本发明有关一种如权利要求1的前言部分所述的euv多反射镜布置，以及有关一种用于具有至少一些euv多反射镜布置的euv装置的照明系统。
背景技术：
1、如今，微影投射曝光方法主要用于生产半导体部件和其他精细结构化部件。在此，使用上是由光罩(倍缩光罩)或其他图案生成装置制成，其携带或形成要成像的结构的图案，例如半导体部件层的线型图案。该图案借助于照明系统进行照明，该照明系统从初级辐射源的辐射形成被引导到该图案上的照明辐射，其特征在于特定的照明参数，并且入射到具有已定义形状和尺寸的照明场内的图案上。通过图案而修改的辐射穿过投影透镜，该投影透镜将图案成像到要曝光的基板上，该基板上涂布辐射敏感层。
2、为了能够生产更精细的结构，近年来已经开发出光学系统，其基本上通过使用来自极紫外光范围(euv)的电磁辐射的短波长，特别是在5nm与30nm之间范围内的工作波长，来获得高解析能力。折射光学元件无法辅助聚焦或引导euv辐射，因为短波长会在较高波长下被透通的已知光学材料吸收。因此，反射镜系统用于euv装置，例如用于euv微影术。
3、根据要成像的结构的类型，通常使用不同的照明模式(亦称为照明设置)，其特征在于照明系统的光瞳平面中照明辐射的不同局部强度分布。为了能够灵活性进行此类设置，照明系统具有光瞳整形单元，用于接收来自初级辐射源的辐射并用于在照明系统的光瞳区域中产生可变设置的二维强度分布。
4、根据一些概念，在光瞳整形单元中使用至少一个可控euv多反射镜布置(多反射镜镜数组，mma)，其中可控euv多反射镜布置具有多重单独反射镜元件，由共同的载体结构承载这些反射镜元件，这些反射镜元件可彼此无关而倾斜，以有目的性的方式将入射到整个反射镜元件上的euv辐射的角度分布进行修改，进而在光瞳平面中实现所需的空间照明强度分布。反射镜面实质上以区域填充方式布置。此多反射镜布置通常亦称为分面镜，以反射镜元件的反射前侧形成多个分面。
5、为了能够有目的性设置可控多反射镜布置的几何反射特性，后者针对每个反射镜元件具有耦合到反射镜元件的致动器系统，用于可控式修改反射镜元件相对于承载反射镜元件的承载结构的指向。通过分配给多反射镜布置的控制单元以控制致动器系统的致动器的致动运动。
6、为了在设置不同的照明设置时获得最大的灵活性，反射镜元件应具有尽可能大的倾斜角范围。如今，最大可设置倾斜角的理想值约是100mrad(毫弧度)或以上。
7、为了捕获反射镜元件各自的当前位置，使用具有传感器的传感器系统，其信号可由控制器处理并且用于指向或倾斜的精确死循环控制。为简化起见，本技术案中的术语“位置”有关位置和指向的组合，通常亦称为“姿态”。在倾斜反射镜中，捕获其位置主要着重于捕获相对于底座元件的指向。可例如通过相对于中性位置(没有倾斜的静止位置)的倾斜角度来量化指向。
8、用于euv微影(lithography)装置的照明系统中，除其他事项外，反射镜元件还必须能够分散euv辐射产生的高热负载，这是因为反射涂层吸收了入射euv辐射的很大一部分能量。进一步的要求有关反射镜元件的高定位精度以及与之相关的，对于干扰诸如温度变化的倾斜的低敏感性。
9、分面的典型横向尺寸大约为数厘米，未来的系统也可在数毫米或以下的范围内(“微镜”)。如此，可设置具有更高局部分辨率的mma的几何光学反射特性。对于生产，来自微机电系统(简称mems)生产领域的技术经常用于生产致动器、传感器和机械组件，诸如，例如悬架系统的组件，以作为mems结构。
10、专利案us2017/363861 a1(对应于专利案de 10 2015 204 874 a1)描述一种使用mems技术生产用于枢转反射镜元件的位移装置，其具有两个枢转自由度。该位移装置包含具有致动器电极的电极结构，这些致动器电极是以梳状电极形式实施，梳状电极布置在单独平面中并形成用于枢转反射镜元件的直接驱动。用于捕获位置或指向的传感器系统包含感测转换器反射镜电极和感测转换器定子电极。
