本技术涉及镀膜，尤其涉及一种真空密封结构及镀膜设备。
背景技术：
1、如图1所示，真空镀膜设备里设置有加热器、温度探测器等设备，由于上述设备需要在镀膜腔室100内使用，同样需要隔绝大气，需要对上述设备需要通过引出端60进行电信号的引入和引出，引出端60可以通过法兰10固定在腔体上，也可上下升降活动设置在腔体上，因此需要对引出端60做密封处理。
2、图2-图4是现有技术中常见的密封结构。例如，如图2所示，法兰10上设置有固定套20，加热器电信号通过引出端60进行引出，引出端60穿过固定套20伸出镀膜腔室外，以便与外部器件连接。为实现密封，固定套20上设置有密封帽30，密封帽30和固定套20之间设置有压环50，压环50与固定套20之间设置有密封圈40，密封圈40套设在引出端60上以实现密封。图3所示密封结构与图2大致相同，区别在于图2中密封帽30套设在固定套20外。图4所示密封结构中取消了固定套20和密封帽30，而是通过与法兰10固定的压板70将压环50压向法兰10，从而加紧压环50与法兰10之间的密封圈40。上述密封方式均采用单密封圈径向密封方式，可靠性低，偶见泄露。此外，在镀膜腔室100内进行加热时，由于热传导，法兰的温度会增加，温度的反复升降，容易出现密封圈疲劳失效导致密封失效的问题；或者，外部分腔体因工艺要求需要在垂直方向移动加热板，加热器和温度探测器引出端频繁升降，现有的密封方式也不能保证真空腔体的密封性。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种真空密封结构及镀膜设备，能够解决现有技术中单密封圈结构容易密封失效的问题。
2、为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
3、一种真空密封结构，包括：
4、法兰，所述法兰上设置有安装孔；
5、固定套，穿设于所述安装孔内并与所述法兰固定；
6、引出端，所述引出端穿设于所述固定套内；
7、密封帽，套设于所述固定套和所述引出端上，并与所述固定套固定；
8、第一密封圈，设置于所述密封帽和所述引出端之间；
9、第二密封圈，设置于所述密封帽与所述固定套之间。
10、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述密封帽包括环形的第一结构以及环形的的第二结构，所述第二结构环绕所述第一结构的周向设置，所述第一结构上设置有通孔，所述引出端穿设于所述通孔内，所述第二结构套设于所述固定套上。
11、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述通孔的内侧壁上设置有第一定位槽，所述第一密封圈设置于所述第一定位槽内并与所述引出端抵接。
12、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述真空密封结构还包括：
13、压环，所述压环套设于所述引出端上并位于所述密封帽内，所述压环与所述第一结构抵接；
14、第三密封圈，套设于所述引出端上，所述第三密封圈夹持于所述压环与固定套的端面之间。
15、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述压环的朝向所述固定套的一侧表面包括抵接导向面，所述抵接导向面为一斜面结构。
16、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述固定套的外壁上设置有第二定位槽，所述第二密封圈设置于所述第二定位槽内并与所述第二结构抵接。
17、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述固定套的内壁上设置有第二定位槽，所述第二密封圈设置于所述第二定位槽内并与所述引出端抵接。
18、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述第一密封圈设置有至少两个；
19、和/或，所述第二密封圈设置有至少两个。
20、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述法兰内设置有水冷通道，所述法兰上设置有与所述水冷通道连通的进口和出口。
21、作为上述真空密封结构的一种可选方案，所述密封帽与所述固定套通过螺纹连接。
22、一种镀膜设备，包括装置主体以及上述的真空密封结构，所述装置主体内形成有镀膜腔室，所述法兰设置于所述装置主体上，所述引出端一端伸入所述镀膜腔室内，另一端伸出所述镀膜腔室外。
23、本实用新型的有益效果：
24、本实用新型提供的真空密封结构中，密封帽与引出端之间、密封帽与固定套之间均设置有密封圈，以形成至少两重密封结构，相比现有技术中的单密封圈结构的密封效果更好；密封帽对密封圈沿径向有限位作用，能够减小加热器、温度探测器等设备电信号的引出端由于温度变化和位置升降对密封圈的影响，从而降低密封圈破损的几率，防止密封失效。
25、本实用新型提供的镀膜设备采用上述真空密封结构，密封可靠。
1.一种真空密封结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空密封结构，其特征在于，所述密封帽(30)包括环形的第一结构(31)以及环形的第二结构(32)，所述第二结构(32)环绕所述第一结构(31)的周向设置，所述第一结构(31)上设置有通孔，所述引出端(60)穿设于所述通孔内，所述第二结构(32)套设于所述固定套(20)上。
3.根据权利要求2所述的真空密封结构，其特征在于，所述通孔的内侧壁上设置有第一定位槽，所述第一密封圈(41)设置于所述第一定位槽内并与所述引出端(60)抵接。
4.根据权利要求2所述的真空密封结构，其特征在于，所述真空密封结构还包括：
5.根据权利要求4所述的真空密封结构，其特征在于，所述压环(50)的朝向所述固定套(20)的一侧表面包括抵接导向面，所述抵接导向面为一斜面结构。
6.根据权利要求2所述的真空密封结构，其特征在于，所述固定套(20)的外壁上设置有第二定位槽，所述第二密封圈(42)设置于所述第二定位槽内并与所述第二结构(32)抵接。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的真空密封结构，其特征在于，所述第一密封圈(41)设置有至少两个；
8.根据权利要求1-6中任一项所述的真空密封结构，其特征在于，所述法兰(10)内设置有水冷通道(11)，所述法兰(10)上设置有与所述水冷通道(11)连通的进口和出口。
9.根据权利要求1-6中任一项所述的真空密封结构，其特征在于，所述密封帽(30)与所述固定套(20)通过螺纹连接。
10.一种镀膜设备，其特征在于，包括装置主体以及如权利要求1-9中任一项所述的真空密封结构，所述装置主体内形成有镀膜腔室(100)，所述法兰(10)设置于所述装置主体上，所述引出端(60)一端伸入所述镀膜腔室(100)内，另一端伸出所述镀膜腔室(100)外。
