本发明涉及半导体，尤其涉及一种等离子体源机构。
背景技术：
1、目前，在等离子体源机构的线圈系统中，线圈模块由于线圈磁场的原因，相同电流下线圈内外产生的磁感应强度不同，进而导致线圈内外的离子速率不一致，从而影响射频电源的输出精度，功放效果较差。
2、上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
技术实现思路
1、本发明的主要目的在于提供一种等离子体源机构，旨在解决现有技术中等离子体源机构内线圈由于线圈磁场的原因导致线圈内外的离子速率不一致，从而影响射频电源的输出精度，功放效果较差的技术问题。
2、为实现上述目的，本发明提出一种等离子体源机构，应用于具有真空腔室的真空腔体设备，所述等离子体源机构包括：辅助线圈模块以及带有主线圈的主线圈模块；
3、其中，所述辅助线圈模块内设置有用于产生辅助磁场的辅助线圈，所述主线圈用于产生交流磁场，且所述交流磁场与所述辅助磁场之间存在相互作用部分；
4、所述辅助线圈模块，用于通过所述辅助磁场对所述交流磁场的磁场强度进行均衡，以使对所述主线圈内的离子流速进行均衡。
5、可选地，所述辅助线圈模块包括：检测模块以及辅助电源模块；
6、其中，所述辅助电源模块分别与所述检测模块和所述辅助线圈连接；
7、所述检测模块，用于对所述交流磁场的磁场强度进行检测，并在所述交流磁场的磁场强度低于预设磁场强度阈值时，将产生的检测信号传输至所述辅助电源模块；
8、所述辅助电源模块，用于在接收到所述检测信号时，对所述辅助线圈进行供电，以使所述辅助线圈产生所述辅助磁场。
9、所述辅助电源模块包括：控制单元以及辅助电源；
10、其中，所述控制单元分别与所述检测模块和所述辅助电源连接，所述辅助电源还与所述辅助线圈连接；
11、所述控制单元，用于在接收到所述检测信号时，将所述辅助电源提供的供电电流传输至所述辅助线圈进行供电。
12、可选地，所述控制单元，还用于在接收到所述检测信号时，对传输至所述辅助线圈的所述供电电流进行递增，以使对所述辅助线圈产生的所述辅助磁场的磁场强度进行递增。
13、可选地，所述检测模块，还用于在检测到均衡后的所述交流磁场的磁场强度达到所述预设磁场强度阈值时，将产生的恒定信号传输至所述控制单元；
14、所述控制单元，还用于在接收到所述恒定信号时，将所述供电电流的当前电流值作为恒定电流值，并按照所述恒定电流值将所述供电电流传输至所述辅助线圈进行供电。
15、可选地，所述辅助线圈的数量至少为两个，且各所述辅助线圈依次串联连接。
16、可选地，所述主线圈模块中的主线圈的数量至少为两个，且各所述主线圈依次排列设置，各所述辅助线圈依次环绕设置于所述主线圈模块外周。
17、可选地，各所述主线圈处于同一水平面，且各所述辅助线圈所处的水平面与所述主线圈所处的水平面相同。
18、可选地，所述主线圈模块相对两侧的所述辅助线圈数量相同，且呈对称分布。
19、可选地，所述主线圈模块相邻两侧的所述辅助线圈的数量不同；
20、可选地，所述主线圈模块包括：主电源和功率放大模块；
21、其中，所述功率放大模块分别与所述主电源和所述主线圈连接；
22、所述功率放大模块，用于对所述主电源提供的电源信号进行功率放大，并将放大后的电源信号传输至所述主线圈，以使所述主线圈产生所述交流磁场。
23、本发明提出一种等离子体源机构，该等离子体源机构包括：辅助线圈模块以及带有主线圈的主线圈模块；其中，所述辅助线圈模块内设置有用于产生辅助磁场的辅助线圈，所述主线圈用于产生交流磁场，且所述交流磁场与所述辅助磁场之间存在相互作用部分；所述辅助线圈模块，用于通过所述辅助磁场对所述交流磁场的磁场强度进行均衡，以使对所述主线圈内的离子流速进行均衡。由于本发明通过辅助线圈模块产生的辅助磁场对主线圈模块产生的交流磁场进行均衡，进而实现对主线圈内的离子流速进行均衡。相比于现有的线圈内外的离子速率不一致，本发明可通过辅助磁场使主线圈内的离子流速均衡，进而提升输出精度，改善功放效果。
1.一种等离子体源机构，应用于具有真空腔室的真空腔体设备，其特征在于，所述等离子体源机构包括：辅助线圈模块以及带有主线圈的主线圈模块；
2.如权利要求1所述的等离子体源机构，其特征在于，所述辅助线圈模块包括：检测模块以及辅助电源模块；
3.如权利要求2所述的等离子体源机构，其特征在于，所述辅助电源模块包括：控制单元以及辅助电源；
4.如权利要求3所述的等离子体源机构，其特征在于，所述控制单元，还用于在接收到所述检测信号时，对传输至所述辅助线圈的所述供电电流进行递增，以使对所述辅助线圈产生的所述辅助磁场的磁场强度进行递增。
5.如权利要求4所述的等离子体源机构，其特征在于，所述检测模块，还用于在检测到均衡后的所述交流磁场的磁场强度达到所述预设磁场强度阈值时，将产生的恒定信号传输至所述控制单元；
6.如权利要求1至5中任一项所述的等离子体源机构，其特征在于，所述辅助线圈的数量至少为两个，且各所述辅助线圈依次串联连接。
7.如权利要求6所述的等离子体源机构，其特征在于，所述主线圈模块中的主线圈的数量至少为两个，且各所述主线圈依次排列设置，各所述辅助线圈依次环绕设置于所述主线圈模块外周。
8.如权利要求7所述的等离子体源机构，其特征在于，各所述主线圈处于同一水平面，且各所述辅助线圈所处的水平面与所述主线圈所处的水平面相同。
9.如权利要求8所述的等离子体源机构，其特征在于，所述主线圈模块相对两侧的所述辅助线圈数量相同，且呈对称分布。
10.如权利要求9所述的等离子体源机构，其特征在于，所述主线圈模块相邻两侧的所述辅助线圈的数量不同。
11.如权利要求1所述的等离子体源机构，其特征在于，所述主线圈模块包括：主电源和功率放大模块；