11、专利案wo 2021/032483 a1揭露一种具有可倾斜镜元件的多反射镜布置，其中致动器系统包含压电致动器。设置压电传感器元件，以捕获由压电致动器引起的反射镜元件的位移。
12、根据发明人进行的观察，习知多反射镜布置部分需要相对复杂的生产过程。此外，在高度且可变热负载影响下，性能可能会受到损害。最后，提供可用的大倾斜角度范围可能会很复杂。
技术实现思路
1、在此背景下，本发明的目的是提供一种euv多反射镜装置，其中可用相对简单且较少的制程步骤来生产操作多重数组所需的致动器系统，同时传感器系统对温度波动相对较不敏感。同时，结合大反射镜倾角与高散热性将成为可能。
2、为实现该目的，本发明提供具有如权利要求1所述的特征件的euv多反射镜布置及具有如权利要求14所述的特征件的用于euv装置的照明系统。在附属权利要求中说明特定的有利改良。所有权利要求的用字遣词并入说明书的内容供参考。
3、根据要求保护的发明的euv多反射镜布置具有多重反射镜单元，这些反射镜单元在载体结构上以行和列的形式在二维网格布置逐一布置。这些反射镜单元的每一者具有底座元件及安装成相对于底座元件可独立移动的反射镜元件。每个反射镜单元可具有其自己的底座元件，其可与相邻镜反射镜单元的底座元件分开存在。反射镜单元的底座元件可安装到共同的载体结构，该载体结构可为与底座元件分离的组件。一组相邻的反射镜单元的基体组件也可能形成邻接的底座基板，因此反射镜单元的底座元件由较大底座基板的一部分形成。底座基板可充当载体结构。载体结构和底座元件因此可实施为相同的组件。底座基板可承载许多个反射镜元件，这些反射镜元件例如可采取矩阵方式布置成多行和多列。
4、反射镜元件具有反射镜基板，该反射镜基板在背离底座元件的前表面上带有反射涂层，用于形成反射euv辐射的反射镜面。euv多反射镜布置的反射镜面基本上以区域填充式逐一布置。其因此形成反射总表面，其明显大于独立反射镜面。在直接相邻的反射镜元件之间保留窄间隙，以实现相邻反射镜元件相对于彼此的无碰撞相对运动。
5、每个反射镜单元在底座元件和反射镜基板之间的中间空间中具有悬架系统的组件，用于将反射镜元件可移动式安装在相关联的底座元件上。
6、此外，将致动器系统的多个致动器设置在该处用于产生反射镜元件相对于底座元件的运动，作为对控制信号的接收的反应。可如此以有针对性设置各个反射镜面的不同指向。此外，传感器系统的多个传感器布置在中间空间中，以捕获反射镜面相对于底座元件的相对位置或指向。
7、通过将这些机械和机电组件布置在中间空间中，可获得mma总面积中大部分反射分面的面积，即大填充因子。为了获得高度整合，可在制造过程中使用微机电系统(简称mems)领域的技术来生产致动器元件(致动器系统的多个组件)、机械组件(用于悬架系统的示例组件)和/或传感器元件。可灵活设计悬架系统，特别是在具有mems结构的反射镜单元中，使得其提供恢复力导致反射镜元件在没有致动器力的情况下自动假定零位而不倾斜。现今的mems制程主要基于结构化制程，其中由硅或硅化合物制成的工件进行结构化，并如此设计所需的组件。
8、发明人已经认识到，已知的解决方案，特别是基于电容式致动器系统的解决方案(诸如专利案us2017/363861 a1)需要相对大量的致动器系统安装空间，这会相对导致传感器系统的安装空间变得更小，因此灵敏度也有降低的倾向。此外，可提供实现大倾斜角所需的致动器扭矩的电容式致动器系统似乎需要相对更复杂的设置，这些设置具有多个梳状电极级别，因此由许多层组成，并且需要相应数量的制程步骤。电容式致动器系统的需求概念也对于制程技术有很高的要求，例如，如果为了满足与euv微影装置使用相关的典型要求，则必须生产长宽比值高的结构。
