本技术涉及半导体制造领域，并且更具体而言涉及一种用于多层清洗设备的供液装置。
背景技术：
1、本实用新型基于单层化学供液控制装置。
2、图1示出了依据现有技术的供液装置，即当前的单层化学供液装置被设计为：机器开机时，开关阀5.2和开关阀5.3打开，用于化学供液的供应源1和供应源2开始供液，流量传感器4.2和流量传感器4.3开始记录流量。当液位传感器6检测到槽体1的液位到达预定位置时，泵3开始启动，同时开关阀5.4打开，加热器7开始工作，化学液开始自循环并加热。
3、当液位传感器检测到槽体1的液位为高液位时，开关阀5.4关闭，同时开关阀5.1打开，开始为槽体2供液，流量传感器4.1实时反馈流量给泵3，直到流量到达稳定数值。当液位传感器6再次检测到液位到达高液位时，供应源1和供应源2停止供液；加热器7检测到温度达到要求后，机器开始正常运行。
4、在此，溢流槽体8.1和溢流槽体8.2为溢流槽体为了将多余的液体流回槽体1，而排液开关阀5.5用于排液。
5、当前的供液装置存在的问题如下：目前的单层配置的产量受限，搭配大产量的槽式清洗机时，需要两套此设备才能匹配产能，会造成成本上升并且占地空间大。
技术实现思路
1、本实用新型的目的旨在解决现有技术中存在的上述问题和缺陷中的至少一方面，即如何在不占用过多空间的情况下提出一种适用于多层清洗设备的供液装置。针对该技术问题，本实用新型的技术方案提出多层供液槽，其共用相同的供应源的控制阀、加热器等部件，既可以满足多层清洗设备的供液需求，也可以节约空间和成本。
2、具体而言，本实用新型提出了一种用于多层清洗设备的供液装置，其中，所述多层清洗设备包括第一清洗槽和至少一层第二清洗槽，所述供液装置包括：
3、供液槽，所述供液槽被构造为与至少一个供应源相连接，以便为所述清洗槽供液；
4、与所述第一清洗槽相对应的第一供液回路以及与所述至少一层第二清洗槽相对应的至少一个第二供液回路；
5、加热回路，所述加热回路为所述供液槽中的液体加热；
6、泵，所述泵为所述第一供液回路、至少一个第二供液回路以及所述加热回路提供动力；以及
7、回路选择阀，所述回路选择阀被构造用于从所述第一供液回路、至少一个第二供液回路以及所述加热回路中选择至少一个回路。
8、在依据本实用新型所提出的供液装置之中，依据本实用新型所提出的供液装置能够同时处理位于两层清洗槽体中的多个电池片，使得清洗设备的清洗能力大大加强，产能大大提高，而且能够匹配大产能槽式清洗机。此外，相较于原先的必须配置两套独立的供液装置的解决方案也可以大大节省空间。
9、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述回路选择阀包括：
10、与所述第一供液回路相对应的第一调节阀以及与所述至少一个第二供液回路相对应的至少一个第二调节阀；以及
11、与所述加热回路相对应的加热调节阀。
12、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述供液装置还包括：
13、与所述第一清洗槽相对应的第一溢流槽体以及与所述至少一层第二清洗槽相对应的至少一个第二溢流槽体；以及
14、连接所述第一溢流槽体和所述供液槽的第一溢流回路以及连接所述至少一个第二溢流槽体和所述供液槽的至少一个第二溢流回路。
15、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述第一溢流槽体被设置在所述第一清洗槽的两端，并且所述至少一个第二溢流槽体被设置在所述至少一层第二清洗槽的两端。
16、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述供液装置还包括排液阀，所述排液阀被设置在所述供液槽的底部。
17、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述供液装置还包括液位传感器，所述液位传感器被构造用于获取所述供液槽中的液体的高度数据。
18、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述供液装置还包括：
19、与所述第一供液回路相对应的第一流量传感器以及与所述至少一个第二供液回路相对应的至少一个第二流量传感器。
20、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述至少一个供应源包括两个供应源，所述两个供应源分别供应不同的液体。
21、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述两个供应源和所述供液槽之间分别设置有流量传感器和调节阀。
22、在依据本实用新型的一个实施例之中，所述供液槽的上部设置有溢流孔，和/或，所述供液装置包括两个第二供液回路。
23、综上所述，在依据本实用新型所提出的供液装置之中，依据本实用新型所提出的供液装置能够同时处理位于两层清洗槽体中的多个电池片，使得清洗设备的清洗能力大大加强，产能大大提高，而且能够匹配大产能槽式清洗机。此外，相较于原先的必须配置两套独立的供液装置的解决方案也可以大大节省空间。
1.一种用于多层清洗设备的供液装置，其中，所述多层清洗设备包括第一清洗槽和至少一层第二清洗槽，其特征在于，所述供液装置包括：
2.根据权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述回路选择阀包括：
3.根据权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述供液装置还包括：
4.根据权利要求3所述的供液装置，其特征在于，所述第一溢流槽体被设置在所述第一清洗槽的两端，并且所述至少一个第二溢流槽体被设置在所述至少一层第二清洗槽的两端。
5.根据权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述供液装置还包括排液阀，所述排液阀被设置在所述供液槽的底部。
6.根据权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述供液装置还包括液位传感器，所述液位传感器被构造用于获取所述供液槽中的液体的高度数据。
7.根据权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述供液装置还包括：
8.根据权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述至少一个供应源包括两个供应源，所述两个供应源分别供应不同的液体。
9.根据权利要求8所述的供液装置，其特征在于，所述两个供应源和所述供液槽之间分别设置有流量传感器和调节阀。
10.根据权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述供液槽的上部设置有溢流孔，和/或，所述供液装置包括两个第二供液回路。
