一种晶圆抛光装置的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆加工技术领域，尤其涉及一种晶圆抛光装置。


背景技术：

2.晶圆从大硅片上切割下来，以及晶圆的边角加工等，难免发生磕碰，导致晶圆表面有划痕，此外，大硅片也是未抛光的，这时就需要对晶圆的表面进行打磨抛光。通常打磨抛光方式有两种，一种是用抛光液打磨，这种方式速度快但是抛光度相对较差，另一种是水磨抛光，这种方式速度慢但是抛光度更好。


技术实现要素：

3.针对上述问题，本实用新型的目的在于提供一种晶圆抛光装置，能够结合抛光液打磨和水磨对晶圆进行抛光，速度快且抛光度好。
4.为达到上述目的，本实用新型公开了一种晶圆抛光装置，其包括旋转底座、设置在旋转底座上方的抛光盘、与抛光盘连接并用于升降抛光盘的升降机构以及分别与抛光盘连接的进水管和进液管，所述抛光盘上设有分别与进水管和进液管连接的若干通道，所述通道的出口位于抛光盘的底面；所述旋转底座上设有排液口以及用于放置晶圆的放置槽。
5.优选地，所述通道在抛光盘上圆周均布，且分别连通进水管和进液管的通道间隔设置。
6.优选地，所述抛光盘的底面上还设有与通道一一对应的溢流槽，所述溢流槽以抛光盘的中心呈放射状设置。
7.优选地，所述升降机构包括架设在旋转底座上方的架体以及固定的架体上的气缸或液压缸或电动螺杆。
8.优选地，所述放置槽内设有用于保护晶圆的保护层。
9.优选地，所述旋转底座包括旋转电机以及与旋转电机连接的游星轮，所述游星轮上设有第一载板和第二载板；所述游星轮上设有与第一载板配合的第一安装槽，第一载板的上端面高出游星轮的上端面；所述第一载板上设有与第二载板配合的第二安装槽，第二载板的上端面低于第一载板的上端面；所述第二安装槽的槽壁以及第二载板配合围成放置槽。
10.优选地，所述排液口的出口处还设有废液回收槽。
11.优选地，所述废液回收槽的数量为两组，分别用于回收废水和废抛光液；在所述排液口处设有分液机构，所述分液机构包括分液气缸以及与分液气缸连接的分液槽。
12.本实用新型具有以下有益效果：
13.1、本实用新型通过旋转底座放置并旋转晶圆，旋转的晶圆与贴合在其上的抛光盘摩擦进行抛光。本实用新型先通过进液管通抛光液进行粗打磨，再通过进水管通水进行精细打磨，结合了抛光液打磨和水磨的优势，晶圆抛光速度更快，抛光度更好。
14.2、圆周均布的通道以及放射状设置的溢流槽，可以使得抛光液或水可以快速均匀
的覆满晶圆的表面，利于打磨抛光。
15.3、通过替换第一载板和第二载板，可以使得本实用新型可以适配多种规格的晶圆抛光，实用性更强。
16.4、废液回收槽和分液机构的设置，将两种不同的废液分开，利于回收利用。
附图说明
17.图1为本实用新型的示意图。
18.图2为抛光盘底面的示意图。
19.图3为游星轮、第一载盘和第二载盘的示意图。
20.图4为游星轮、第一载盘和第二载盘分解的示意图
21.主要部件符号说明：
22.旋转底座10，游星轮11，第一安装槽111，第一载板12，第二安装槽121，第二载板13，排液口14；
23.抛光盘20，进水管21，进液管22，通道23，溢流槽24；
24.架体31，气缸32；
25.废液回收槽40；
26.分液气缸51；分液槽52。
具体实施方式
27.为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。
28.如图1～4所示，本实用新型公开了一种晶圆抛光装置，其包括旋转底座10、设置在旋转底座10上方的抛光盘20、与抛光盘20连接并用于升降抛光盘20的升降机构、用于废液分类的分液机构和废液回收槽40以及分别与抛光盘20连接的进水管21和进液管22。
29.在抛光盘20上设有分别与进水管21和进液管22连接的六组通道23，进水管21对应三组，进液管22对应三组，通道23的出口位于抛光盘20的底面。六组通道23在抛光盘20上圆周均布，且分别连通进水管21和进液管22的通道23间隔设置。此外，在抛光盘20的底面上还设有与通道23一一对应的溢流槽24，溢流槽24以抛光盘20的中心呈放射状设置。通道23和溢流槽24配合可以使得水或抛光液可以快速均匀的布施到晶圆的表面，利于打磨抛光。