9、除了其他原因外的这些原因，根据要求保护的发明使用压电致动器系统，亦即具有压电致动器的致动器系统，其在本技术中也简称为压电致动器。压电致动器系统可以制造为具有紧凑的总体尺寸并且相对于结构尺寸产生相对较高的力和力矩。因此，即使悬架系统被设计成产生恢复力以便在没有致动器力时，将镜元件移动到其零位，也可以设置相对大的倾斜角。毕竟，弹性悬架系统中的恢复力会随着倾斜角度增加而增加，因此致动器必须克服增加的反作用力才能设置更大的倾斜角度。
10、压电致动器具有至少一个压电组件，即利用压电效应以通过施加电压执行机械运动的可控功能组件。这里的压电致动器利用了所谓的逆压电效应。压电组件可为特定的晶体(压晶体管)或压电陶瓷，即多晶材料。
11、对照下，根据调查因此，电容式操作传感器系统为传感器系统提供了优势，例如在可生产性和性能方面。传感器系统例如可以具有带有至少一个梳状电极的电容式传感器元件。传感器元件可包含具有交替相互啮合的电极板的梳状电极。例如在反射镜元件的下侧和底座元件的上侧可设置电容传感器系统的梳状电极。因此可获得相对较大灵敏度，因为(由于压电致动器系统的需求空间小)传感器系统的可用安装空间相对较大并且可额外地位于反射镜的外部区域中，倾斜时反射镜位移最多的地方。此外，电容式传感器(对罩于，例如，压电式传感器)仅具有低温灵敏度。
12、因此，根据要求保护的发明，电容操作传感器系统，即具有电容工作传感器的传感器系统结合压电操作致动器系统使用。电容式传感器是一种基于单独电容器或电容器系统的电容变化而运作的传感器。优选地，致动器系统的所有致动器都是压电致动器，和/或传感器系统的所有传感器都是电容传感器。
13、悬架系统将反射镜基板机械连接到底座元件。悬架系统可具有，例如，提供所需移动性的弹性和/或柔性部分或组件。悬架系统可包含以铰接方式将前者的组件或部分彼此连接的铰接件，例如以挠曲件的形式。
14、致动器系统可与悬架系统无关所构造并针对反射镜元件的移动提供力和扭矩的系统。悬架系统可设计成没有致动器的被动系统。
15、在优选实施例中，对照下，整合了悬架系统和致动器系统。这是通过悬架系统的部分也作为致动器系统的功能部分，亦即作为致动器，并因此具有双重功能达成。同样可整合传感器系统的多个组件。例如，可将压电式传感器整合到弹簧元件中，其电阻根据弹簧元件的变形而变化。然而，压电式传感器对温度高度敏感。
16、为了能够使用生产微机械系统(mems)领域的技术来实施驱动器、传感器和机械组件，通常选择这些组件的层型结构。为了针对反射镜元件的位置变化实现足够的升力，压电致动器可设计为压电堆形式的多层压电致动器，其中电极层位于各个压电层之间并布置被配置为使得当施加电压时，压电层的厚度且因此电极之间的间距发生变化。如果选择逐层布置多重压电层，则可实现更大的升力。
17、在优选实施例中，压电致动器的形式为多层弯曲压电致动器。后者在以下将简称为弯曲压电致动器。弯曲压电致动器优选配置成在没有控制电压的情况下采用中性形状，例如以逐一其上布置的所有层基本上为平面的方式，使得压电致动器整体上形成平面结构。致动器的纵向方向在致动器端部的链接部位之间延伸。位于致动器的上侧和下侧之间的是(虚拟)中性层，亦即当弯曲压电致动器弯曲时不改变其纵向范围的层。在中性层中，弯曲线在非致动中性状态下的剖面优选为在中性层中沿纵向直线延伸。
18、如果在压电层的上侧和下侧之间施加电压，则弯曲压电致动器在链接位置之间形成弯曲，使得弯曲线变成弯曲的。优选地，致动器的垂直于弯曲线的剖面在此不做改变。电压的施加因此产生平面弯曲，其中不同曲率的弯曲线的剖面都位于相同平面(弯曲平面)中。因此，与链接部位链接的组件相对于彼此枢转，具体上主要绕垂直于弯曲线所在的弯曲平面延伸的虚拟旋转致动轴线。
19、在纯倾斜运动的情况下，致动轴独立于倾斜状态固定位于空间中。然而，在由弯曲压电致动器实现的倾斜的情况下，通常不会产生反射镜元件围绕固定旋转轴的“完美”旋转。典型上，另外发生反射镜面组件向侧面及向上/向下的微小寄生运动。然而，为了本技术案的目的，将倾斜运动描述为围绕致动轴的旋转就足够了。
