本技术属于光刻机，具体涉及一种手动双面单曝光光刻机。
背景技术：
1、光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，但目前的手动单曝光光刻机主要还是以单面为主，例如申请人的在先申请，公开号为cn216622958u的实用新型公开了一种单面光刻机，如何实现双面单曝光，是目前需要解决的问题。
技术实现思路
1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本实用新型目的在于提供一种手动双面单曝光光刻机。
2、本实用新型所采用的技术方案为：
3、一种手动双面单曝光光刻机，包括机架，机架上设有平台，平台上设有xyq调节机构、光源安装架、升降机构、第一移动机构和第二移动机构，光源安装架上设有平行光源，升降机构与浮动机构相连，承片台安装在浮动机构上，掩模板机构安装在xyq调节机构上，掩模板机构位于承片台上方，平行光源位于掩模板机构上方；第一移动机构上设有左上对位镜头和右上位镜头，左上对位镜头和右上位镜头位于掩模板机构上方的一侧，第二移动机构上设有左下对位镜头和右下对位镜头，左下对位镜头和右下对位镜头位于掩模板机构下方的一侧。
4、优选地，所述平台上设有显示器支架，显示器支架上设有显示器，左上对位镜头、右上位镜头、左下对位镜头和右下对位镜头均与显示器电性连接。平台上设有左面板和右面板，左面板和右面板分别设于光源安装架的两侧。
5、本实用新型的有益效果为：
6、本实用新型所提供的一种手动双面单曝光光刻机，通过位于掩模板机构上方的左上对位镜头、右上位镜头，以及位于掩模板机构下方的左下对位镜头和右下对位镜头可以实现手动对位标记，便于双面曝光；
7、使用时承片台通过浮动机构自动找平，人工将硅片放置在承片台上并推到位，然后升降机构上升到位后，两个移动机构分别移动到位，对位镜头手动对位标记，曝光机构进行曝光，曝光结束后升降机构下降到位，人工将承片台拉出，将曝光后的硅片取出即可，有效提高工作效率，保证操作的准确性。
1.一种手动双面单曝光光刻机，其特征在于：包括机架(1)，机架(1)上设有平台(2)，平台(2)上设有xyq调节机构、光源安装架(5)、升降机构(18)、第一移动机构(19)和第二移动机构(20)，光源安装架(5)上设有平行光源(7)，升降机构(18)与浮动机构(11)相连，承片台(10)安装在浮动机构(11)上，掩模板机构(9)安装在xyq调节机构上，掩模板机构(9)位于承片台(10)上方，平行光源(7)位于掩模板机构(9)上方；第一移动机构(19)上设有左上对位镜头(6)和右上位镜头(8)，左上对位镜头(6)和右上位镜头(8)位于掩模板机构(9)上方的一侧，第二移动机构(20)上设有左下对位镜头(17)和右下对位镜头(12)，左下对位镜头(17)和右下对位镜头(12)位于掩模板机构(9)下方的一侧。
2.根据权利要求1所述的手动双面单曝光光刻机，其特征在于：所述平台(2)上设有显示器支架(14)，显示器支架(14)上设有显示器，左上对位镜头(6)、右上位镜头(8)、左下对位镜头(17)和右下对位镜头(12)均与显示器电性连接。
3.根据权利要求1所述的手动双面单曝光光刻机，其特征在于：所述平台(2)上设有左面板(3)和右面板(13)，左面板(3)和右面板(13)分别设于光源安装架(5)的两侧。
4.根据权利要求1所述的手动双面单曝光光刻机，其特征在于：所述xyq调节机构包括x轴调节单元(4)、y轴调节单元(16)和q轴调节单元(15)。
