本技术涉及设备，尤其涉及一种光阻蒸镀设备。
背景技术：
1、现有光阻成形设备大都是采用涂布方式于一目标对象形成光阻层，此使得所述光阻层须达到较大的厚度才能较为均匀，因而无形中导致本领域的相关技术研究产生停滞。于是，本发明人认为上述缺陷可改善，特潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本实用新型。
技术实现思路
1、本实用新型实施例提供一种光阻蒸镀设备，其能有效地改善现有光阻成形设备所可能产生的缺陷。
2、本实用新型实施例公开一种光阻蒸镀设备，其包括：一真空蒸镀腔体，具有一工作区域，其呈长形且定义有一长度方向；一旋转机构，对应于工作区域设置，用以承载并转动设置于工作区域的一金属滚轮；一蒸镀舟体，具有沿长度方向排列的多个蒸镀区；其中，每个蒸镀区用于设置有一固态光阻剂；以及一加热器，连接于蒸镀舟体；其中，当旋转机构转动金属滚轮时，加热器能用来对蒸镀舟体加热，以使设置于每个蒸镀区的固态光阻剂朝向金属滚轮转变为一气态光阻剂、并沉积于金属滚轮而形成一光阻薄膜。
3、优选地，每个蒸镀区与工作区域之间定义有一蒸镀范围，并且相邻的任两个蒸镀区的蒸镀范围产生局部重叠。
4、优选地，每个蒸镀区具有对应于蒸镀范围的一发射角度，并且相邻的任两个蒸镀区的发射角度之间的差值小于10度。
5、优选地，每个蒸镀区的发射角度介于60度～150度。
6、优选地，蒸镀舟体能通过加热器而于金属滚轮以0.5纳米/分钟的速度形成光阻薄膜。
7、优选地，光阻薄膜厚度不大于0.2微米。
8、本实用新型实施例也公开一种光阻蒸镀设备，其包括：一真空蒸镀腔体，具有一工作区域，其呈长形且定义有一长度方向；一蒸镀舟体，具有沿长度方向排列的多个蒸镀区；其中，每个蒸镀区用于设置有一固态光阻剂；以及一加热器，连接于蒸镀舟体；其中，加热器能用来对蒸镀舟体加热，以使设置于每个蒸镀区的固态光阻剂朝向工作区域转变为一气态光阻剂。
9、优选地，每个蒸镀区与工作区域之间定义有一蒸镀范围，并且相邻的任两个蒸镀区的蒸镀范围产生局部重叠。
10、优选地，每个蒸镀区具有对应于蒸镀范围的一发射角度，并且相邻的任两个蒸镀区的发射角度之间的差值小于10度。
11、优选地，每个蒸镀区的发射角度介于60度～150度。
12、综上所述，本实用新型实施例所公开的光阻蒸镀设备，其能以所述气态光阻剂来进行沉积作业，据以提供一种新的光阻成形方式，其所成形的所述光阻薄膜能够在厚度较薄的情况下达到符合要求的均匀度。
13、为能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，但是此等说明与附图仅用来说明本实用新型，而非对本实用新型的保护范围作任何的限制。
1.一种光阻蒸镀设备，其特征在于，所述光阻蒸镀设备包括：
2.根据权利要求1所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，每个所述蒸镀区与所述工作区域之间定义有一蒸镀范围，并且相邻的任两个所述蒸镀区的所述蒸镀范围产生局部重叠。
3.根据权利要求2所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，每个所述蒸镀区具有对应于所述蒸镀范围的一发射角度，并且相邻的任两个所述蒸镀区的所述发射角度之间的差值小于10度。
4.根据权利要求3所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，每个所述蒸镀区的所述发射角度介于60度～150度。
5.根据权利要求1所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀舟体能通过所述加热器而于所述金属滚轮以0.5纳米/分钟的速度形成所述光阻薄膜。
6.根据权利要求5所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，所述光阻薄膜厚度不大于0.2微米。
7.一种光阻蒸镀设备，其特征在于，所述光阻蒸镀设备包括：
8.根据权利要求7所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，每个所述蒸镀区与所述工作区域之间定义有一蒸镀范围，并且相邻的任两个所述蒸镀区的所述蒸镀范围产生局部重叠。
9.根据权利要求8所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，每个所述蒸镀区具有对应于所述蒸镀范围的一发射角度，并且相邻的任两个所述蒸镀区的所述发射角度之间的差值小于10度。
10.根据权利要求9所述的光阻蒸镀设备，其特征在于，每个所述蒸镀区的所述发射角度介于60度～150度。