20、本技术案意义上的多层弯曲压电致动器具有多层结构，该多层结构具有至少压电层及扩充层，其中，在压电层的相对侧，在每个情况下，布置电极层，用于产生在厚度方向上穿透压电层的电场，并且压电层设计为当电压施加到电极层时，压电层在层范围的方向上收缩，导致多层结构弯曲。
21、压电层优选由压电陶瓷材料组成，特别是选自锆钛酸铅(pzt)、铌酸锂、铌酸钾、铌酸钠、pmn-pt、钛酸钡、钛酸铅、石英(＝氧化硅)、氧化锌、氮化铝。通常优选的是锆钛酸铅，即pzt陶瓷。
22、扩充层是为了可弹性变形或可弯曲至有限程度。其可为由非压电材料制成的载体层。载体层优选由硅或硅化合物组成，这尤其在基于硅的mems结构的情况下可特别容易进行制造。多层弯曲致动器(其中单独压电活性层结合非活性层，例如由非压电材料组成的载体层)此处亦称为单层压电片或单晶物，因为活性弯曲仅在一个方向上产生。
23、扩充层也可为另外的压电层，其中共同电极层优选布置在压电层之间。压电层可彼此无关受控制，使得可主动产生两个相反方向的弯曲。此结构在此称为双压电芯片。
24、两个压电层可仅通过插入的共同电极层分开。然而，多层结构可亦这样设置，使得提供由非压电材料如硅制成的载体层，其中在每个情况下，在载体层的两侧布置压电层。双向偏转此也可能。
25、如果需要特别大的力和力矩来移动反射镜元件，则压电致动器也可具有三或多个压电层，特别是四、五或六个压电层，其可彼此无关受控制。如此，可实现更高的致动力。
26、压电致动器可根据其比例来设计，使得其纵向尺寸(在纵向方向或沿弯曲线测量的尺寸)大于与其横向的尺寸，即在宽度方向和高度方向的尺寸。如此，即使在小曲率的压电致动器的情况下，也可在致动器的固定链接端和可移动端之间实现相对大的行程。然而，在优选实施例中，选择与其不同的比例。特别地，压电致动器可具有垂直于弯曲线的优选矩形剖面，其宽度和高度之间的长宽比大于1，其中宽度又大于沿弯曲线的有效长度。
27、有了此既短又宽的形状，可解决euv多反射镜布置的热负载增加等问题。为了能够管理高热负载，设计致动器和链接元件认为有利，总而言之，其具有尽可能低的热阻，进而可确保通过mems结构将热量充分散发到载体组件上，则可避免反射镜单元的组件过热。实现低热阻的贡献是选择尽可能大的连接元件和致动器元件的横剖面积。此外，相对较宽的致动器元件是有利的，因为其降低了热阻并且同时不会对最大倾斜角产生负面影响。
28、如前所述，悬架系统和致动器系统优选地整合在一起，使得悬架系统的多个部分实施为致动器系统的压电致动器。根据改良，此为以悬架系统具有至少一个连接元件群组的实施，该连接元件群组用于将底座元件机械连接到反射镜基板，其中连接元件群组具有两个压电致动器，两者为彼此无关受控制并具有相互正交的旋转致动轴。压电致动器可优选地设计为上述类型的多层弯曲致动器。
29、优选地，悬架系统具有两个连接元件群组，用于将底座元件机械连接到反射镜基板，在每个情况下具有两个整合的压电致动器，这两个压电致动器可彼无关受控制并具有相互正交的旋转致动轴，其中连接元件群组中的每一者具有(i)底座链接元件，其固定链接到底座元件；(ii)第一压电致动器，一端附接底座链接元件；(iii)抗弯连接元件，其附接到第一压电致动器的另一端；及(iv)第二压电致动器，其附接到抗弯连接元件的一端；(v)反射镜链接元件，其固定连接到反射镜元件。
30、在连接元件群组的有利的变体中，两个压电致动器布置成在两者之间有一定距离并经由刚性连接元件来彼此连接，在每个情况下，在插入的连接元件和链接元件之间形成弯曲部(底座元件和反射镜元件)。然而，虽然典型的挠曲件是被动并随着链接元件的对应指向而改变其形状，但在此布置的情况恰恰相反，因为对应链接元件的相对指向是通过压电致动器主动指定或强制的。
