本申请涉及钽电容清洗，更具体地，涉及一种钽电容清洗装置。
背景技术：
1、钽电容全称是钽电解电容，也属于电解电容的一种，其使用金属钽做介质，不像普通电解电容那样使用电解液。此外，由于钽电容内部没有电解液，很适合在高温下工作。钽电容的特点是寿命长、耐高温、准确度高和滤高频谐波性能极好。
2、钽电容的制作过程中，需要对其进行清洗，目前主要是通过加热纯水的方式对其进行清洗，且为了保证钽电容的清洗效果，其浸泡时间往往较长。
技术实现思路
1、本申请为克服上述背景技术中所述的浸泡时间往往较长的问题，提供一种钽电容清洗装置。
2、为解决上述技术问题，本申请采用的技术方案是：
3、一种钽电容清洗装置，包括：用于容纳纯水以清洗钽电容的箱体、用于放置装有钽电容的料框的安装架、多个气泡发生器和用于对箱体内的纯水进行加热的加热单元；
4、所述安装架安装在所述箱体上，且所述安装架的底端位于所述箱体内，并与所述箱体连通，以使所述箱体内的纯水可以进入所述安装架内，所述气泡发生器设置在所述安装架上，所述加热单元设置在所述箱体内。
5、在一个实施例中，所述安装架上设置有用于定位料框的安放位置的定位组件。
6、在一个实施例中，所述定位组件包括用于支撑料框的垫块和用于对料框的边缘进行限位的限位板，所述垫块设置在所述安装架的内侧表面上，且所述限位板设置在所述安装架的内侧表面上。
7、在一个实施例中，所述垫块和所述限位板的数量均设置为个。
8、在一个实施例中，所述垫块设置为多个，各所述垫块环绕设置，并形成放置区，各所述气泡发生器设置在所述放置区上，且所述气泡发生器的高度低于所述垫块的高度。
9、在一个实施例中，还包括盖体，所述盖体活动罩设在所述箱体的顶端上。
10、在一个实施例中，所述箱体上铰接有用于驱动所述盖体罩设所述箱体的驱动器，所述驱动器的输出端与所述盖体铰接。
11、在一个实施例中，所述箱体的底部设置有排水管。
12、在一个实施例中，所述安装架包括安装环、四个连接杆和支撑板，所述安装环的底面抵接安装在所述箱体的顶面上，四个连接杆的一端与所述安装环连接，四个连接杆的另一端与所述支撑板连接。
13、在一个实施例中，所述支撑板上开设有多个穿孔。
14、与现有技术相比，有益效果是：箱体内装有纯水，并通过加热单元将箱体内的纯水加热到90℃-95℃，然后通过夹爪将放有钽电容的料框依次放入安装架内，放置完毕后，通过高温热水清洗钽电容，同时打开气泡发生器，通过气泡发生器使箱体内产生大量绵密细小的气泡，此时，气泡可以在钽电容上破开，并产生一定的张力，使得钽电容在清洗过程的清洗效果更佳，故可使清洗时间缩短，提高效率。
1.一种钽电容清洗装置，其特征在于，包括：用于容纳纯水以清洗钽电容的箱体(100)、用于放置装有钽电容的料框(700)的安装架(200)、多个气泡发生器(300)和用于对箱体(100)内的纯水进行加热的加热单元(400)；
2.根据权利要求1所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述安装架(200)上设置有用于定位料框(700)的安放位置的定位组件(500)。
3.根据权利要求2所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述定位组件(500)包括用于支撑料框(700)的垫块(510)和用于对料框(700)的边缘进行限位的限位板(520)，所述垫块(510)设置在所述安装架(200)的内侧表面上，且所述限位板(520)设置在所述安装架(200)的内侧表面上。
4.根据权利要求3所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述垫块(510)和所述限位板(520)的数量均设置为4个。
5.根据权利要求3所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述垫块(510)设置为多个，各所述垫块(510)环绕设置，并形成放置区，各所述气泡发生器(300)设置在所述放置区上，且所述气泡发生器(300)的高度低于所述垫块(510)的高度。
6.根据权利要求1所述的钽电容清洗装置，其特征在于，还包括盖体(600)，所述盖体(600)活动罩设在所述箱体(100)的顶端上。
7.根据权利要求6所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述箱体(100)上铰接有用于驱动所述盖体(600)罩设所述箱体(100)的驱动器(110)，所述驱动器(110)的输出端与所述盖体(600)铰接。
8.根据权利要求1所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述箱体(100)的底部设置有排水管。
9.根据权利要求1所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述安装架(200)包括安装环(210)、四个连接杆(220)和支撑板(230)，所述安装环(210)的底面抵接安装在所述箱体(100)的顶面上，四个连接杆(220)的一端与所述安装环(210)连接，四个连接杆(220)的另一端与所述支撑板(230)连接。
10.根据权利要求9所述的钽电容清洗装置，其特征在于，所述支撑板(230)上开设有多个穿孔(231)。
