本公开涉及显示，尤其涉及一种显示基板及制造方法和显示装置。
背景技术：
1、自发光类显示面板，例如oled(organic light-emitting diode，有机发光二极管)，qled(quantum dot light emitting diodes，量子点发光二极管)等已经被越来越广泛的应用在手机、平板电脑、电视、车载显示屏等各种显示装置中。随着这些显示面板在手机、平板电脑、电视等中尺寸的产品应用，对显示面板的亮度需求越来越高，因此如何高效开发具有更高亮度的自发光类显示面板的需求愈加迫切。
技术实现思路
1、鉴于上述问题，本公开提供了一种显示基板及制造方法和显示装置，能够进一步提高显示亮度。
2、第一方面，本公开通过一实施例提供如下的技术方案：
3、一种显示基板，具有显示区，所述显示基板包括：
4、衬底基板；
5、平坦层，设置在所述衬底基板的一侧；所述平坦层包括微透镜结构，所述微透镜结构在所述衬底基板上的正投影与所述显示区至少部分重叠；所述微透镜结构包括设定区，所述设定区的坡角为30°～45°，且在垂直于所述衬底基板的方向上，所述设定区的坡角随高度的增加呈单调递减；
6、第一电极、传输功能层和发光层，依次层叠在所述平坦层的远离所述衬底基板的一侧；所述发光层包括第一区域和位于所述第一区域至少一侧的第二区域，所述第一区域在所述衬底基板上的正投影与所述设定区在所述衬底基板上的正投影重合；在垂直所述衬底基板的方向上，所述发光层在所述第一区域内的厚度小于在所述第二区域内的厚度。
7、在一些实施例中，所述微透镜结构包括凸起部和凹陷部，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述凸起部的坡角随高度的增加呈单调递减，所述凹陷部的坡角随高度的增加呈单调递增；
8、所述设定区在所述衬底基板上的正投影位于所述凸起部在所述衬底基板上的正投影之内，所述传输功能层在所述衬底基板上的正投影位于所述凹陷部在所述衬底基板上的正投影之内。
9、在一些实施例中，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述凸起部的凸起高度为0.7μm～2μm，所述凹陷部的凹下深度为0.7μm～2μm；
10、在所述衬底基板的表面方向上，所述凸起部的直径不超过1μm，相邻两个凸起部之间的间距为3μm～5.5μm。
11、在一些实施例中，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述传输功能层的厚度为0.2μm～0.7μm。
12、在一些实施例中，在垂直所述衬底基板的方向上，所述发光层在所述凸起部处的厚度小于所述发光层在所述凹陷部处的厚度。
13、在一些实施例中，在垂直所述衬底基板的方向上，所述发光层在所述第一区域内的厚度不超过100nm，在所述第二区域内的厚度不超过300nm。
14、在一些实施例中，所述第一电极为阳极，所述传输功能层为空穴注入层。
15、第二方面，基于同一发明构思，本公开通过一实施例提供如下技术方案：
16、一种显示基板的制造方法，所述显示基板具有显示区，所述制造方法包括：
17、提供衬底基板；
18、在所述衬底基板上形成平坦层；所述平坦层包括微透镜结构，所述微透镜结构在所述衬底基板上的正投影与所述显示区至少部分重叠；所述微透镜结构包括设定区，所述设定区的坡角为30°～45°，且在垂直于所述衬底基板的方向上，所述设定区的坡角随高度的增加呈单调递减；
19、在所述平坦层上形成第一电极、传输功能层和发光层；所述发光层包括第一区域和位于所述第一区域至少一侧的第二区域，所述第一区域在所述衬底基板上的正投影与所述设定区在所述衬底基板上的正投影重合；在垂直所述衬底基板的方向上，所述发光层在所述第一区域内的厚度小于在所述第二区域内的厚度。
20、在一些实施例中，所述在所述平坦层上形成第一电极、传输功能层和发光层，包括：
21、在所述平坦层上形成所述第一电极；
22、在所述第一电极上形成像素定义层；所述像素定义层包括用于露出所述微透镜结构的开口；
23、采用喷墨打印方法，在所述微透镜结构内形成所述传输功能层；
24、在所述传输功能层上形成所述发光层。
25、第三方面，基于同一发明构思，本公开通过一实施例提供如下技术方案：
26、一种显示装置，包括第一方面实施例提供的显示基板。
27、通过本公开的一个或者多个技术方案，本公开具有以下有益效果或者优点：
28、本公开提供了一种显示基板，通过在平坦层上形成微透镜结构，微透镜具有坡角为30°～45°的设定区，且设定区的坡角随高度的增加而单调递减，表明设定区的位置靠近微透镜结构的顶端区域；微透镜结构上依次层叠有第一电极、传输功能层和发光层，发光层包括第一区域和第二区域；其中，发光层在第一区域内的厚度小于其在第二区域内的厚度，如此在通过相同电流的前提下，第一区域的发光层具有更大的电流密度，故而第一区域为发光层的主要发光区域；再结合第一区域在衬底基板上的正投影与设定区在衬底基板上的正投影重合，即主要发光区域位于设定区，实现了主要发光区域的上移且具有30°～45°的坡角，如此一方面可以减少自发光的界面全反射并增加光取出效率，另一方面可以减少发光区域的发光面积，增加电流密度，提高发光效率，进而提高了显示亮度。
29、上述说明仅是本公开技术方案的概述，为了能够更清楚了解本公开的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本公开的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本公开的具体实施方式。
1.一种显示基板，其特征在于，具有显示区，所述显示基板包括：
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述微透镜结构包括凸起部和凹陷部，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述凸起部的坡角随高度的增加呈单调递减，所述凹陷部的坡角随高度的增加呈单调递增；
3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述凸起部的凸起高度为0.7μm～2μm，所述凹陷部的凹下深度为0.7μm～2μm；
4.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述传输功能层的厚度为0.2μm～0.7μm。
5.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在垂直所述衬底基板的方向上，所述发光层在所述凸起部处的厚度小于所述发光层在所述凹陷部处的厚度。
6.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在垂直所述衬底基板的方向上，所述发光层在所述第一区域内的厚度不超过100nm，在所述第二区域内的厚度不超过300nm。
7.如权利要求1～6任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极为阳极，所述传输功能层为空穴注入层。
8.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述显示基板具有显示区，所述制造方法包括：
9.如权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述在所述平坦层上形成第一电极、传输功能层和发光层，包括：
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～7任一项所述的显示基板。