31、抗弯连接元件在两个连接的压电致动器之间建立几何定义的连接，即使在力的作用下也不会改变其形状，并且在两个连接的压电致动器之间这种受力程度下是刚性的，压电致动器背对连接元件的端部在一侧附接到底座元件而在另一侧附接到反射镜元件。此布置的有利特性是将致动器元件端部处的倾斜角直接转换为反射镜元件的倾斜角。这将压电致动器元件的弯曲有效地转换为反射镜的倾斜。可通过控制压电致动器来精确指定倾斜的程度，并且完全取决于控制电压。在此直接影响反射镜元件的倾斜位置，而并非经由杠杆产生。
32、在具有带整合压电致动器的两个多铰接连接元件群组的悬架系统中，优选地实施且布置将第一压电致动器定义为第一旋转致动轴线，使得第一旋转致动轴基本上彼此共轴对齐，且优选地实施且布置将第二压电致动器定义为第二旋转致动轴，这使得第二旋转致动轴线基本上彼此共轴并垂直于第一旋转致动轴线对齐。此致动器元件的布置使得在每个情况下，链接的反射镜元件都能以正向和反向围绕两个轴倾斜。通过同时操作多个致动器，可实现反射镜围绕相互正交轴的倾斜组合，使得可设置总体的二维倾斜场。
33、类似于平衡环架(gimbal)，允许围绕两个相互正交的轴旋转的柔性悬架系统在熟习该项技艺者中有时亦称为“万向接头(cardan)”或万向接头悬架系统。
34、如果为了简短的命名而忽略了上述类型的具有两个多铰接连接元件群组的悬架系统除了围绕两个相互正交的致动轴旋转之外还允许反射镜元件和比做组件之间的相对寄生运动，此悬架系统亦可描述为“万向接头(cardan)”。然而，与(被动)万向接头悬挂相比，由于该悬架系统整合了压电致动器而可主动控制，因为可驱动部分的形状及其组件的空间布置可针对性进行修改。
35、在一些实施例中，设计为多层弯曲压电致动器的压电致动器具有反射镜侧端部，反射镜侧端部直接或通过反射镜链接元件连接到反射镜元件的附接面，反射镜链接元件通过刚性链接物而刚性连接到反射镜侧端部。刚性链接是指在端部和反射镜元件之间产生固定角度关系的非铰接连接。不像似杠杆连接或其他类型的铰接连接的情况，其中的角度关系不会根据倾斜角度而改变。刚性链接物优选地设计成使得在压电致动器的每个弯曲位置中的反射镜面与反射镜侧端部切线或平行或几乎平行地对准。这允许在狭窄的中间空间中实现平坦的结构，同时可以获得大的最大倾斜角。
36、根据改良，传感器系统的电容传感器包含至少一个梳状电极形式的传感器元件，亦即具有多重电极板或板型电极指的电极，这些电极板彼此逐一布置相互距离，类似于梳子的尖齿。
37、在一些实施例中，提供了具有交替相互啮合的电极板的成对而相互分配的梳状电极。一对梳状电极优选地形成或布置在反射镜元件的下侧和底座元件的上侧。相互啮合的梳状电极形成电容器，其电容随着反射镜元件的倾斜位置变化而变化。专利案de 10 2015204 874 a1(根据专利案us2017/363861a1)中提供了梳状电极在具有电容式致动器和电容式传感器的反射镜单元中的位置和布置的可能示例。关于传感器的申请案的揭露内容通过引用并入本说明书供参考。
38、在具有两个相互分配的梳状电极和交替相互啮合的电极板的电容传感器中，一对梳状电极中的两个梳状电极电连接到电压源并且处于不同电位。举另一例来说，可提供至少一个电容式传感器，其具有梳状电极，该梳状电极连接到电压源，具有以梳状方式布置且彼此电绝缘的电极板。电气互连设计成使得分别相邻的电极板处于不同的电位，因此可以在相邻的电极板之间建立电场。此梳状电极在工作期间具有多重相互相邻的电容器或电容。提供具有板的电梳状元件作为对应物，这些板彼此间隔开地布置并且在每个情况下在分配的梳状电极的相邻电极板之间的中间空间中接合。由相邻电极板对形成的梳状电极的电容器的电容根据(电被动式)板的穿透深度而变化。梳状元件可为电被动式，因此可省去与电压源的连接。然而，用于屏蔽的梳状物通常保持在已界定的电位，以防止由于euv产生的电浆而充电。