30.升降机构包括架设在旋转底座10上方的架体31以及固定的架体31上的气缸32或液压缸或电动螺杆。
31.旋转底座10包括旋转电机(图中未示出)以及与旋转电机(图中未示出)连接的游星轮11，在游星轮11上设有第一载板12和第二载板13。在游星轮11上设有与第一载板12配合的第一安装槽111，第一载板12的上端面高出游星轮11的上端面。在第一载板12上设有与第二载板13配合的第二安装槽121，第二载板13的上端面低于第一载板12的上端面。第二安装槽121的槽壁以及第二载板13配合围成放置晶圆的放置槽，放置槽内设有用于保护晶圆的保护层(图中未示出)。替换第一载板12和第二载板13可以适配不同规格的晶圆。
32.在旋转底座10上设有排废液的排液口14，废液回收槽40设置在排液口14的出口处的下方，废液回收槽40的数量为两组，并排放置，分别用于回收废水和废抛光液。分液机构
同样设置在排液口14的出口处，其包括分液气缸51以及与分液气缸51连接的分液槽52。常态下，排液口14直通回收废抛光液的废液回收槽40，分液气缸51和分液槽52不干涉废液流入到该废液回收槽40中；在用水替换抛光液打磨抛光后，分液气缸51动作，使得分液槽52置于排液口14的下方，废水经分液槽52流入回收废水的废液回收槽40中。因为废抛光液未被废水稀释，经过简单的过滤后可以重复使用。
33.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种晶圆抛光装置，其特征在于：包括旋转底座、设置在旋转底座上方的抛光盘、与抛光盘连接并用于升降抛光盘的升降机构以及分别与抛光盘连接的进水管和进液管，所述抛光盘上设有分别与进水管和进液管连接的若干通道，所述通道的出口位于抛光盘的底面；所述旋转底座上设有排液口以及用于放置晶圆的放置槽。2.根据权利要求1所述的晶圆抛光装置，其特征在于：所述通道在抛光盘上圆周均布，且分别连通进水管和进液管的通道间隔设置。3.根据权利要求1所述的晶圆抛光装置，其特征在于：所述抛光盘的底面上还设有与通道一一对应的溢流槽，所述溢流槽以抛光盘的中心呈放射状设置。4.根据权利要求1所述的晶圆抛光装置，其特征在于：所述升降机构包括架设在旋转底座上方的架体以及固定的架体上的气缸或液压缸或电动螺杆。5.根据权利要求1所述的晶圆抛光装置，其特征在于：所述放置槽内设有用于保护晶圆的保护层。6.根据权利要求1所述的晶圆抛光装置，其特征在于：所述旋转底座包括旋转电机以及与旋转电机连接的游星轮，所述游星轮上设有第一载板和第二载板；所述游星轮上设有与第一载板配合的第一安装槽，第一载板的上端面高出游星轮的上端面；所述第一载板上设有与第二载板配合的第二安装槽，第二载板的上端面低于第一载板的上端面；所述第二安装槽的槽壁以及第二载板配合围成放置槽。7.根据权利要求1所述的晶圆抛光装置，其特征在于：所述排液口的出口处还设有废液回收槽。8.根据权利要求7所述的晶圆抛光装置，其特征在于：所述废液回收槽的数量为两组，分别用于回收废水和废抛光液；在所述排液口处设有分液机构，所述分液机构包括分液气缸以及与分液气缸连接的分液槽。

技术总结
本实用新型涉及一种晶圆抛光装置，其包括旋转底座、设置在旋转底座上方的抛光盘、与抛光盘连接并用于升降抛光盘的升降机构以及分别与抛光盘连接的进水管和进液管，所述抛光盘上设有分别与进水管和进液管连接的若干通道，所述通道的出口位于抛光盘的底面；所述旋转底座上设有排液口以及用于放置晶圆的放置槽。本实用新型通过旋转底座放置并旋转晶圆，旋转的晶圆与贴合在其上的抛光盘摩擦进行抛光。本实用新型先通过进液管通抛光液进行粗打磨，再通过进水管通水进行精细打磨，结合了抛光液打磨和水磨的优势，晶圆抛光速度更快，抛光度更好。抛光度更好。抛光度更好。


技术研发人员：陈峰 洪章源
受保护的技术使用者：厦门陆远科技有限公司
技术研发日：2021.05.25
技术公布日：2021/11/21