本发明涉及半导体制造，尤其涉及一种光刻掩膜版异常检测方法、系统及可读存储介质。
背景技术：
1、晶圆在制造过程中由于不同的原因会产生不同的缺陷图(defect map)。在光刻掩膜版缺陷的扫描过程中，会生成互补的反射光图像和透射光图像，其中图像中包含一些异常，根据其位置、成因不同等分属不同的异常类别。
2、通常，这些异常图像需要工程师人为进行甄别筛选，效率较低，也极易遗漏部分肉眼很难辨别的隐藏性异常。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种光刻掩膜版异常检测方法、系统及可读存储介质，一方面能够快速且自动地检测出异常的掩模版图像，提高检测效率，另一方面避免遗漏肉眼不可见的异常，同时还可以进行简单的分类，减少工程师的工作量。
2、为达到上述目的，本发明提供一种光刻掩膜版异常检测方法，包括以下步骤：
3、获取具有相同图案的多张掩膜版图像并进行对齐，所述掩膜版图像包括正常掩膜版图像及待测掩膜版图像；
4、对所述掩膜版图像进行去模糊处理；
5、对所述去模糊处理后的待测掩模版图像中的每一个有效点进行局部特征计算，若所述有效点的局部特征值大于预设阈值，则判定该有效点为异常点；
6、基于所述异常点推断所述待测掩膜版图像所属的异常类型并进行分类。
7、可选的，对所述掩膜版图像进行去模糊处理之前，所述光刻掩膜版异常检测方法还包括对所述对齐后的掩膜版图像的边缘进行裁切。
8、可选的，利用深度神经网络对所述掩膜版图像进行去模糊处理。
9、可选的，对所述去模糊处理后的待测掩模版图像中的每一个有效点进行局部特征计算的步骤具体包括：
10、基于局部二值模式的原理，利用所述待测掩模版图像中的每一个有效点对应的所述正常掩膜版图像中的点位的若干周边点进行计算得到所述有效点对应的局部特征值。
11、可选的，所述掩膜版图像包括反射光图像及穿透光图像，所述待测掩膜版图像的反射光图像与所述正常掩膜版图像的反射光图像对齐，所述待测掩膜版图像的穿透光图像与所述正常掩膜版图像的穿透光图像对齐。
12、基于同一技术构思，本发明还提供了一种光刻掩膜版异常检测系统，包括：
13、对齐模块，被配置为获取具有相同图案的多张掩膜版图像并进行对齐，所述掩膜版图像包括正常掩膜版图像及待测掩膜版图像；
14、预处理模块，被配置为对所述掩膜版图像进行去模糊处理；
15、计算模块，被配置为对所述去模糊处理后的待测掩模版图像中的每一个有效点进行局部特征计算，若所述有效点的局部特征值大于预设阈值，则判定该有效点为异常点；
16、推断模块，被配置为基于所述异常点推断所述待测掩膜版图像所属的异常类型并进行分类。
17、可选的，所述光刻掩膜版异常检测系统还包括裁切模块，所述裁切模块被配置为对所述对齐后的掩膜版图像的边缘进行裁切。
18、可选的，所述预处理模块利用深度神经网络对所述掩膜版图像进行去模糊处理。
19、可选的，所述计算模块具体被配置为基于局部二值模式的原理，利用所述待测掩模版图像中的每一个有效点对应的所述正常掩膜版图像中的点位的若干周边点进行计算得到所述有效点对应的局部特征值。
20、基于同一技术构思，本发明还提供了一种可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被执行时能实现如上所述的光刻掩膜版异常检测方法。
21、在本发明提供的一种光刻掩膜版异常检测方法、系统及可读存储介质中，通过对掩膜版图像做一定的预处理后采用局部特征计算的方式得到待测掩模版图像中的每一个有效点的局部特征值，然后基于所述局部特征值判断该有效点是否为异常点，进而筛选出异常的掩膜版图像，一方面能够快速且自动地检测出异常的掩模版图像，提高检测效率，另一方面避免遗漏肉眼不可见的异常，同时还可以进行简单的分类，减少工程师的工作量。
1.一种光刻掩膜版异常检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的光刻掩膜版异常检测方法，其特征在于，对所述掩膜版图像进行去模糊处理之前，所述光刻掩膜版异常检测方法还包括对所述对齐后的掩膜版图像的边缘进行裁切。
3.根据权利要求1所述的光刻掩膜版异常检测方法，其特征在于，利用深度神经网络对所述掩膜版图像进行去模糊处理。
4.根据权利要求1所述的光刻掩膜版异常检测方法，其特征在于，对所述去模糊处理后的待测掩模版图像中的每一个有效点进行局部特征计算的步骤具体包括：
5.根据权利要求1所述的光刻掩膜版异常检测方法，其特征在于，所述掩膜版图像包括反射光图像及穿透光图像，所述待测掩膜版图像的反射光图像与所述正常掩膜版图像的反射光图像对齐，所述待测掩膜版图像的穿透光图像与所述正常掩膜版图像的穿透光图像对齐。
6.一种光刻掩膜版异常检测系统，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的光刻掩膜版异常检测系统，其特征在于，所述光刻掩膜版异常检测系统还包括裁切模块，所述裁切模块被配置为对所述对齐后的掩膜版图像的边缘进行裁切。
8.根据权利要求6所述的光刻掩膜版异常检测系统，其特征在于，所述预处理模块利用深度神经网络对所述掩膜版图像进行去模糊处理。
9.根据权利要求6所述的光刻掩膜版异常检测系统，其特征在于，所述计算模块具体被配置为基于局部二值模式的原理，利用所述待测掩模版图像中的每一个有效点对应的所述正常掩膜版图像中的点位的若干周边点进行计算得到所述有效点对应的局部特征值。
10.一种可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被执行时能实现根据权利要求1-5中任一项所述的光刻掩膜版异常检测方法。
