一种磷化铟自动擦蜡设备的制作方法

专利检索2024-12-20  20


本申请涉及半导体磷化铟衬底材料,尤其涉及一种磷化铟自动擦蜡设备。


背景技术:

1、磷化铟衬底在制造高频高功率器件、光纤通信、无线传输、射电天文学等射频器件领域应用较广。在雷达和通信系统的射频前端、模拟/混合信号宽带宽电路方面具有较强竞争力,适合高速数据处理、高精度宽带宽a/d转换等应用。此外,磷化铟基射频器件相关器件如低噪声放大器、模块和接收机等器件还被广泛应用于卫星通信、毫米波雷达、有源和无源毫米波成像等设备中。在100ghz以上的带宽水平,使用磷化铟基射频器件在回程网络和点对点通信网络的无线传输方面具有明显优势,未来在6g通信甚至7g通信无线传输网络中,磷化铟衬底将有望成为射频器件的主流衬底材料。

2、在磷化铟晶片生产过程中,需要为其上蜡后抛光,并在抛光后将晶片上的蜡层去除;现有的对磷化铟晶片的下蜡方式一般是通过工作人员手动进行,也即需要工作人员一只手端持晶片,另一只手拿酒精片擦拭,存在效率低的问题。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请的目的是提供一种磷化铟自动擦蜡设备,用于解决现有的磷化铟晶片下蜡方式效率低的问题。

2、为达到上述技术目的,本申请提供一种磷化铟自动擦蜡设备,包括:输送件、擦拭件、容纳槽与收片器;

3、所述容纳槽内盛放有去蜡液;

4、所述输送件设置于所述容纳槽上,用于输送磷化铟片;

5、所述擦拭件设置于所述容纳槽内,用于擦拭所述输送件上的磷化铟片;

6、所述收片器设置于所述容纳槽旁侧,且与所述输送件对接,用于叠放擦拭后的所述磷化铟片。

7、进一步地,所述输送件为输送带;

8、所述擦拭件为棉筒;

9、所述擦拭件可转动且可升降设置于所述容纳槽内。

10、进一步地,所述输送件包括:第一输送带与第二输送带;

11、所述擦拭件包括:第一棉筒和第二棉筒;

12、所述第二输送带包括两根且呈平行间隔设置;

13、所述第一输送带设置于两根所述第二输送带输送方向的前方或后方,且位于两根所述第二输送带的中心延长线上;

14、所述第一棉筒上设置有第一擦拭部;

15、所述第二棉筒上设置有第二擦拭部;

16、所述第一擦拭部上设置有凹槽,且所述第一输送带设置于所述凹槽内;

17、所述第二擦拭部设置于两个所述第二输送带之间。

18、进一步地,所述第一棉筒上设置有多个所述第一擦拭部;

19、所述第二棉筒上设置有多个所述第二擦拭部;

20、多个所述第一擦拭部按预设角度圆周均匀分布;

21、多个所述第二擦拭部按所述预设角度圆周均匀分布。

22、进一步地,所述输送件输送状态下,所述第一擦拭部与所述第一输送带顶面对齐,且所述第二擦拭部与所述第二输送带顶面对齐。

23、进一步地,还包括控制器;

24、所述控制器电连接所述输送件、所述擦拭件和所述收片器;

25、所述控制器用于在所述收片器每接收一片所述磷化铟片后,控制所述输送件停止,并控制所述擦拭件下降至与所述输送件在竖直方向上相互分离,之后控制所述擦拭件在转动所述预设角度后上升至与所述输送件的顶面平齐,之后控制所述输送件输送。

26、进一步地,所述第二擦拭部的宽度大于所述第一输送带的宽度。

27、进一步地,两根所述第二输送带之间的间距可调节设置。

28、进一步地,所述输送件还包括伸缩杆;

29、两根所述第二输送带分别设置于所述伸缩杆的两端。

30、进一步地,还包括送片器;

31、所述送片器用于将抛光后的磷化铟片传送至所述输送件上。

32、从以上技术方案可以看出,本申请提供一种磷化铟自动擦蜡设备,包括:输送件、擦拭件、容纳槽与收片器;所述容纳槽内储存有去蜡液;所述输送件设置于所述容纳槽上,用于输送磷化铟片;所述擦拭件设置于所述容纳槽内,用于擦拭所述输送件上的磷化铟片;所述收片器设置于所述容纳槽旁侧,且与所述输送件对接,用于叠放擦拭后的所述磷化铟片。

33、在为磷化铟片下蜡的过程中,可以通过输送件输送磷化铟片,并通过擦拭件蘸取容纳槽内的去蜡液进行擦拭,实现对磷化铟片的自动化擦蜡,提高对磷化铟片的下蜡效率,有效解决现有的磷化铟晶片下蜡方式效率低的问题。



技术特征:

1.一种磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,包括:输送件(10)、擦拭件(20)、容纳槽(30)与收片器(40);

2.根据权利要求1所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,所述输送件(10)为输送带;

3.根据权利要求2所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,所述输送件(10)包括:第一输送带(11)与第二输送带(12);

4.根据权利要求3所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,所述第一棉筒(21)上设置有多个所述第一擦拭部(211);

5.根据权利要求4所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,所述输送件(10)输送状态下,所述第一擦拭部(211)与所述第一输送带(11)顶面对齐,且所述第二擦拭部(221)与所述第二输送带(12)顶面对齐。

6.根据权利要求5所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,还包括控制器;

7.根据权利要求3所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,所述第二擦拭部(221)的宽度大于所述第一输送带(11)的宽度。

8.根据权利要求3所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,两根所述第二输送带(12)之间的间距可调节设置。

9.根据权利要求8所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,所述输送件(10)还包括伸缩杆(13);

10.根据权利要求1至9任一项所述的磷化铟自动擦蜡设备,其特征在于,还包括送片器;


技术总结
本申请涉及半导体磷化铟衬底材料,具体公开了一种磷化铟自动擦蜡设备,包括:输送件、擦拭件、容纳槽与收片器;所述容纳槽内储存有去蜡液;所述输送件设置于所述容纳槽上,用于输送磷化铟片;所述擦拭件设置于所述容纳槽内,用于擦拭所述输送件上的磷化铟片;所述收片器设置于所述容纳槽旁侧,且与所述输送件对接,用于叠放擦拭后的所述磷化铟片。在为磷化铟片下蜡的过程中,可以通过输送件输送磷化铟片,并通过擦拭件蘸取容纳槽内的去蜡液进行擦拭,实现对磷化铟片的自动化擦蜡,提高对磷化铟片的下蜡效率,有效解决现有的磷化铟晶片下蜡方式效率低的问题。

技术研发人员:郑金龙,黄艺毅,周铁军,马金峰
受保护的技术使用者:广东先导微电子科技有限公司
技术研发日:20230908
技术公布日:2024/5/29
转载请注明原文地址:https://win.8miu.com/read-1147624.html

最新回复(0)