39、传感器系统的所有电容传感器可根据这两个可能性之一来构成和工作。亦可结合这两个类型。
40、电容传感器的传感器元件优选地布置在反射镜单元的径向外部区域中。梳状电极的电极板和/或梳状元件的板可以延伸到反射镜基板和/或底座元件的外周边。
41、梳状电极和/或板可布置在底座元件和反射镜元件的矩形、特别是正方形角区域中。这些可通过具有带窄脚的角形刚性连接元件保持自由。相互啮合的板或指状物的空间布置可根据实施例而变化。在一些实施例中，板或指状物与反射镜元件的中心径向对齐。在其他实施例中，弧形弯曲板与中心同心布置。相互作用的板也可直线或平面方式延伸而横向彼此等距。其指向可平行或垂直于径向方向。每个情况下，对角线相对梳的板或梳可彼此平行延伸，其中在另一对角线中指向与其垂直。也可设计成有角度的电极板。
42、本发明亦有关一种用于euv装置的照明系统，其中将该照明系统具体化，成为在euv装置的操作期间从euv辐射源接收euv辐射并且从所接收的euv辐射的至少一部分整形被引导到照明系统的出射平面中的照明场中的照明辐射。照明系统具有本技术案中所述类型的至少一个euv多反射镜布置。
43、euv装置可为例如用于euv微影的投射曝光装置或光罩检查装置，其使用euv辐射来检查用于euv微影的光罩(倍缩光罩)。
44、具有底座元件、反射镜元件和悬架系统、致动器和传感器的插入组件的单独反射镜单元使用上也可与mma无关，例如作为光学电路中的电控开关组件。在这程度上还揭露了一种单独反射镜单元，其具有来自针对mma的多个权利要求中的至少一项的相关特征件。
1.一种euv多反射镜布置(mma)，包含：
2.如权利要求1所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述致动器系统的致动器、所述悬架系统的部件、和/或反射镜单元的所述传感器系统的传感器的传感器元件以mems结构的形式实施，其中优选地所述悬架系统设计成柔性以提供恢复力，使得反射镜元件在没有致动器力的情况下自动假定零位而不倾斜。
3.如权利要求1或2所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述压电致动器(akt)以多层弯曲压电致动器(akt)的形式实施，其具有至少压电层(pzs)及扩充层(ws)的多层结构，其中，在所述压电层的相对侧处，在每个情况下，布置电极层(e1、e2)，用于在厚度方向上产生穿透所述压电层(pzs)的电场，并且设计所述压电层(pzs)，使得当电压(uakt)施加到所述电极层(e1、e2)时，所述压电层(pzs)成沿所述层延伸方向收缩，而导致所述多层结构弯曲。
4.如权利要求3所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述扩充层(ws)是以非压电材质，特别是硅或硅化合物，制成的载体层(tsc)，或者所述扩充层(ws)是另外的压电层(pzs)，其中共同电极层优选布置在所述压电层之间，或者所述多层结构具有由非压电材料制成的载体层(tsc)，并且在每个情况下，压电层(pzs)布置在所述载体层(tsc)的两侧。
5.如前述权利要求中任一项所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述压电致动器具有两、三或更多个单独可控压电层，特别是四、五或六个。
6.如权利要求3至5中任一项所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述压电致动器(akt)具有与弯曲线正交的优选矩形剖面，其在宽度(b)和高度(h)之间具有大于1的长宽比，其中宽度(b)大于沿弯曲线的有效长度(l)。
