一种提拉干燥设备的制作方法

专利检索2025-02-10  34


本申请属于晶圆干燥设备,尤其是涉及一种提拉干燥设备。


背景技术:

1、提拉干燥设备是晶圆生产设备中常见的一种干燥设备。其常见结构见中国专利文献cn116682756a,包括:

2、槽体,用于容纳晶圆并对晶圆进行清洗。

3、盖体,设置在槽体上方,能够在平移机构带动下到达或者离开所述槽体的开口处,所述盖体内壁上设置有晶圆导向槽,盖体离开所述槽体的开口处时,即可通过机械手向槽体内置入晶圆,或者将晶圆从槽体内取出。

4、水气供给系统,用于向槽体通入清洗用水,向盖体中通入干燥用气体。

5、晶圆升降机构,用于带动晶圆做升降运动,晶圆先在槽体内进行清洗,清洗完毕后,在升降过程中将晶圆从晶圆盒中分离并将晶圆沿晶圆导向槽送入盖体内,此时,盖体要对准槽体的开口处。当然需要指出的是,一些设备中不使用晶圆盒盛装晶圆,晶圆被直接放置在支撑结构上。然而该文献中,晶圆的支撑仍需晶圆升降机构的支撑座进行支撑,支撑座与晶圆的接触点位于晶圆的最低点,容易汇集液体,导致晶圆难以充分干燥。


技术实现思路

1、本发明要解决的技术问题是:为解决现有技术中的不足,从而提供一种干燥效果好的提拉清洗干燥设备。

2、本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

3、一种提拉干燥设备,包括:

4、槽体,用于容纳晶圆;

5、盖体,设置在槽体上方,能够在平移机构带动下到达或者离开所述槽体的开口处;

6、晶圆升降机构,用于将槽体内的晶圆抬升到所述盖体内或者将所述盖体内的晶圆下降到槽体内;

7、所述盖体包括侧板和顶盖,两侧的所述侧板的内壁具有支撑块和定位块,支撑块由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块处于放行状态时,所述支撑块和定位块上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块和定位块上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构支撑下停留在第一位置处;支撑块处于固定状态时,两侧的支撑块相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,晶圆脱离晶圆升降机构,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度。

8、优选地,本发明的提拉干燥设备,所述支撑块由旋转驱动件驱动而旋转,从而使得支撑块的底部相互靠近。

9、优选地,本发明的提拉干燥设备,所述旋转驱动件位于盖体外部,通过连杆与转轴连接,旋转驱动件和连杆位于盖体后端的保护壳内。

10、优选地,本发明的提拉干燥设备,所述支撑块下方还设置有导向块,支撑块处于放行状态时,所述导向块与所述支撑块上的晶圆限位槽共线。

11、优选地,本发明的提拉干燥设备,所述顶盖为圆柱形面,所述顶盖内还设置有喷气管。

12、优选地,本发明的提拉干燥设备,所述定位块的上方和所述导向块下方设置有喷气管。

13、优选地,本发明的提拉干燥设备,所述定位块的上方的喷气管的出气口对准定位块上的晶圆限位槽;所述导向块下方的喷气管的出气口沿水平方向布置。

14、优选地,本发明的提拉干燥设备,所述导向块,支撑块和定位块上的晶圆限位槽的底部的宽度大于中间位置的宽度。

15、本发明的有益效果是:

16、本申请的提拉干燥设备,在盖体内设置有支撑块,支撑块由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块处于放行状态时,所述支撑块和定位块上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块和定位块上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构支撑下停留在第一位置处;支撑块处于固定状态时,两侧的支撑块相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,将晶圆顶起,晶圆脱离晶圆升降机构,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度,将由于晶圆脱离了升降机构,因此,可以避免升降机构对晶圆的影响,提高了干燥效果。



技术特征:

1.一种提拉干燥设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述支撑块(220)由旋转驱动件(221)驱动而旋转,从而使得所述侧板(202)两侧的两个支撑块(220)的底部相互靠近。

3.根据权利要求2所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述旋转驱动件(221)位于盖体(200)外部,通过连杆(222)与所述支撑块(220)的转轴连接,旋转驱动件(221)和连杆(222)位于盖体(200)后端的保护壳(223)内。

4.根据权利要求1所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述支撑块(220)下方还设置有导向块(210),支撑块(220)处于放行状态时,所述导向块(210)与所述支撑块(220)上的晶圆限位槽共线。

5.根据权利要求1所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述顶盖(201)为圆柱形面,所述顶盖(201)内还设置有喷气管(240)。

6.根据权利要求4所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述定位块(230)的上方和所述导向块(210)下方设置有喷气管(240)。

7.根据权利要求6所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述定位块(230)的上方的喷气管(240)的出气口对准定位块(230)上的晶圆限位槽;所述导向块(210)下方的喷气管(240)的出气口沿水平方向布置。

8.根据权利要求4所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述导向块(210),支撑块(220)和定位块(230)上的晶圆限位槽的底部的宽度大于中间位置的宽度。


技术总结
本申请涉及一种提拉干燥设备,属于对晶圆干燥设备技术领域,本申请的提拉干燥设备,在盖体内设置有支撑块,支撑块由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块处于放行状态时,所述支撑块和定位块上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块和定位块上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构支撑下停留在第一位置处;支撑块处于固定状态时,两侧的支撑块相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,将晶圆顶起,晶圆脱离晶圆升降机构,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度,将由于晶圆脱离了升降机构,因此,可以避免升降机构对晶圆的影响,提高了干燥效果。

技术研发人员:霍召军,王建,刘川,刘青松
受保护的技术使用者:江苏亚电科技股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/5/29
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