本技术属于天然气输送,具体涉及一种天然气掺氢混氢装置。
背景技术:
1、其中,现在已经有天然气掺氢混氢设备,比如公开(公告)号为cn114931869a的专利文献,其通过多个阵列分布的通孔实现混合,阵列混氢不太均匀。
技术实现思路
1、本申请要解决的技术问题为:如何提供一种混氢均匀的天然气掺氢混氢装置。
2、具体方案如下:
3、一种天然气掺氢混氢装置,包括混合室与天然气接口、氢气接口,混合室连通天然气接口,氢气接口连通喷气管,喷气管位于混合室内部、且喷气管的轴线与混合室的轴线重合,喷气管的开口处为喇叭口,该喇叭口处设有调节芯,调节芯的芯头为锥状、且位于喷气管的开口处的中心位置,调节芯固定在调节杆上,调节杆的一端与调节芯支架构成滑动副,其另一段连接平移动力件,调节芯支架固定在混合室的内壁上。
4、混合室包括串联连通的混气段、扩压段、正常段,混气段的直径小于正常段的直径,扩压段为圆台状,混气段连通天然气接口,喷气管位于混气段,调节芯支架固定在正常段的内壁上。
5、天然气接口与氢气接口内部均设有压力变送器、温度传感器,该压力变送器、温度传感器均与plc电连接,plc电连接平移动力件。
6、喷气管为拉法尔喷管,芯头位于拉法尔喷管的喉部的下游部分。
7、和现有技术相比,有益效果:本实用新型公开了一种天然气掺氢混氢装置,其通过调节芯的导流,使氢气沿着一个锥形面射入天然气中,使二者分布比较均匀。
1.一种天然气掺氢混氢装置,包括混合室(10)与天然气接口(20)、氢气接口(30),其特征在于:
2.根据权利要求1所述的天然气掺氢混氢装置,其特征在于:混合室(10)包括串联连通的混气段(11)、扩压段(12)、正常段(13),混气段(11)的直径小于正常段(13)的直径,扩压段(12)为圆台状,混气段(11)连通天然气接口(20),喷气管(31)位于混气段(11),调节芯支架(43)固定在正常段(13)的内壁上。
3.根据权利要求2所述的天然气掺氢混氢装置,其特征在于:天然气接口(20)与氢气接口(30)内部均设有压力变送器(33)、温度传感器(23),该压力变送器(33)、温度传感器(23)均与plc电连接,plc电连接平移动力件(42)。
4.根据权利要求3所述的天然气掺氢混氢装置,其特征在于:喷气管(31)为拉法尔喷管,芯头(41)位于拉法尔喷管的喉部的下游部分。