7.如前述权利要求中任一项所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述悬架系统(sus)具有至少一个连接元件群组(veg1、veg2)用于机械连接所述底座元件(be)和所述反射镜基板(me)，其中所述连接元件群组具有相互正交的旋转致动轴(aa1、aa2；aa3、aa4)的两个单独可控压电致动器(akt1、akt2；akt3、akt4)。
8.如前述权利要求任一项所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述悬架系统(sus)具有两个连接元件群组(veg1、veg2)，在每个情况下，两个整合单独可控压电致动器(akt1、akt2；akt3、akt4)具有相互正交的旋转致动轴(aa1、aa2；aa3、aa4)，其中所述连接元件群组中的每一者包含：底座链接元件(ba1、ba2)，固定链接到所述底座元件(be)；第一压电致动器(akt)，一端附接所述底座链接元件(ba1、ba2)，并且相对端附接抗弯连接元件(ve1、ve2)；第二压电致动器(akt)，其一端附接所述抗弯连接元件(ve1、ve2)，并且相对端附接反射镜链接元件(sa1、sa2)，所述反射镜链接元件(sa1、sa2)固定连接到所述反射镜元件(me)。
9.如权利要求8所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述第一压电致动器(akt)具有第一旋转致动轴(aa)并实施和布置成使得所述第一旋转致动轴(aa)彼此共轴对齐，而且所述第二压电致动器(akt)具有第二旋转致动轴(aa)并实施和布置成使得所述第二旋转致动轴(aa)彼此共轴对齐并且正交于所述第一旋转致动轴(aa)。
10.如权利要求3至9中任一项所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述压电致动器(akt)被设计成多层弯曲压电致动器具有反射镜侧端部，所述反射镜侧端部通过刚性链接物而连接到所述反射镜元件(me)，其中所述刚性链接物优选设计成使得在所述压电致动器的每个弯曲位置中的所述反射镜面(ms)与所述反射镜侧端部切线对齐。
11.如前述权利要求中任一项所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，所述电容式传感器系统(sens)具有至少一个传感器元件(kps)，其形式为包含多重电极板的梳状电极(ke)，所述多重电极板以相互距离逐一布置。
12.如权利要求11所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，电容式传感器具有两个梳状电极，所述两个梳状电极分配为彼此具交替啮合的电极板，其中一对梳状电极在工作期间电连接到电压源并处于不同电位，其中优选所述梳状电极之一布置在所述底座元件上而另一者布置在所述反射镜元件上。
13.如权利要求11或12项所述的euv多反射镜布置(mma)，其特征在于，电容式传感器具有梳状电极，所述梳状电极电连接到电压源并具有设置成像梳中的电极板并电连接，使得分别相邻的电极板能够设置在不同电位，其中设置具有板的梳状元件作为对应物，板以相互距离布置，并且每个板在所分配的梳状电极的相邻电极板之间的中间空间中接合，其中优选所述梳状电极布置在所述底座元件上并且所述梳状元件布置在所述反射镜元件上。
14.一种用于euv装置的照明系统(2)，特别是用于euv微影的投射曝光装置(1)，所述照明系统配置为在所述euv装置的工作期间接收来自euv辐射源(3)的euv辐射，并且从接收到的euv辐射的至少一部分整形被引导到所述照明系统的出射平面(6)中的照明场的照明辐射，其特征在于，所述照明系统具有如前述权利要求中任一项所述的至少一个euv多反射镜布置(mma)。
