芯棒的加工方法、预制棒以及光纤与流程

专利检索2022-05-11  18



1.本发明涉及光纤预制棒领域,具体涉及芯棒的加工方法、预制棒以及光纤。


背景技术:

2.芯棒加工时,先通过vad工艺进行沉积反应,得到芯棒松散体,然后对芯棒松散体进行干燥和烧结得到芯棒。
3.现有加工芯棒松散体时,反应炉只能加工一根芯棒松散体,生产效率较低。


技术实现要素:

4.本发明针对上述问题,提出了芯棒的加工方法、预制棒以及光纤。
5.本发明采取的技术方案如下:
6.一种芯棒的加工方法,包括以下步骤:
7.1)在反应腔的中部设置排废管,排废管的侧壁设置通孔,通过隔板将反应炉的内部空间分隔成多个沉积区,各沉积区绕排废管间隔设置,每个沉积区均设置有两个反应喷灯;
8.2)将辅助棒与种棒熔接,辅助棒安装在旋转升降机构上;
9.3)控制各种棒下移至对应沉积区的下方,各沉积区的两个反应喷灯工作,进行沉积反应,沉积反应时,通过旋转升降机构控制种棒转动和上移,在种棒上沉积出芯棒松散体;
10.4)对芯棒松散体进行除水后烧结成芯棒。
11.本技术的加工方法,通过将排废管设置在反应腔的中部,各沉积区能够共用排废管;通过设置隔板能够有效降低相邻两个沉积区之间的影响;本技术能够在一个反应腔中沉积多根芯棒松散体,生产效率高。
12.于本发明其中一实施例中,所述步骤1)通过反应炉实施,所述反应炉包括:
13.中空的炉体,内部具有反应腔;
14.排废管,设置在所述反应腔的中部,排废管的侧壁具有通孔,排废管的一端用于与炉体外的管道连通,排出废料;
15.多块隔板,各隔板与排废管的外侧壁固定,绕排废管的轴线间隔分布,多块隔板将反应炉的内部空间分隔成多个沉积区;
16.多个喷灯组,所述喷灯组设置在炉体的侧壁,位于对应沉积区的下部,所述喷灯组包括两个反应喷灯。
17.于本发明其中一实施例中,所述炉体的顶部具有贯穿孔,所述贯穿孔与沉积区相连通,贯穿孔用于供芯棒松散体穿过。
18.于本发明其中一实施例中,所述反应炉还包括:
19.多个激光发射器,所述激光发射器固定在炉体的侧壁,用于发射水平激光;
20.激光接收架,位于所述排废管的中部;
21.多个激光接收器,固定在所述激光接收架上,绕激光接收架的轴线间隔分布,所述激光发射器与激光接收器一一对应配合,激光发射器的发射的激光通过排废管的通孔射向激光接收器。
22.激光发射器和激光接收器的工作原理:在进行沉积时,通过激光发射器向芯棒松散体的最下方发射激光,并被激光接收器接受,随着反应的进行,芯棒松散体向下沉积,最下方的芯棒松散体会遮挡或部分遮挡激光,当激光接收器接收到的激光强度减弱至设定范围时,需要控制芯棒松散体上移设定距离。
23.实际运用时,为了保护激光发射器,可以在炉体的侧壁设置玻璃,激光发射器位于沉积区外部,激光发射器发射的激光通过玻璃后进入沉积区。
24.于本发明其中一实施例中,所述激光发射器与反应喷灯错位设置。这样设置能够防止反应喷灯与激光发射器干涉。
25.于本发明其中一实施例中,所述炉体的侧壁具有与沉积区相对应的补风整流结构,所述补风整流结构用于在反应时向沉积区提供干净的空气。
26.于本发明其中一实施例中,所述反应炉还包括补气总管以及多根补气分管,所述补气分管的一端与补气总管连接,另一端与对应的补风整流结构连接。
27.于本发明其中一实施例中,所述补气总管的一端位于炉体外侧,另一端从排废管的中部穿过,所述激光接收架位于补气总管内,且激光接收器的接收端密封穿过补气总管的外侧壁。
28.沉积反应的温度高,激光接收器位于排废管内时,需要承受较高的温度。通过将激光接收架设置在补气总管内,将补气总管从排废管的中部穿过,这样不仅能够通过排废管的废料预热补气总管内的空气,补气总管内的空气流动也能够对激光接收架进行冷却,有效保护激光接收器。
29.本技术还公开了一种预制棒,在芯棒的外层沉积出预制棒松散体,对预制棒松散体进行烧结,得到预制棒,所述芯棒为上文所述的芯棒的加工方法制得的芯棒。
30.本技术还公开了一种光纤,通过上述所述的预制棒拉丝得到。
31.本发明的有益效果是:本技术的加工方法,通过将排废管设置在反应腔的中部,各沉积区能够共用排废管;通过设置隔板能够有效降低相邻两个沉积区之间的影响;本技术能够在一个反应腔中沉积多根芯棒松散体,生产效率高。
附图说明:
32.图1是反应炉的结构示意图;
33.图2是反应炉的另一角度的结构示意图;
34.图3是反应炉去掉下封板后的示意图;
35.图4是补风总管、激光接收架与排废管的示意图。
36.图中各附图标记为:
37.1、辅助棒;2、种棒;3、芯棒松散体;4、炉体;5、反应腔;6、排废管;7、通孔;8、管道;9、隔板;10、沉积区;11、反应喷灯;12、贯穿孔;13、激光发射器;14、激光接收架;15、激光接收器;16、补气总管;17、补气分管。
