本发明涉及单晶硅衬底抛光，具体为一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置。
背景技术：
1、单晶硅衬底抛光是指对单晶硅衬底进行表面加工，使其表面获得高度平整和光滑的过程。单晶硅衬底是用于集成电路和太阳能电池等领域的重要材料，其表面平整度和光洁度对器件性能有着重要的影响，高纯硅高纯硅溶胶是指硅酸盐类化合物制备而成的胶体溶液，通常是指由硅酸盐或硅酸酯等高纯度原料制备而成的胶体溶液；
2、现有的在对高纯硅溶胶中，往往时对反应釜内添加硅源和溶剂，接着进行混合制备，过滤等流程，现有的装置在对硅源和溶剂进行投料时，难以控制其投入的比例，容易导致硅源和溶剂比例偏大或偏小，进而影响高纯硅高纯硅溶胶的制备，且硅源和溶剂反应中会产生固体杂质或未反应的颗粒，现有的装置往往都是进入将制备好的设备输送至下一个装置内进行过滤，操作过于麻烦，且在对高纯硅溶胶进行过滤时的效果较差，现有针对上述问题，发明人提出一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置用于解决上述问题。
技术实现思路
1、为了解决不方便对硅源和溶剂进行一定比例的均匀投放且过滤效果较差的问题；本发明的目的在于提供一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置。
2、为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，包括反应釜和过滤箱，所述过滤箱安装在反应釜下方，所述过滤箱顶面安装有一号进料机构和二号进料机构，所述一号进料机构和二号进料机构连接，所述反应釜内安装有搅拌机构，所述过滤箱内安装有过滤机构，所述搅拌机构和过滤机构连接。
3、优选地，所述一号进料机构包括导料盒和输料箱，所述导料盒安装在输料箱上方，所述输料箱内转动插设有一号转动杆，所述一号转动杆外侧固定套设有成矩形阵列分布的拨动板，所述拨动板位于输料箱内，所述导料盒上方固定设有进料箱，所述二号进料机构包括罐体，所述罐体底端设有连接管，所述连接管贯穿插设在反应釜内，所述连接管远离罐体的一端固定设有喷头，所述反应釜顶端固定设有支撑块，所述连接管安装在支撑块上方，所述反应釜顶端固定设有支撑架，所述支撑架内开设有回形槽，两个所述回形槽内活动连接有移动杆，所述移动杆外侧固定套设有挤压辊，所述挤压辊位于连接管上方，所述支撑架内转动设有一号转轴，所述一号转轴端部固定设有转动板，所述转动板活动插设在移动杆外侧，所述一号转轴远离转动板的一端固定设有一号锥形齿轮，所述反应釜顶端固定设有两个固定板，两个所述固定板内转动插设有一号传动杆，所述一号传动杆靠近一号锥形齿轮的一端固定设有二号锥形齿轮，所述二号锥形齿轮与一号锥形齿轮相互啮合，所述一号传动杆和一号转动杆通过同步轮和同步带传动连接，其中一个所述固定板外侧安装设有一号电机，所述一号电机输出轴端部贯穿插设在固定板内并与一号传动杆固定连接。
4、优选地，所述搅拌机构包括搅拌杆，所述搅拌杆活动插设在反应釜内，所述搅拌杆外侧固定套设有若干个搅拌组件，所述反应釜顶端转动插设有二号转轴，所述二号转轴外侧固定套设有一号齿轮，所述搅拌杆外侧固定套设有二号齿轮，且一号齿轮和二号齿轮相互啮合，所述反应釜顶端安装设有二号电机，所述二号电机输出轴端部贯穿插设在反应釜内并与二号转轴固定连接。
5、优选地，所述过滤箱内固定设有u型板，所述过滤箱两侧均开设有u型槽，两个所述u型槽内活动插设有连接杆，所述连接杆外侧固定设有刮板，所述刮板位于过滤箱内，所述刮板与u型板顶面贴合，所述过滤箱顶面转动设有往复螺纹杆，所述往复螺纹杆外侧活动套设有往复螺纹滑块，所述过滤箱顶面固定设有限位杆，所述限位杆外侧活动套设有移动块，所述往复螺纹杆和移动块外侧均固定设有连接板，所述连接板内开设有方形槽，所述连接杆活动插设在方形槽内，所述连接杆两端均固定设有导向杆，所述连接杆活动插设在连接板内，所述往复螺纹滑块内转动设有转动件，所述转动件活动插设在往复螺纹杆外侧，所述过滤箱两侧均设有插槽，所述插槽内活动插设有收集盒，所述搅拌杆顶端固定设有三号锥形齿轮，所述反应釜顶端转动设有二号传动杆，所述二号传动杆靠近三号锥形齿轮的一端固定设有四号锥形齿轮，且四号锥形齿轮与三号锥形齿轮相互啮合，所述往复螺纹杆和二号传动杆通过同步轮和同步带传动连接，所述反应釜顶面安装有进液管，所述反应釜底端安装有出液管，所述出液管外侧安装有电磁阀，所述过滤箱外侧安装有排液管，所述出液管与反应釜和过滤箱连接。
6、与现有技术相比，本发明的有益效果在于：
7、1、本发明中通过设置一号下料机构和二号下料机构可以分别对硅源和溶剂进行等比例投入，从而可以方便控制硅源和溶剂的投入量，进而可以提高高纯硅溶胶的质量，随后搅拌机构对硅源和溶剂等物质进行充分搅拌，在通过反应釜对其内部进行加热，进而制备出高纯硅溶胶，随后在通过过滤机构对高纯硅溶胶进行过滤，将杂质或未反应的颗粒过滤出；
8、2、本发明中通过设置拨动板、输料箱、喷头、连接管和挤压辊等结构相互配合，可以将硅源和溶剂等比例分别向反应釜内投入，避免硅源和溶剂投入比例过大或过小而影响高纯硅溶胶的制备，从而达到对硅源和溶剂等比例定量投入的目的；
9、3、本发明中通过设置u型板、刮板、u型槽、连接杆、往复螺纹杆和往复螺纹滑块等结构相互配合可以对制备好的高纯硅溶胶即刻进行过滤，同时可以对过滤出的杂质或未反应的颗粒刮出，避免影响过滤的效率，从而达到提高过滤效率的目的。
1.一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，包括反应釜(1)和过滤箱(110)，其特征在于：所述过滤箱(110)安装在反应釜(1)下方，所述过滤箱(110)顶面安装有一号进料机构(2)和二号进料机构(3)，所述一号进料机构(2)和二号进料机构(3)连接，所述反应釜(1)内安装有搅拌机构(4)，所述过滤箱(110)内安装有过滤机构(5)，所述搅拌机构(4)和过滤机构(5)连接。
