本发明涉及显示，尤其涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
背景技术：
1、有机发光二极管显示装置(organic light emitting diode,简称oled)作为一种新型的平板显示逐渐受到更多的关注。oled为主动发光元件，具有亮度高、色彩饱和、超薄、广视角、较低耗电、极高反应速度和可弯曲等优点，能够较好地满足用户个性化的需求。随着显示技术的不断发展，以oled为发光元件、由薄膜晶体管(thin film transistor,简称tft)进行信号控制的显示装置已成为目前显示领域的主流产品。
技术实现思路
1、本公开实施例提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置，能够提升产品品质。
2、本公开实施例所提供的技术方案如下：
3、第一方面，本公开实施例提供了一种显示基板，其包括：
4、衬底基板；
5、设置于所述衬底基板上的驱动电路层和像素界定层，所述驱动电路层位于所述像素界定层和所述衬底基板之间，所述像素界定层限定出多个间隔设置的像素开口；
6、隔离柱，所述隔离柱位于相邻的像素开口之间，且位于所述像素界定层的远离所述衬底基板的一侧；
7、多个发光元件，每个所述发光元件设置于对应的所述像素开口中；
8、薄膜封装层，设置于所述发光元件的远离所述衬底基板的一侧，以封装所述发光元件；其中，
9、所述像素界定层包括基底膜层、及随形覆盖在所述基底膜层的远离所述衬底基板的一侧的降反膜层。
10、示例性的，所述基底膜层选用吸水率低于阈值的有机绝缘材料或无机绝缘材料制成。
11、示例性的，所述降反膜层的反射率大于或等于50％。
12、示例性的，所述降反膜层包括金属降反膜层。
13、示例性的，所述金属降反膜层的材料选用氮化钛、钼中至少一种。
14、示例性的，所述基底膜层的邻近所述像素开口的一侧呈具有第一坡度角α的斜坡状，所述降反膜层在邻近所述像素开口的一侧呈具有第二坡度角β的斜坡状，其中所述第一坡度角α的取值范围为30°≤α≤50°，所述第二坡度角β的取值范围为20°≤β≤30°。
15、示例性的，所述显示基板还包括：设于所述衬底基板之上的触控功能层及彩膜层，其中
16、所述触控功能层包括第一触控层和第二触控层，所述第一触控层和所述第二触控层的图案彼此连接形成多个触控电极图案，且所述第一触控层和所述第二触控层中的至少一者位于所述薄膜封装层的远离所述衬底基板的一侧；
17、所述彩膜层位于所述触控功能层的远离所述衬底基板的一侧，所述彩膜层包括彩膜图形和黑矩阵图形，所述黑矩阵图形在所述衬底基板上的正投影与所述隔离柱在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠。
18、示例性的，所述第一触控层位于所述第一触控层的远离所述衬底基板的一侧；其中，所述第二触控层与所述降反膜层同层且同材质设置，且所述降反膜层的部分图案被配置形成为所述第二触控层的图案。
19、第二方面，本公开实施例还提供了一种显示装置，其包括如上所述的显示基板。
20、第三方面，本公开实施例还提供了一种显示基板的制造方法，用于制造如上所述的显示基板，所述方法包括如下步骤：
21、提供一衬底基板；
22、在所述衬底基板上形成驱动电路层；
23、在所述驱动电路层背向所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出多个像素开口，且所述像素界定层包括基底膜层、及随形覆盖在所述基底膜层的远离所述衬底基板的一侧的降反膜层；
24、在所述像素界定层的远离所述衬底基板的一侧形成隔离柱，其中所述隔离柱设置在相邻的像素开口之间；
25、制作发光元件，其中所述发光元件至少部分设置在对应的所述像素开口中；
26、在所述发光元件的远离所述衬底基板的一侧形成薄膜封装层，以封装所述发光元件。
27、本公开实施例所带来的有益效果如下：
28、本公开实施例所提供的显示基板及其制造方法、显示装置中，包括像素界定层、隔离柱、发光元件和薄膜封装层，其中所述像素界定层上限定出多个像素开口，每个所述发光元件至少部分设置于对应的所述像素开口中，所述隔离柱设置在相邻的像素开口之间，所述薄膜封装层可封装所述发光元件。换言之，所述显示基板采用子像素封装结构设计。通过将所述像素界定层设计为包括堆叠设置的基底膜层和降反膜层，可以起到降低像素界定层反射率；同时，还可以使得所述基底膜层的材料选择更为灵活，满足子像素封装设计工艺制程中刻蚀等工序条件要求，从而降低工艺条件对像素界定层材料限制而导致的产品不良风险。
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基底膜层选用吸水率低于阈值的有机绝缘材料或无机绝缘材料制成。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述降反膜层的反射率大于或等于50％。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述降反膜层包括金属降反膜层。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述金属降反膜层的材料选用氮化钛、钼中至少一种。
6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基底膜层的邻近所述像素开口的一侧呈具有第一坡度角α的斜坡状，所述降反膜层在邻近所述像素开口的一侧呈具有第二坡度角β的斜坡状，其中所述第一坡度角α的取值范围为30°≤α≤50°，所述第二坡度角β的取值范围为20°≤β≤30°。
7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：
8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：
9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述第一触控层位于所述第一触控层的远离所述衬底基板的一侧；其中，所述第二触控层与所述降反膜层同层且同材质设置，且所述降反膜层的部分图案被配置形成为所述第二触控层的图案。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的显示基板。
11.一种显示基板的制造方法，其特征在于，用于制造如权利要求1至9任一项所述的显示基板，所述方法包括如下步骤：
