本技术涉及镭雕治具，具体为一种屏蔽罩镭雕治具转台。
背景技术：
1、镭雕也叫激光雕刻或者激光打标，是一种用光学原理进行表面处理的工艺，具体是利用镭射光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记，镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种，当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应，从而刻痕迹或是显示出图案或是文字，所以镭雕机又称为激光打标机、激光雕刻机。
2、根据专利号cn201721876648.0，公开了一种双层镭雕治具，包括第一双层镭雕治具底座、第一中框产品、双层镭雕治具中框、第二中框产品和第二双层镭雕治具底座，所述第一双层镭雕治具底座上设有贯穿第一双层镭雕治具底座的圆孔，所述第一双层镭雕治具底座上的四周均设有模具，所述第一双层镭雕治具底座上固定有第一中框产品，所述第一中框产品上固定连接双层镭雕治具中框，所述双层镭雕治具中框的正反面的四周均设有模板。
3、现有技术存在以下问题：
4、现有镭雕治具转台在使用时，镭雕位置定位主要通过人工调整，镭雕治具转台定位起来不是很方便，所花费的时间较长，往往还会存在一定的位置偏差，造成镭雕加工精度低。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种屏蔽罩镭雕治具转台，解决了现今存在的问题。
2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
3、一种屏蔽罩镭雕治具转台，包括固定底板，所述固定底板的顶部设置有四个定位钢球，四个所述定位钢球的顶部设置有定位板，所述定位板的顶部安装有四个定位块，所述固定底板的顶部设置有中心定位转轴，四个所述定位块沿中心定位转轴的轴芯转动。
4、作为本实用新型的一种优选技术方案，所述固定底板的底部两侧均安装有防滑条，所述防滑条为橡胶材质。
5、作为本实用新型的一种优选技术方案，所述固定底板的顶部中心位置设有定位槽，所述定位槽的内底壁固定有插块，所述中心定位转轴的下端设有与插块相匹配的插口，所述插块嵌入中心定位转轴的插口内。
6、作为本实用新型的一种优选技术方案，所述定位板的中心位置设有转动孔，所述中心定位转轴的上端贯穿转动孔延伸至定位板的上方。
7、作为本实用新型的一种优选技术方案，所述转动孔的内壁周向等距离设有四个球形槽，所述球形槽的内部抵紧设置有卡块，所述卡块远离球形槽的一侧均连接有抵紧组件。
8、作为本实用新型的一种优选技术方案，四组所述抵紧组件均包括容纳块、挡块和两组弹簧，所述中心定位转轴与定位板的重合处设有安装口，四个所述容纳块周向固定于安装口的内壁，所述容纳块上设有容纳腔，所述挡块安装于容纳腔的内壁中间位置，所述挡块的两侧分别通过弹簧与卡块的一侧侧面相固定。
9、作为本实用新型的一种优选技术方案，所述容纳块的两侧侧壁均设有调节口，所述卡块的一端通过调节口与容纳块水平滑动设置。
10、作为本实用新型的一种优选技术方案，所述卡块远离容纳块的一端呈半球形结构。
11、与现有技术相比，本实用新型提供了一种屏蔽罩镭雕治具转台，具备以下有益效果：
12、1、该一种屏蔽罩镭雕治具转台，通过设置有固定底板、定位钢球、定位板、四个定位块和定位转轴，定位板能够在固定底板上转动，定位板实现了定位块的转动，并配合有四个定位钢球，使得四个定位块转动起来更加方便，定位块带动放置腔内产品沿定位转轴中心转动，实现屏蔽罩的重复定位，保证定位板可以沿轴芯转动且保证高精度镭雕，能够有效避免屏蔽罩出现遗漏镭雕的情况，提高产品质量；
13、2、该一种屏蔽罩镭雕治具转台，通过设置有定位槽和插口，方便对定位转轴定位，实现了定位转轴与固定底板之间的安装和拆卸，组装方便，并配合有、卡块、球形槽和抵紧组件，当转动定位板每转动90°，卡块的一端进入到不同的球形槽的内部，此时定位块带动屏蔽罩转动90°，屏蔽罩刚好位于镭雕机激光的正下方，定位方便，避免人工定位存在的位置偏差，能有效提高镭雕加工效率及精度。
1.一种屏蔽罩镭雕治具转台，包括固定底板（1），其特征在于：所述固定底板（1）的顶部设置有四个定位钢球（2），四个所述定位钢球（2）的顶部设置有定位板（3），所述定位板（3）的顶部安装有四个定位块（4），所述固定底板（1）的顶部设置有中心定位转轴（5），四个所述定位块（4）沿中心定位转轴（5）的轴芯转动。
2.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩镭雕治具转台，其特征在于：所述固定底板（1）的底部两侧均安装有防滑条（6），所述防滑条（6）为橡胶材质。
3.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩镭雕治具转台，其特征在于：所述固定底板（1）的顶部中心位置设有定位槽（101），所述定位槽（101）的内底壁固定有插块（7），所述中心定位转轴（5）的下端设有与插块（7）相匹配的插口，所述插块（7）嵌入中心定位转轴（5）的插口内。
4.根据权利要求3所述的一种屏蔽罩镭雕治具转台，其特征在于：所述定位板（3）的中心位置设有转动孔（12），所述中心定位转轴（5）的上端贯穿转动孔（12）延伸至定位板（3）的上方。
5.根据权利要求4所述的一种屏蔽罩镭雕治具转台，其特征在于：所述转动孔（12）的内壁周向等距离设有四个球形槽（8），所述球形槽（8）的内部抵紧设置有卡块（10），所述卡块（10）远离球形槽（8）的一侧均连接有抵紧组件。
6.根据权利要求5所述的一种屏蔽罩镭雕治具转台，其特征在于：四组所述抵紧组件均包括容纳块（14）、挡块和两组弹簧（9），所述中心定位转轴（5）与定位板（3）的重合处设有安装口（13），四个所述容纳块（14）周向固定于安装口（13）的内壁，所述容纳块（14）上设有容纳腔（11），所述挡块安装于容纳腔（11）的内壁中间位置，所述挡块的两侧分别通过弹簧（9）与卡块（10）的一侧侧面相固定。
7.根据权利要求6所述的一种屏蔽罩镭雕治具转台，其特征在于：所述容纳块（14）的两侧侧壁均设有调节口，所述卡块（10）的一端通过调节口与容纳块（14）水平滑动设置。
8.根据权利要求7所述的一种屏蔽罩镭雕治具转台，其特征在于：所述卡块（10）远离容纳块（14）的一端呈半球形结构。
