本技术涉及废气处理，尤其涉及一种半导体废气处理设备。
背景技术：
1、在半导体制造生产过程中，生产环节会生产大量工艺有害废气，有害废气处理是生产过程中不可缺少的环节。现有技术中提供一种电加热设备，废气管路设置在盖体中心，多个加热器环绕盖体中心的废气管路设置并伸入反应腔内，有害废气通过位于盖体中心的废气管路进入反应腔，通过加热器加热有害废气，以使得有害废气在反应腔内发生反应，从而实现对废气处理的目的。
2、然而现有技术中多个加热器分散在废气管路的四周，废气通过盖体中心的废气管路进入反应腔内后，反应腔中间温度较低，四周温度较高，废气受热不均，造成废气处理效率低下，影响了生产效率。
技术实现思路
1、本实用新型提供一种半导体废气处理设备，用以解决上述技术问题中的至少一项技术缺陷，可以使得废气进入反应腔内后，受热均匀，从而提高废气处理效率，提高生产效率。
2、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，包括：
3、设备本体；
4、盖体，盖设于所述设备本体，并与所述设备本体围设出反应腔，所述盖体连接有废气管路和辅助气体管路；
5、一个加热器，设于所述盖体的中心，并伸入所述反应腔。
6、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，所述盖体设有安装孔，一个所述加热器螺纹连接于所述安装孔。
7、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，一个所述加热器设置有第一法兰，所述盖体设置有第二法兰，所述第一法兰可拆卸连接于所述第二法兰。
8、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，所述废气管路设有至少两个，至少两个所述废气管路环绕设置在所述加热器的圆周方向。
9、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，每个所述废气管路包括相互连接的第一管段和第二管段，所述第一管段和所述第二管段之间互呈夹角设置；
10、所述第一管段穿设于所述盖体，所述第二管段位于所述反应腔。
11、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，所述第一管段和所述第二管段之间的夹角大于90°，且所述第一管段和所述第二管段之间的夹角小于180°。
12、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，所述半导体废气处理设备还包括刮刀组件，所述刮刀组件沿所述设备本体的轴向环绕设置在所述反应腔的内壁。
13、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，所述刮刀组件包括刮刀本体，所述刮刀本体呈螺旋状，所述刮刀本体转动设置于所述设备本体。
14、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，所述刮刀组件还包括驱动件，所述驱动件设于所述设备本体，所述驱动件与所述刮刀本体传动连接，用于驱动所述刮刀本体进行旋转。
15、根据本实用新型提供一种半导体废气处理设备，所述废气管路设有流量控制阀；
16、所述反应腔设置有温度传感器。
17、本实用新型提供一种半导体废气处理设备，通过在设备本体上盖设盖体，这样，即可通过中空的设备本体和盖体围成一个反应腔，以提供废气处理的反应环境；另外，在盖体上连接废气管路和辅助气体管路，即可将废气和辅助气体导入反应腔内，为废气反应提供合适的气体环境，进一步地在盖体中心设置一个加热器并令其深入反应腔内，这样，由于加热器是从盖体中心穿入至反应腔，加热器的轴线与反应腔的中心线重合，通过一个加热器工作，热量由反应腔中心向反应腔四周均匀传递，即可实现对反应腔内的混合气体均匀加热，为废气处理提供均匀的加热环境，进而可以提高反应效率。
18、相比于现有技术，本实用新型提提供的一种半导体废气处理设备，通过设置一个加热器，将设备本体小型化，能够减少设备复杂程度。令废气管路环绕设置在一个加热器的周围，将加热器布设在盖体中心，这样，废气通过废气管路进入反应腔后，废气均匀环绕在一个加热器周围，废气可以被均匀加热，从而提高了废气的处理效率，提高了生产效率。另外，由于装置简单可移动，这样，便于维护且可以根据实际空间进行合理放置该半导体废气处理设备，从而提高空间利用率。
1.一种半导体废气处理设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的半导体废气处理设备，其特征在于，所述盖体设有安装孔，一个所述加热器螺纹连接于所述安装孔。
3.根据权利要求1所述的半导体废气处理设备，其特征在于，一个所述加热器设置有第一法兰，所述盖体设置有第二法兰，所述第一法兰可拆卸连接于所述第二法兰。
4.根据权利要求1所述的半导体废气处理设备，其特征在于，所述废气管路设有至少两个，至少两个所述废气管路环绕设置在所述加热器的圆周方向。
5.根据权利要求4所述的半导体废气处理设备，其特征在于，每个所述废气管路包括相互连接的第一管段和第二管段，所述第一管段和所述第二管段之间互呈夹角设置；
6.根据权利要求5所述的半导体废气处理设备，其特征在于，所述第一管段和所述第二管段之间的夹角大于90°，且所述第一管段和所述第二管段之间的夹角小于180°。
7.根据权利要求1至6任一项所述的半导体废气处理设备，其特征在于，所述半导体废气处理设备还包括刮刀组件，所述刮刀组件沿所述设备本体的轴向环绕设置在所述反应腔的内壁。
8.根据权利要求7所述的半导体废气处理设备，其特征在于，所述刮刀组件包括刮刀本体，所述刮刀本体呈螺旋状，所述刮刀本体转动设置于所述设备本体。
9.根据权利要求8所述的半导体废气处理设备，其特征在于，所述刮刀组件还包括驱动件，所述驱动件设于所述设备本体，所述驱动件与所述刮刀本体传动连接，用于驱动所述刮刀本体进行旋转。
10.根据权利要求1至6任一项所述的半导体废气处理设备，其特征在于，所述废气管路设有流量控制阀；
