一种真菌形态学培养装置的制作方法

专利检索2025-03-27  16


本技术涉及微真菌培养,尤其涉及一种真菌形态学培养装置。


背景技术:

1、真菌感染可引起的疾病成为真菌病,根据侵犯人体部位的不同,可以将真菌感染性疾病分为浅表真菌感染、皮肤真菌感染、皮下组织真菌感染和系统性真菌感染,其中浅表真菌感染和皮肤真菌感染统称为浅部真菌感染,皮下组织真菌感染和系统性真菌感染统称为侵袭性真菌感染,临床上常用的真菌感染的诊断方法主要有直接涂片法、真菌培养法、病理学组织检查等方法,真菌培养是实验室检查中的重要环节,培养出致病真菌是进一步鉴定菌种的前提条件。

2、在实验室中,真菌培养大多以小培养法来观察其形态变化,真菌一般放在培养皿中的固态培养基中进行培养,培养一定时间后通过接种环转移至显微镜下进行形态学鉴定,以便观察了解真菌的培养生长情况,但是在真菌转移至显微镜下的过程中,受空气流动影响,菌丝和孢子易挥发,容易污染实验室,对实验环境造成很大的影响。

3、因此,亟需提供一种真菌形态学培养装置,相对于现有技术,避免真菌培养污染实验室,同时避免生物危害。


技术实现思路

1、本实用新型解决现有技术存在的技术问题,本实用新型提供了一种真菌形态学培养装置。

2、为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:

3、一种真菌形态学培养装置,包括载玻片、培养皿和盖玻片,所述载玻片一侧侧壁固定连接所述培养皿,所述培养皿内部设有培养内腔,所述盖玻片覆盖所述培养内腔设置,所述盖玻片与所述培养皿连接;

4、所述培养皿侧壁设有接种通孔,所述接种通孔与所述培养内腔连通,所述接种通孔内部安装有内塞。

5、进一步地,所述内塞包括圆柱部和圆台部,所述圆台部的最大直径端与所述圆柱部一端面一体连接;所述接种通孔的内径大于圆台部最小直径端外经,且,所述接种通孔的内径小于圆台部最大直径端外经。

6、更进一步地,所述圆台部最大直径端外经小于所述圆柱部外径。

7、进一步地,所述培养皿远离所述载玻片一端面固定连接超声波焊接轨道,所述盖玻片外部套设有固定盖,所述固定盖与所述超声波焊接轨道通过超声波焊接。

8、更进一步地,所述培养皿远离所述载玻片一端面设有安装槽,所述超声波焊接轨道固定连接在安装槽内部,所述安装槽与所述超声波焊接轨道都为环形。

9、更进一步地,所述超声波焊接轨道与所述固定盖为同一材质。

10、进一步地,所述培养皿与所述盖玻片通过uv胶粘接。

11、更进一步地,所述载玻片设置所述培养皿一侧侧壁还设有多个标记区,所述标记区分布在所述培养皿两侧。

12、更进一步地,所述培养皿通过底座与所述载玻片固定连接,所述培养皿与所述底座一体连接,所述底座嵌设在所述载玻片侧壁内。

13、与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:

14、(1)本实用新型载玻片侧壁设置培养皿,培养皿内部设有培养内腔,盖玻片覆盖培养内腔设置,盖玻片与培养皿通过超声波焊接或粘接,培养皿侧壁设有接种通孔,接种通孔与培养内腔连通,接种通孔内部安装有内塞,在通过接种通孔向培养内腔接种完真菌后,将内塞安装在接种通孔处,既能防止培养内腔中的水分流失,延长培养基的保质期,还能避免生物危害;同时直接将载玻片放置在显微镜下,即可观察真菌生长情况,同时也能避免真菌培养污染实验室。



技术特征:

1.一种真菌形态学培养装置,其特征在于,包括载玻片、培养皿和盖玻片,所述载玻片一侧侧壁固定连接所述培养皿,所述培养皿内部设有培养内腔,所述盖玻片覆盖所述培养内腔设置,所述盖玻片与所述培养皿连接;

2.根据权利要求1所述的一种真菌形态学培养装置,其特征在于,所述培养皿远离所述载玻片一端面设有安装槽,所述超声波焊接轨道固定连接在安装槽内部,所述安装槽与所述超声波焊接轨道都为环形。

3.根据权利要求1或2所述的一种真菌形态学培养装置,其特征在于,所述超声波焊接轨道与所述固定盖为同一材质。

4.根据权利要求3所述的一种真菌形态学培养装置,其特征在于,所述载玻片设置所述培养皿一侧侧壁还设有多个标记区,所述标记区分布在所述培养皿两侧。

5.根据权利要求3所述的一种真菌形态学培养装置,其特征在于,所述培养皿通过底座与所述载玻片固定连接,所述培养皿与所述底座一体连接,所述底座嵌设在所述载玻片侧壁内。


技术总结
本技术涉及微真菌培养技术领域,尤其涉及一种真菌形态学培养装置;包括载玻片、培养皿和盖玻片,所述载玻片一侧侧壁固定连接所述培养皿,所述培养皿内部设有培养内腔,所述盖玻片覆盖所述培养内腔设置,所述盖玻片与所述培养皿连接;所述培养皿侧壁设有接种通孔,所述接种通孔与所述培养内腔连通,所述接种通孔内部安装有内塞;在通过接种通孔向培养内腔接种完真菌后,将内塞安装在接种通孔处,既能防止培养内腔中的水分流失,延长培养基的保质期,还能避免生物危害;同时直接将载玻片放置在显微镜下,即可观察真菌生长情况,同时也能避免真菌培养污染实验室。

技术研发人员:乌月恒,邓存兴,陈东科
受保护的技术使用者:珠海美华医疗科技有限公司
技术研发日:20230824
技术公布日:2024/5/29
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