2.如权利要求1所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述一号进料机构(2)包括导料盒(201)和输料箱(203)，所述导料盒(201)安装在输料箱(203)上方，所述输料箱(203)内转动插设有一号转动杆(204)，所述一号转动杆(204)外侧固定套设有成矩形阵列分布的拨动板(205)，所述拨动板(205)位于输料箱(203)内，所述导料盒(201)上方固定设有进料箱(202)。
3.如权利要求1所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述二号进料机构(3)包括罐体(301)，所述罐体(301)底端设有连接管(302)，所述连接管(302)贯穿插设在反应釜(1)内，所述连接管(302)远离罐体(301)的一端固定设有喷头(303)，所述反应釜(1)顶端固定设有支撑块(304)，所述连接管(302)安装在支撑块(304)上方。
4.如权利要求3所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述反应釜(1)顶端固定设有支撑架(310)，所述支撑架(310)内开设有回形槽(311)，两个所述回形槽(311)内活动连接有移动杆(314)，所述移动杆(314)外侧固定套设有挤压辊(315)，所述挤压辊(315)位于连接管(302)上方，所述支撑架(310)内转动设有一号转轴(312)，所述一号转轴(312)端部固定设有转动板(313)，所述转动板(313)活动插设在移动杆(314)外侧。
5.如权利要求4所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述一号转轴(312)远离转动板(313)的一端固定设有一号锥形齿轮(316)，所述反应釜(1)顶端固定设有两个固定板(320)，两个所述固定板(320)内转动插设有一号传动杆(321)，所述一号传动杆(321)靠近一号锥形齿轮(316)的一端固定设有二号锥形齿轮(322)，所述二号锥形齿轮(322)与一号锥形齿轮(316)相互啮合，所述一号传动杆(321)和一号转动杆(204)通过同步轮和同步带传动连接，其中一个所述固定板(320)外侧安装设有一号电机(323)，所述一号电机(323)输出轴端部贯穿插设在固定板(320)内并与一号传动杆(321)固定连接。
6.如权利要求1所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述搅拌机构(4)包括搅拌杆(401)，所述搅拌杆(401)活动插设在反应釜(1)内，所述搅拌杆(401)外侧固定套设有若干个搅拌组件(402)，所述反应釜(1)顶端转动插设有二号转轴(403)，所述二号转轴(403)外侧固定套设有一号齿轮(404)，所述搅拌杆(401)外侧固定套设有二号齿轮(405)，且一号齿轮(404)和二号齿轮(405)相互啮合，所述反应釜(1)顶端安装设有二号电机(406)，所述二号电机(406)输出轴端部贯穿插设在反应釜(1)内并与二号转轴(403)固定连接。
7.如权利要求6所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述过滤箱(110)内固定设有u型板(501)，所述过滤箱(110)两侧均开设有u型槽(502)，两个所述u型槽(502)内活动插设有连接杆(503)，所述连接杆(503)外侧固定设有刮板(504)，所述刮板(504)位于过滤箱(110)内，所述刮板(504)与u型板(501)顶面贴合。
8.如权利要求7所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述过滤箱(110)顶面转动设有往复螺纹杆(510)，所述往复螺纹杆(510)外侧活动套设有往复螺纹滑块(511)，所述过滤箱(110)顶面固定设有限位杆(512)，所述限位杆(512)外侧活动套设有移动块(513)，所述往复螺纹杆(510)和移动块(513)外侧均固定设有连接板(514)，所述连接板(514)内开设有方形槽(515)，所述连接杆(503)活动插设在方形槽(515)内，所述连接杆(503)两端均固定设有导向杆(505)，所述连接杆(503)活动插设在连接板(514)内，所述往复螺纹滑块(511)内转动设有转动件(516)，所述转动件(516)活动插设在往复螺纹杆(510)外侧，所述过滤箱(110)两侧均设有插槽(520)，所述插槽(520)内活动插设有收集盒(521)。
9.如权利要求8所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述搅拌杆(401)顶端固定设有三号锥形齿轮(410)，所述反应釜(1)顶端转动设有二号传动杆(411)，所述二号传动杆(411)靠近三号锥形齿轮(410)的一端固定设有四号锥形齿轮(412)，且四号锥形齿轮(412)与三号锥形齿轮(410)相互啮合，所述往复螺纹杆(510)和二号传动杆(411)通过同步轮和同步带传动连接。
10.如权利要求1所述的一种用于单晶硅衬底抛光的高纯硅溶胶生产装置，其特征在于，所述反应釜(1)顶面安装有进液管(101)，所述反应釜(1)底端安装有出液管(102)，所述出液管(102)外侧安装有电磁阀(103)，所述过滤箱(110)外侧安装有排液管(111)，所述出液管(102)与反应釜(1)和过滤箱(110)连接。
