一转轴202的一端转动连接有第二转轴204，第二转轴204外壁转动连接有驱动块205，驱动块205侧壁连接有支撑圆盘206，支撑圆盘206底部连接有夹持机构，夹持机构加持端与晶片相配合。
24.连杆203对称设置有两组，两组连杆203结构相同，两组连杆203两端分别与第一转轴202和第二转轴204转动相连。
25.移动机构圆周阵列设置有三组，三组移动机构结构相同，三组移动机构所含驱动块205均与支撑圆盘206固定相连。
26.夹持机构包括夹持电机3，夹持电机3固定连接在支撑圆盘206顶部，支撑圆盘206底部部转动连接有丝杆301，夹持电机3输出端与丝杆301相连，丝杆301上螺纹连接有滑架302，滑架302外壁转动连接有驱动杆303，驱动杆303远离滑架302的一端转动连接有滑块304，丝杆301底部转动连接有滑动盘308，支撑圆盘206底部固定连接有滑杆309，滑杆309和滑架302滑动相连，滑动盘308上开设有滑槽305，滑块304和滑槽305相配合，滑块304底部固定连接有连接架306，连接架306底部连接有夹块307。
27.驱动杆303、滑块304、连接架306和夹块307分别设置有四组，四组驱动杆303均与滑架302转动相连。
28.本实用新型中，使用者使用时，启动夹持电机3使丝杆301转动，丝杆301转动使滑架302在滑杆309上滑动，滑架302滑动时通过驱动杆303使滑块304在滑槽305内滑动，滑槽305滑动通过连接架306使四组夹块307实现对氧化镓晶片夹取施肥的功能，在夹取猝火后的氧化镓晶片后，启动驱动电机2使连接杆201转动，连接杆201转动使第一转轴202转动，第一转轴202转动时通过连杆203带动滑槽305进行移动，滑槽305移动使连接架306带动夹持的氧化镓晶片进行移动，在移动过程中另外两组进行配合，同时启动三个电机可以实现连接架306带动氧化镓晶片进行高度调节，在淬火后氧化镓晶片第一时间被夹块307夹持通过驱动电机2电机转动使猝火后氧化镓晶片移动至退火平台，再退火完成后夹取至放置平台，挺好转移效率，可根据转移环境进行调节，提高适应性。
29.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。