一种耐擦拭人造皮革及其制备方法与流程

专利检索2024-11-11  8


本发明属于皮革材料,具体涉及一种耐擦拭人造皮革及其制备方法。


背景技术:

1、人造皮革是一种类似皮革的塑料制品。通常以织物为底基,在其上涂布或贴覆一层树脂混合物,然后加热使之塑化,并经滚压压平或压花制成,使其外观、纹理、质感和色彩与天然皮革非常相似,给人一种高档、时尚质感,倍受消费者喜爱。由于市场需求,目前市售的大部分人造皮革通常采用合成纤维材料,如聚氨酯、聚酯等,相比天然皮革的结构和组织更为简单,这些合成纤维材料的分子链结构较为松散,容易受到外界摩擦和磨损的影响,从而导致耐磨性不佳,使用过程中易出现磨损、破裂,导致其使用寿命明显缩短,增加人们更换产品的频率,降低用户对人造皮革产品的满意度,影响其使用体验,而且还会产生更多的废弃物,对环境造成负面影响。


技术实现思路

1、本发明公开了一种耐擦拭人造皮革及其制备方法,属于皮革材料技术领域。所述人造皮革的制备包括以下步骤:取聚乙烯醇、聚苯乙烯磺酸钠、去离子水混合,冷却脱泡,静电纺丝,制得物料a;取物料a置入盛有戊二醛溶液的玻璃气流烘干器中,控温反应,干燥,得物料b;取所述纳米碳酸钙、去离子水、物料b混合干燥,制得物料c;将改性聚氯乙烯、物料c、抗氧剂1076、叶蜡石混合研磨,与对苯二甲酸二辛酯混合研磨,得到糊料;上胶,涂布糊料,设基材,形成预制体;对所述预制体表面处理,压纹处理,裁切,包装,即得耐擦拭性能优良的人造皮革。

2、本发明要解决的技术问题:制备耐磨性优良的耐擦拭人造皮革。

3、本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

4、一种耐擦拭人造皮革及其制备方法,所述人造皮革的制备包括以下步骤:

5、(1)取氧化钙、去离子水混合,制得浓度为0.65-0.75mo l/l氢氧化钙悬浮液;

6、(2)将所述氢氧化钙悬浮液置于水热碳化台式反应釜中,通入二氧化碳、氮气,于16-22℃搅拌反应5-6min;

7、(3)然后加入草酸,通入二氧化碳,保持步骤(2)中温度不变继续搅拌反应12-15min,制得纳米碳酸钙,所述纳米碳酸钙的粒径为370-380nm;

8、(4)取聚乙烯醇、聚苯乙烯磺酸钠、去离子水混合,于90℃搅拌1-2h,冷却脱泡,静电纺丝,制得物料a;所述静电纺丝指的是使用静电纺丝机在温度为23-27℃、湿度为43-47%的条件下进行静电纺丝,将聚乙烯醇、聚苯乙烯磺酸钠、去离子水混合的物料注入体积为5ml、针头直径为0.5mm的注射器中,在纺丝电压为17-25kv、纺丝接收距离为18-25cm、供液速度为1.0-1.5ml/h,滚筒转速为300-400r/min的条件下连续纺丝8-10h,纺丝完成后于40℃下烘干;

9、(5)取所述物料a置入盛有戊二醛溶液的玻璃气流烘干器中,且要避免所述物料a与所述戊二醛溶液直接接触,控温反应,干燥,制得物料b;

10、(6)取所述纳米碳酸钙、去离子水混合,加入所述物料b,超声震荡20-30min,干燥,制得物料c;

11、(7)将改性聚氯乙烯、物料c、抗氧剂1076、叶蜡石混合加入到臼式研磨器中,控温75-80℃研磨30-60min后冷却至室温,过200目筛网,得到混合物料;将所述混合物料、对苯二甲酸二辛酯混合加入到真空研磨搅拌机中,于-0.06~-0.08mpa条件研磨20-30min,得到糊料;

12、(8)通过开布机对基布进行上胶处理,上胶量为3-6g/m2;在上胶后的所述基布上涂布所述糊料,所述糊料的涂布量为10-16g/m2;进行烘干处理,烘干温度为110℃,烘干速度2-3m/min;然后通过四辊压延机采用压延法在所述经涂布糊料的基布上铺设基材,形成预制体;在所述预制体上涂布异氰酸酯类水性聚氨酯表面处理剂进行表面处理,将表面处理后的预制体进行压纹处理,压纹成型温度为145℃,裁切,包装,即得所述人造皮革;

13、其中,所述上胶处理所用的胶为水性pu胶水浆,所述水性pu胶水浆包括水性聚氨酯分散体、拜耳401-70水性固化剂和去离子水,所述水性聚氨酯分散体、拜耳401-70水性固化剂、去离子水的质量比为100:3:150;

14、所述水性聚氨酯分散体购买于湖南秉航新材料有限公司;

15、所述拜耳401-70水性固化剂购买于武汉卡诺斯科技有限公司;

16、所述基材由热塑性聚氨酯弹性体制成;

17、所述异氰酸酯类水性聚氨酯表面处理剂包括以下质量份的组分:亲水脂肪族聚异氰酸酯100份,游离异氰酸酯0.25份。

18、作为本发明的一种优选技术方案,所述步骤(2)中的氢氧化钙悬浮液、步骤(2)中的二氧化碳、步骤(2)中的氮气、步骤(3)中的草酸、步骤(3)中的二氧化碳的配量比为20-30ml:0.35-0.40mo l:0.60-0.65mo l:12-15ml:0.1-0.15mo l。

