技术涉及电子芯片测试，特别涉及一种测试结构及测试装置。
背景技术：
1、随着现代电子产品的飞速发展，电子芯片作为其重要的组成核心，在生产与加工的过程中，对质量的检测管控越发得严格，在实际检测过程中，通过自动化产线，由测试夹具置电子芯片于限位框内并施力按压，电子芯片经由测试结构与检测电路连通，以此实现电子芯片的性能检测。
2、目前，电子芯片的检测装置多采用开尔文测试方法进行芯片的性能测试，其亦被称之为四端子检测(4t检测，4t sensing)、四线检测或4点探针法，是一种电阻抗测量技术，使用单独的对载电流和电压检测电极，相比传统的两个终端(2t)传感能够进行更精确的测量，开尔文四线检测被用于一些欧姆表和阻抗分析仪，并在精密应变计和电阻温度计的接线配置，也可用于测量薄膜的薄层或芯片的电阻。
3、现有技术中，多采用与检测电路连接的金属弹片来与电子芯片的管脚接触，以此实现针对电子芯片的开尔文测试。在一些测试中，芯片的一个管脚需要同时与两个金属弹片接触，以实现多触点测试，但是，目前的测试装置中，两个金属弹片与管脚之间的接触位置距离相差较远，影响测试的准确性。
技术实现思路
1、为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型提供一种测试结构及测试装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
2、本实用新型解决现有技术中的问题所采用的技术方案为：一种测试结构，包括第一测试片和第二测试片；
3、所述第一测试片包括第一主体部以及设置于所述第一主体部一端的第一接触部，所述第一接触部用于与芯片的管脚接触；
4、所述第二测试片包括第二主体部以及设置于所述第二主体部一端的第二接触部，所述第二接触部同样用于与所述管脚接触；其中，
5、所述第一主体部和第二主体部在第一方向上间隔设置，且所述第二主体部位于所述第一主体部的上方，所述第一接触部和第二接触部在第二方向上间隔设置，且所述第一接触部在所述第二接触部远离所述第二主体部的一端，所述第一方向和第二方向相互垂直；
6、所述第一接触部在第一方向上设置有高于所述第二接触部的凸出部，所述凸出部在第一方向上具有与所述管脚接触的第一接触端面，所述第二接触部在第一方向上具有与所述管脚接触的第二接触端面；以及
7、所述凸出部靠近所述第二接触部的侧面相对于第一接触部靠近所述第二接触部的侧面更靠近所述第二接触部。
8、也就是说，本申请的测试结构中，管脚分别与第一测试片和第二测试片接触的触点位置之间的距离短，能够提高芯片检测的准确性。
9、作为本实用新型的优选方案，所述凸出部靠近所述第二接触部的侧面中至少部分与所述第二接触部靠近所述第一接触部的侧面在同一个沿第一方向的直线上。
10、作为本实用新型的优选方案，所述凸出部中靠近所述第二接触部的侧面包括相互连接的第一侧部和第二侧部，所述第一侧部位于所述第二侧部上方，所述第一侧部与所述第二接触部中靠近所述第一接触部的侧面在同一个沿第一方向的直线上；以及
11、所述第二侧部的中远离所述第一侧部的一端朝远离所述第二接触部的方向倾斜，以使所述第二侧部为斜面。
12、作为本实用新型的优选方案，所述第一接触部靠近所述第二接触部一侧的侧面中，所述侧面远离所述凸出部的一端朝远离所述第二接触部的方向倾斜，以使所述第一接触部靠近所述第二接触部一侧的侧面为斜面。
13、作为本实用新型的优选方案，所述第二接触部靠近所述第一接触部的侧面中至少有一部分为斜面；以及
14、斜面部分的所述第二接触部的侧面中远离所述第二接触端面的一端朝远离所述第一接触部的方向倾斜。
15、作为本实用新型的优选方案，所述第一接触端面包括接触斜面，所述接触斜面中远离所述第一主体部的一端朝远离所述第二接触端面的方向倾斜。
16、作为本实用新型的优选方案，所述第一接触端面还包括有接触平面，所述接触平面连接于所述接触斜面靠近所述第一主体部的一端。
17、作为本实用新型的优选方案，所述斜面为弧形结构，所述弧形结构的接触斜面与所述管脚上的弧形结构相接触。
18、作为本实用新型的优选方案，所述第二接触端面为平面。
19、一种测试装置，包括以上任意一项所述的测试结构。
1.一种测试结构，其特征在于，包括第一测试片和第二测试片；
2.根据权利要求1所述的一种测试结构，其特征在于，所述凸出部靠近所述第二接触部的侧面中至少部分与所述第二接触部靠近所述第一接触部的侧面在同一个沿第一方向的直线上。
3.根据权利要求1所述的一种测试结构，其特征在于，所述凸出部中靠近所述第二接触部的侧面包括相互连接的第一侧部和第二侧部，所述第一侧部位于所述第二侧部上方，所述第一侧部与所述第二接触部中靠近所述第一接触部的侧面在同一个沿第一方向的直线上；以及
4.根据权利要求1所述的一种测试结构，其特征在于，所述第一接触部靠近所述第二接触部一侧的侧面中，所述侧面远离所述凸出部的一端朝远离所述第二接触部的方向倾斜，以使所述第一接触部靠近所述第二接触部一侧的侧面为斜面。
5.根据权利要求4所述的一种测试结构，其特征在于，所述第二接触部靠近所述第一接触部的侧面中至少有一部分为斜面；以及
6.根据权利要求1所述的一种测试结构，其特征在于，所述第一接触端面包括接触斜面，所述接触斜面中远离所述第一主体部的一端朝远离所述第二接触端面的方向倾斜。
7.根据权利要求6所述的一种测试结构，其特征在于，所述第一接触端面还包括有接触平面，所述接触平面连接于所述接触斜面靠近所述第一主体部的一端。
8.根据权利要求6所述的一种测试结构，其特征在于，所述斜面为弧形结构，所述弧形结构的接触斜面与所述管脚上的弧形结构相接触。
9.根据权利要求8所述的一种测试结构，其特征在于，所述第二接触端面为平面。
10.一种测试装置，其特征在于，包括如权利要求1至9任意一项所述的测试结构。