具体实施方式:
38.下面结合各附图,对本发明做详细描述。
39.如图1~4所示,一种芯棒的加工方法,包括以下步骤:
40.1)在反应腔5的中部设置排废管6,排废管6的侧壁设置通孔7,通过隔板9将反应炉的内部空间分隔成多个沉积区10,各沉积区10绕排废管6间隔设置,每个沉积区10均设置有两个反应喷灯11;
41.2)将辅助棒1与种棒2熔接,辅助棒1安装在旋转升降机构上;
42.3)控制各种棒2下移至对应沉积区10的下方,各沉积区10的两个反应喷灯11工作,进行沉积反应,沉积反应时,通过旋转升降机构控制种棒2转动和上移,在种棒2上沉积出芯棒松散体3;
43.4)对芯棒松散体3进行除水后烧结成芯棒。
44.本技术的加工方法,通过将排废管6设置在反应腔5的中部,各沉积区10能够共用排废管6;通过设置隔板9能够有效降低相邻两个沉积区10之间的影响;本技术能够在一个反应腔5中沉积多根芯棒松散体3,生产效率高。
45.如图1~4所示,于本实施例中,步骤1)通过反应炉实施,反应炉包括:
46.中空的炉体4,内部具有反应腔5;
47.排废管6,设置在反应腔5的中部,排废管6的侧壁具有通孔7,排废管6的一端用于与炉体4外的管道8连通,排出废料;
48.多块隔板9,各隔板9与排废管6的外侧壁固定,绕排废管6的轴线间隔分布,多块隔板9将反应炉的内部空间分隔成多个沉积区10;
49.多个喷灯组,喷灯组设置在炉体4的侧壁,位于对应沉积区10的下部,喷灯组包括两个反应喷灯11。
50.需要说明的是,通常情况下沉积区之间的气流会相互影响,本技术通过隔板的主要阻隔能够尽可能降低影响,另外实际操作时,可以通过调节各零部件的距离来进一步降低影响,使生产的芯棒松散体的质量满足要求。于其他实施例中,可以通过隔板将反应腔分隔成完全独立的沉积区,各沉积区之间不连通,各沉积区只共用排废管,此时可以更好的防止气流之间的相互影响。
51.如图1所示,于本实施例中,炉体4的顶部具有贯穿孔12,贯穿孔12与沉积区10相连通,贯穿孔12用于供芯棒松散体3穿过。
52.如图3和4所示,于本实施例中,反应炉还包括:
53.多个激光发射器13,激光发射器13固定在炉体4的侧壁,用于发射水平激光;
54.激光接收架14,位于排废管6的中部;
55.多个激光接收器15,固定在激光接收架14上,绕激光接收架14的轴线间隔分布,激光发射器13与激光接收器15一一对应配合,激光发射器13的发射的激光通过排废管6的通孔7射向激光接收器15。
56.激光发射器13和激光接收器15的工作原理:在进行沉积时,通过激光发射器13向芯棒松散体3的最下方发射激光,并被激光接收器15接受,随着反应的进行,芯棒松散体3向下沉积,最下方的芯棒松散体3会遮挡或部分遮挡激光,当激光接收器15接收到的激光强度减弱至设定范围时,需要控制芯棒松散体3上移设定距离。
57.实际运用时,为了保护激光发射器13,可以在炉体4的侧壁设置玻璃,激光发射器13位于沉积区10外部,激光发射器13发射的激光通过玻璃后进入沉积区10。
58.于本实施例中,激光发射器13与反应喷灯11错位设置。这样设置能够防止反应喷灯11与激光发射器13干涉。
59.于本实施例中,炉体4的侧壁具有与沉积区10相对应的补风整流结构(图中省略未示出),补风整流结构用于在反应时向沉积区10提供干净的空气。
60.所述2和3所示,于本实施例中,反应炉还包括补气总管16以及多根补气分管17,补气分管17的一端与补气总管16连接,另一端与对应的补风整流结构连接。
61.如图4所示,于本实施例中,补气总管16的一端位于炉体4外侧,另一端从排废管6的中部穿过,激光接收架14位于补气总管16内,且激光接收器15的接收端密封穿过补气总管16的外侧壁。
62.沉积反应的温度高,激光接收器15位于排废管6内时,需要承受较高的温度。通过将激光接收架14设置在补气总管16内,将补气总管16从排废管6的中部穿过,这样不仅能够通过排废管6的废料预热补气总管16内的空气,补气总管16内的空气流动也能够对激光接收架14进行冷却,有效保护激光接收器15。
63.本实施例还公开了一种预制棒,在芯棒的外层沉积出预制棒松散体,对预制棒松散体进行烧结,得到预制棒,芯棒为上文的芯棒的加工方法制得的芯棒。
64.本实施例还公开了一种光纤,通过上述的预制棒拉丝得到。
65.以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此即限制本发明的专利保护范围,凡是运用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的保护范围内。
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