19、作为本发明的一种优选技术方案,步骤(4)中,所述聚乙烯醇、聚苯乙烯磺酸钠、去离子水的配量比为7-10g:3-4g:100ml。

20、作为本发明的一种优选技术方案,步骤(5)中,所述物料a、戊二醛溶液的配量比为30-50g:100-120ml;所述戊二醛溶液的浓度为2.2-2.5mo l/l;所述控温反应指的是于24-27℃反应4-10h;所述干燥指的是于60℃烘箱中干燥30-40min。

21、作为本发明的一种优选技术方案,步骤(6)中,所述纳米碳酸钙、去离子水、物料b的配量比为2-3g:150-200ml:1-1.5mo l。

22、作为本发明的一种优选技术方案,步骤(7)中,所述改性聚氯乙烯、物料c、抗氧剂1076、叶蜡石、对苯二甲酸二辛酯的质量比为60-80:15-25:5-8:4-7:10-15。

23、作为本发明的一种优选技术方案,所述改性聚氯乙烯的制备包括以下步骤:将聚氯乙烯、双二五、马来酸酐、抗氧剂168、蓖麻油酸钙、己二酸二辛脂混合,于225-230℃挤出造粒,即得所述改性聚氯乙烯。

24、作为本发明的一种优选技术方案,所述聚氯乙烯、双二五、马来酸酐、抗氧剂168、蓖麻油酸钙、己二酸二辛脂的质量比为100:0.1-0.2:0.2-0.3:0.15-0.2:0.5-0.8:20-35。

25、一种利用上述的制备方法制得的耐擦拭人造皮革。

26、本发明的有益效果:

27、本发明所公开的一种耐擦拭人造皮革及其制备方法通过制得片状大粒径结构的纳米碳酸钙具有较大的比表面积、更为平整的接触面可以更好地抵御外界的磨损力;

28、进一步地,通过聚乙烯醇与聚苯乙烯磺酸钠静电纺丝后形成纳米纤维,然后通过交联形成致密的网络结构,具有良好的结构稳定性和刚性,提高耐磨性能;

29、进一步地,聚苯乙烯磺酸钠中的磺酸基与钙离子形成磺酸钙,使得纳米碳酸钙均匀分布在纳米纤维表面,增加界面稳定性;同时对聚氯乙烯进行改性后,具有良好的界面相容性,使得形成的复合膜层具有较高的界面强度,提高耐磨性能。


技术特征:

1.一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,所述人造皮革的制备包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中的氢氧化钙悬浮液、步骤(2)中的二氧化碳、步骤(2)中的氮气、步骤(3)中的草酸、步骤(3)中的二氧化碳的配量比为20-30ml:0.35-0.40mol:0.60-0.65mol:12-15ml:0.1-0.15mol。

3.根据权利要求1所述的一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,所述聚乙烯醇、聚苯乙烯磺酸钠、去离子水的配量比为7-10g:3-4g:100ml。

4.根据权利要求1所述的一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,步骤(5)中,所述物料a、戊二醛溶液的配量比为30-50g:100-120ml;所述戊二醛溶液的浓度为2.2-2.5mol/l;所述控温反应指的是于24-27℃反应4-10h;所述干燥指的是于60℃烘箱中干燥30-40min。

5.根据权利要求1所述的一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,步骤(6)中,所述纳米碳酸钙、去离子水、物料b的配量比为2-3g:150-200ml:1-1.5mol。

6.根据权利要求1所述的一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,步骤(7)中,所述改性聚氯乙烯、物料c、抗氧剂1076、叶蜡石、对苯二甲酸二辛酯的质量比为60-80:15-25:5-8:4-7:10-15。

7.根据权利要求1所述的一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,所述改性聚氯乙烯的制备包括以下步骤:将聚氯乙烯、双二五、马来酸酐、抗氧剂168、蓖麻油酸钙、己二酸二辛脂混合,于225-230℃挤出造粒,即得所述改性聚氯乙烯。

8.根据权利要求7所述的一种耐擦拭人造皮革的制备方法,其特征在于,所述聚氯乙烯、双二五、马来酸酐、抗氧剂168、蓖麻油酸钙、己二酸二辛脂的质量比为100:0.1-0.2:0.2-0.3:0.15-0.2:0.5-0.8:20-35。

9.一种如权利要求1-8任一项所述的制备方法制得的耐擦拭人造皮革。


技术总结
本发明公开了一种耐擦拭人造皮革及其制备方法,属于皮革材料技术领域。所述人造皮革的制备包括以下步骤:取聚乙烯醇、聚苯乙烯磺酸钠、去离子水混合,冷却脱泡,静电纺丝,制得物料A;取物料A置入盛有戊二醛溶液的玻璃气流烘干器中,控温反应,干燥,得物料B;取所述纳米碳酸钙、去离子水、物料B混合干燥,制得物料C;将改性聚氯乙烯、物料C、抗氧剂1076、叶蜡石混合研磨,与对苯二甲酸二辛酯混合研磨,得到糊料;上胶,涂布糊料,设基材,形成预制体;对所述预制体表面处理,压纹处理,裁切,包装,即得耐擦拭性能优良的人造皮革。

技术研发人员:石萍,傅国星,张明生
受保护的技术使用者:英德市宏利皮革有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/5/29
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